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一种在铝箔上等离子喷涂高介电陶瓷膜层的方法

摘要

本发明公开了一种在铝箔上等离子喷涂高介电陶瓷膜层的方法,包括如下喷涂步骤:采用的铝箔作为基体材料,铝或铝合金材质铝纯度97%以上,箔层厚度为20~200μm,表面用砂纸打磨或喷砂至表面均匀粗化,再用酒精除油去污和超声波清洗;粉末为粒度在2~120μm的高介电常数陶瓷粉末,氮气为送粉载气,载气流量10~20L/min,送粉量20~50g/min,喷涂功率为80~95KW,等离子氩气为25~45L/min,氢气为4~10L/min,喷涂距离为50~150mm,基体预热温度为100~250℃。本发明具有生产效率高、成本低廉、工艺简单等优点。

著录项

  • 公开/公告号CN105714234A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-06-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 苏州优优电容器制造有限公司;

    申请/专利号CN201610060025.X

  • 发明设计人 郎树杰;

    申请日2016-01-27

  • 分类号C23C4/134(20160101);C23C4/10(20160101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 215000 江苏省苏州市工业园区湖岸花园21幢1601室

  • 入库时间 2023-12-18 15:41:19

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-05-07

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C23C4/134 申请公布日:20160629 申请日:20160127

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2017-11-07

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C4/134 申请日:20160127

    实质审查的生效

  • 2016-06-29

    公开

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