基于双拥挤效应的低模板消耗安石榴林印迹方法

摘要

本发明涉及一种基于双拥挤效应的低模板消耗安石榴林印迹方法，该方法以聚苯乙烯、聚乙二醇为两种大分子拥挤试剂，以极少量的安石榴林为模板分子，在加入了两种拥挤试剂聚苯乙烯、聚乙二醇的四氢呋喃溶液以及甲苯所组成的混合致孔剂中，再加入功能单体、交联剂或引发剂，超声促进溶解并除去溶解在其中的氧气并引发反应，得到具有选择性的安石榴林印迹整体柱。本发明所述方法模板消耗量极少，极大地降低了安石榴林的印迹成本。在不锈钢柱管中成功合成了安石榴林印迹整体柱及其空白对照柱并进行色谱性能优化。结果表明，印迹因子最高可达3.14。该方法制备简单，且高分子聚合物耐用性好，为安石榴林的分离纯化提供了一种节约成本的方法。