法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-06-07
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H01H33/662 申请公布日:20160302 申请日:20151202
发明专利申请公布后的驳回
2016-03-30
实质审查的生效 IPC(主分类):H01H33/662 申请日:20151202
实质审查的生效
2016-03-02
公开
公开
机译: 包括陶瓷本体和至少一个屏蔽元件的真空灭弧室以及制造该真空灭弧室的方法
机译: 控制用于真空灭弧室的Cu-Cr基接触材料和通过该方法制造的接触材料的微观结构的方法
机译: 控制用于真空灭弧室的Cu-Cr基接触材料和通过该方法制造的接触材料的微观结构的方法