用于制造包括设置有至少一个箔形部件的目标基底的产品的辊对辊装置和方法

摘要

本发明公开了一种辊对辊装置，其用于制造包括设置有至少一个箔形部件(CP)的目标基底(TS)的产品。所述辊对辊装置包括：传送体(10)，所述传送体具有圆筒形传送表面(14)，所述圆筒形传送表面设置有至少一个粘合区(16)的图案，与周围区(18)相比，所述至少一个粘合区对于对准液(LQ)具有相对较高的亲和力；液体施用设备(20)，所述液体施用设备用于将所述对准液(LQ)施用到所述圆筒形传送表面(14)上；基底供应设备(32、34)，所述基底供应设备用于供应所述基底(TS)；旋转设备(40)，所述旋转设备耦接至所述传送体(10)用以使所述圆筒形传送表面(14)绕所述圆筒形传送表面的旋转轴线(12)转动；部件施用设备(50)，所述部件施用设备用于将相应的箔形部件(CP)施用到所述至少一个粘合区(16)中的所述对准液(LQ)上；以及控制设备(70)，所述控制设备用于控制所述装置使得所述被施用的相应箔形部件(CP)在所述移置期间通过由所述对准液施加的毛细力对准至所述粘合区的同时移置至箔形部件面对所述基底(TS)的装配位置，并且所述控制设备用于引起所述装置使所述被对准的相应箔形部件与所述目标基底在所述装配位置中接触以便传送所述箔形部件到所述目标基底。

说明书

技术领域

本发明涉及一种用于制造包括设置有至少一个箔形部件的目标基地的产品 的辊对辊装置。

本发明还涉及一种用于制造包括设置有至少一个箔形部件的目标基地的产 品的方法。

背景技术

挠性产品的辊对辊制造具有好的发展。挠性金属薄片可以例如提供电子、 光学和光电功能。在辊对辊制造过程中，金属薄片可以沿若干站台(比如用于 对(结构化)层进行沉积的沉积站、用于例如通过对层进行固化和烘干以用于 对层进行处理的处理站台)引导。辊对辊制造系统还可以包括用于装配附加箔 形部件与金属薄片的装配站台。附加箔形部件可以为可以具有几平方毫米至几 平方厘米范围之间的尺寸的系统用箔片。这种附加箔形部件与移动的金属薄片 的装配是复杂的。

发明内容

本发明的目的是提供一种用于制造包括设置有至少一个部件的目标基底的 产品的经改进的辊对辊装置。

本发明的另一个目的是提供一种用于制造包括设置有至少一个部件的目标 基底的产品的经改进的辊对辊方法。

根据本发明的第一方面，提供了如权利要求1所述的辊对辊装置。

根据本发明的第二方面，提供了如权利要求11所述的辊对辊方法。

在根据本发明的装置和方法中，箔形部件与目标基底以两个步骤被装配。 在第一步骤中，箔形部件施用到传送体的圆筒形传送表面，在随后的步骤中， 箔形部件从圆筒形传送表面传送到目标基底。被发明人已发现的是，由对准液 施加的毛细力在箔形部件上出现的其它力中占优势。因此，虽然箔形部件被承 载在圆筒形传送表面上，箔形部件能够通过由对准液施加的毛细力对准至粘合 区。在对准状态下，箔形部件粘附至目标基底。在本发明的上下文中，表面被 认为是在液体与表面的接触角小于20°，优选地小于15°的情况下，例如10°， 对于液体具有相对较高的亲和力，以及在液体与表面的接触角大于100°，优 选地大于110°的情况下，例如大约120°，则具有相对较低的亲和力。对于在 高加工速度下能够同样可靠操作的情况而言，理想的是，液体与粘合区的接触 角比液体与周围区的接触角至少小90°。

通常，施用至基底的部件具有要与基底接触的活性侧以及部件藉其暂时施 用至圆筒形传送表面的粘合区的非活性侧。由于仅部件的非活性侧需要与对准 液接触，因此对准液的选择不是非常严格。即，水也适用作对准液，即使要施 用在基底上的箔形部件为电子部件的情况下亦能够如此。箔形部件的非活性侧 对于对准液需要具有充分高的亲和力。该要求然而容易满足。例如，通常使用 的未处理箔片比如PEN或PET适用于此目的。

根据使用的对准液而定，可以以各种方式实现要求的接触角。假使接触液 体是水的情况，可以例如使用硅表面或玻璃表面获得大约10°的相对较低接触 角。110°到120°范围内的相对较高接触角可以通过等离子体处理或通过对附 加的硅烷或氟SAM(自组合单层)的沉积获得。

附图说明

参照附图对本发明及其它方面进行更详细地描述。在附图中：

图1示意性示出根据本发明的第一方面的辊对辊装置的立体图，

图1A提供图1的装置的部分的平面化视图，

图1B示出根据图1A的B-B线截取的截面图，

图2A至图2E示出处于随后各操作状态下的根据本发明的辊对辊装置的第 一实施方式，出于清楚起见图2B至图2E略去图2A中一些可见细节；在这些 图中

图2A示出根据第一实施方式的辊对辊装置处于第一操作状态，

图2B示出根据第一实施方式的辊对辊装置处于第二操作状态，

图2C示出根据第一实施方式的辊对辊装置处于第三操作状态，

图2D示出根据第一实施方式的辊对辊装置处于第四操作状态，

图2E示出根据第一实施方式的辊对辊装置处于第五操作状态，

图3A至图3C示出处于随后各操作状态的根据本发明的辊对辊装置的第二 实施方式；在这些图中，

图3A示出根据第二实施方式的辊对辊装置处于第一操作状态，

图3B示出根据第二实施方式的辊对辊装置处于第二操作状态，

图3C示出根据第二实施方式的辊对辊装置处于第三操作状态，

图4示出根据本发明的辊对辊装置的第三实施方式，

图5示出根据本发明的辊对辊装置的第四实施方式，

图6示意性示出根据本发明的辊对辊装置的第五实施方式，

图7示意性示出根据本发明的辊对辊装置的第六实施方式。

具体实施方式

在以下详细描述中，为了对本发明提供彻底理解阐述了众多具体细节。然 而，对本领域技术人员而言要理解的是本发明可以在没有这些具体细节的情况 下实施。在其它示例中，未详细描述公知方法、过程和部件以避免混淆本发明。

文中使用的术语仅用于描述具体实施方式并不意在限制本发明。如文中使 用的，单数形式“一个(a)”、“一个(an)”和“该(the)”也旨在包括多数形 式，除非上下文以其它方式清楚指示。还要理解的是，术语“包括(comprises)” 和/或“包括有(comprising)”在说明书中使用时指定所陈述的特征、整体、步 骤、操作、元件和/或器件的存在，但不排除一个或多个其它特征、整体、步 骤、操作、元件、器件和/或其群组的存在或增加。

此外，除非明确进行相反的表述，“或”是指包含性的“或”而不是专用的 “或”。例如，通过以下任何一个满足条件A或B：A是真实的(或存在的) 且B是虚假的(或不存在的)，A是虚假的(或不存在的)且B是真实的(或 存在的)，以及A和B都是真实的(或存在的)。

下文参照示出本发明的实施方式的附图对本发明进行更全面的描述。然 而，可以以很多不同的形式实现本发明的实施方式，并且本发明的实施方式不 应该构建为对这里陈述的实施方式进行限制；而是，提供这些实施方式使得此 公开内容将是详尽以及完整的，并且将全面地向本领域的技术人员传达本发明 的范围。在附图中，为了清楚起见，附图中的层和区域的尺寸及相对尺寸可放 大。

应当理解，当元件或层被称为在另一元件或层“上面”、“连接到”或“耦 合到”另一元件或层时，其可以直接在另一元件或层上面、直接连接或耦合到 另一元件或层、或者也可存在插入元件或层。相反，当元件被称为“直接”在 另一元件或层“上”、“直接连接到”或“直接耦合到”另一元件或层时，不存 在插入元件或层。相同的附图标记始终指的是相同的元件。如这里所用用语“和 /或”包括一个或多个相关的所列出的事物的任何组合和所有组合。

虽然“第一”、“第二”、“第三”等术语在这里可用于描述各种元件、组件、 区域、层和/或部分，但是，这些元件、组件、区域、层和/或部分不应被这些术 语限制。这些术语只是用于将一个元件、组件、区域、层和/或部分与另一区域、 层或部分区分开。因此，在不背离本发明教导的情况下，可以将下面所述的第 一元件、组件、区域、层或部分称作第二元件、组件、区域、层或部分。

在此可使用诸如“在……之下”、“下面的”、“在……之上”、“上面的”等 的空间相对术语来描述如附图所示的一个元件或特征与另外的元件或特征的关 系。

应该理解的是，上述空间相对的术语意指涵盖处于使用或运行中的装置的 除了附图中所示取向之外的不同取向。例如，如果附图中的装置翻转，描述为 在其它元件或特征“之下”或“下面”的元件将被取向为在其它元件或特征“之 上”。因此，示例性术语“下方”可以包含上方和下方两种取向。

装置还可进行其它的取向(旋转90度或位于其它取向上)，并可相应地理 解这里所使用的空间相关的描述。

在这里，参照本发明的理想化实施方式(和中间结构)的示意图的截面图 说明了本发明的具体实施方式。就此而言，由于例如生产技术和/或公差，可预 计视图中的图形会存在变化。因此，本发明的实施方式不应视为限于本文所说 明的特定区域形状，而应包含(例如通常)因制造而产生的形状偏差。

除非作了限定，否则这里所使用的所有用语(包括技术术语和科学术语) 都具有与这些本发明所属领域中的普通技术人员所领悟的相同的含义。应进一 步了解的是，诸如在通常使用的词典中限定的术语等的术语应被解释为具有与 它们在相关领域的范围内的含义相一致的含义，不应以理想化的或过于形式的 认识来解释，除非在本说明书是明显地如此限定。本文提及的所有出版物和专 利申请、专利和其它参照文献通过引用整体合并在本文中。在出现冲突的情况 下，包括定义的专利说明书将作为标准。此外，所述材料、方法及实施方式都 只是旨在说明而并非用来限制本发明。

图1示意性示出根据本发明的第一方面的辊对辊装置的立体图，所述辊对 辊装置用于制造包括设置有至少一个箔形部件CP的目标基底的产品。图1示 出装置的四个连续操作状态S1至S4。进一步参照图2A至图2E，图2A至图 2E示出装置的四个状态的侧视图。

图1的装置包括传送体10，传送体10具有圆筒形传送表面14，圆筒形传 送表面14与所述旋转轴线12同轴。装置还包括液体施用设备，在该情况下， 为用于将对准液LQ沉积到圆筒形传送表面14上的沉积设备20。图1A提供圆 筒形传送表面14的平面图。在其中看到的是，圆筒形传送表面14设置有被周 围区18包围的至少一个粘合区16的图案。与对于对准液具有相对较低亲和力 的周围区18相比，粘合区16对于对准液具有相对较高的亲和力。不必要的是 液体LQ完全正形沉积到粘合区的区域。即使液体初始时不完全覆盖粘合区， 其趋于在沉降后紧在区域铺开。沉积在周围区中的对准液趋于收回到粘合区或 从表面掉落。

如在图2A至图2E中可以最佳看到，装置还具有用于供应基底TS的基底 供应设备32、34。在该情况下，基底供应设备包括供应辊32和存储辊34。

该装置还设置有部件施用设备50，部件施用设备50用于将箔形部件CP施 用至至少一个粘合区16中的对准液LQ上。在对准液LQ在粘合区的面积上没 有完全铺开的罕见情况下，部件的重量会引起对准液的铺开。

如在图2A中可以看到的是，装置还具有移动设备60，移动设备60用于在 粘合区16承载相应的箔形部件CP的情况下将传送体10与目标基底朝向彼此 移动。通常，移动设备60会将传送体10移动朝向目标基底TS。基底供应设备 32、34与传送体10同步，使得圆筒形传送表面14的切向速度对应于供应基底 TS的速度。

可以根据将基底供应设备32、34和旋转设备40以机械的方式耦接的严格 时钟机构实现同步(参见图2A)。替代性地是，基底供应设备32、34或者旋转 设备40中的一者可以受伺服机构控制以使其移动与另一者同步。这种伺服机构 例如可以使用光学检测工具，例如检测基底上的或圆筒形传送表面上的标记图 案。

如在图2A中进一步示出的，装置具有控制设备70，控制设备70用于例如 在装置的运行期间控制上述的设备10、20、32、34、50、60。控制设备使对准 液施用设备20施用对准液LQ到传送体10的圆筒形传送表面14上。控制设备 使箔形部件施用设备50施用相应箔形部件CP到圆筒形传送表面14的粘合区 中的对准液LQ上。控制设备使旋转设备40带动传送体10绕其轴线12转动使 得箔形部件CP移置到面对TS的装配位置。在转动期间，箔形部件CP通过由 对准液LQ施加的毛细力对准至粘合区。辊对辊装置从而被设置成用于使经对 准的箔形部件与目标基底在所述装配位置处接触以便传送箔形部件到目标基 底。

在所示的实施方式中，装置还具有移置设备80，移置设备80用于将对准 液施用设备20和部件施用设备50交替地定位在圆筒形传送表面14的上方的位 置。

在图2A中所示的操作状态下，移置设备将液体施用设备20定位在圆筒形 传送表面14上方，控制设备使沉积设备20沉积对准液LQ到传送体10的圆筒 形传送表面14上。随后，如图2B所示，部件施用设备50定位在圆筒形传送 表面14的上方，控制设备70使部件施用设备50施用相应箔形部件CP到至少 一个粘合区16中的对准液LQ上。在施用相应箔形部件CP后，控制设备70 使旋转设备40带动传送体10绕其轴线12转动。于是，箔形部件CP被移置到 面对目标基底TS的装配位置，如图2C中所示。控制设备随后引起移动设备60 使承载相应箔形部件CP的粘合区16与目标基底TS接触。由对准液(LQ)施 加的毛细力使箔形部件CP在被移置到所述装配位置时对准。辊对辊装置设置 成使经对准的相应箔形部件与目标基底在所述装配位置处接触以便传送箔形部 件到目标基底。为此目的，在该实施方式中，辊对辊装置设置成：辊对辊装置 设置有移动设备60，移动设备60用于在粘合区16承载箔形部件CP的情况下 将传送体和目标基底(TS)朝向彼此移动以便传送箔形部件到目标基底。该装 置控制成在在所述移动期间维持传送体10在固定旋转位置中并维持基底在相 对于移动横向的固定位置中直到箔形部件CP从传送体10传送到目标基底TS 为止。

再次参照图1、图1A、图1B和图2A至图2E，现描述根据本发明的第二 方面的方法的实施方式。

图1示出准备步骤S0的情况，其中，传送体10设置成具有旋转轴线12 和与旋转轴线同轴的圆筒形传送表面14。圆筒形传送表面14具有至少一个粘 合区16和周围区18的图案，至少一个粘合区16对于对准液具有相对较高的亲 和力，周围区18对于对准液具有相对较低的亲和力且包围粘合区16。

优选的对准液是水，但替代性地是，可以使用其它对准液，比如油、酒精。 同样液态金属例如汞或液态锡也可以用作对准液。

圆筒形传送表面14的制备取决于所使用对准液的选择而定。例如，如果对 准液为水，则至少一个粘合区应具有亲水特性，且周围区应具有斥水特性。例 如如果对准液为油，则至少一个粘合区应具有亲油特性，且周围区应具有抗油 特性。

能够是获得针对对准液的较高及较低亲和力的期望图案的各种选项。

根据一个选项，内层由具有相对较高亲和力的第一材料设置，具有相对较 低亲和力的第二材料的压花涂层施用在第一材料上。例如，第一材料可以选自 硅和玻璃中的一者，第二材料可以选自金属和聚四氟乙烯中的一者。第二材料 的压花涂层例如为绕第一材料的内层包覆的压花金属板。

替代性地是能够设置具有相对较低亲和力(例如，材料选自金属和聚四氟 乙烯中的一者)的材料的内层和图案与所述一个选项所使用的图案互补的涂层。

在如图1A的截面B-B的图1B中更详细的示出的具体实施方式中，传送体 10具有二氧化硅的第一表面层141，第一表面层141涂覆有金(Au)的压花表 面层142。金层142通过钛层143粘附至下置二氧化硅层。金层142和钛层143 随即正形露出部分的下置二氧化硅层。这些露出的部分形成对对准液具有较高 亲和力的粘合16，然而由金层142覆盖的周围区对对准液具有较低的亲和力。

图1B中所示的压花表面14通过在Si晶片上热生长的1μm厚度的SiO2 层上连续喷镀5纳米的Ti层和100nm的金层而获得。如此获得的堆叠层被旋 转涂覆正性光刻胶，正性光刻胶随后被压花并发展成限定粘合区16。随后，Au 和Ti通过湿法蚀刻从粘合区被移除，在剥去剩余的光刻胶被后，基底通过氧等 离子体被清洗。于是，氟化的自组合烷烃硫醇单层选择性地沉积在金表面上。

随后在步骤S1，同样参见图2A，大量的对准液LQ沉积在圆筒形传送表 面14上。在该情况下，用作对准液的水在露出的二氧化硅区16上形成(8°± 2°)的角度并在周围区18上形成(120°±3°)的接触角度。

优选地，对准液LQ特别沉积到粘合区16上。然而，由于对准液对粘合区 16比对周围区18的接触角显著较大，对准液趋于被周围区排斥而收回到粘合 区或从辊子掉落，因而这不严格要求。仍然，有利的是将对准液特别沉积到粘 合区16上，使得被粘合区16接收的对准液的量可以准确地受控制。

在下一个步骤S2，同样在图2B中示出，施用相应的箔形部件CP到至少 一个粘合区16处的对准液LQ上。一旦箔形部件CP被施用，由对准液施加的 毛细力引起箔形部件CP与粘合区16的自对准。

为了评估对准液的最佳厚度，沉积到粘合区16的对准液的量以25μm的 梯度从50至200μm有系统地变化。每个测量重复5次。发现的是，当使用过 多的水时，观察到箔形部件CP在对准液上倾斜。相反地，当使用太少的水时， 由于即使非常小的箔片的初始倾斜角消失，毛细力不能克服由箔片与无润滑基 底接触产生的摩擦力，因而不能获得准确的对准。具体地，80至125μm厚度 的对准液层给予最佳效果。

在供应基底TS的同时(步骤SX)，在步骤S3，圆筒形传送表面14绕旋转 轴线12转动直到承载相应箔形部件CP的至少一个粘合区如图2C所示面对基 底TS为止。

如在图2D中可以看到，在步骤S4中，传送体10在粘合区16承载相应箔 形部件CP的情况下朝向目标基底TS移动以使箔形部件CP与目标基底接触以 便从传送体10传送箔形部件到目标基底TS。在此移动期间，传送体10维持在 固定的旋转位置且基底维持在相对于移动横向的固定位置直到相应箔形部件 CP从传送体传送到目标基底为止。如果传送体10和目标基底TS再次移动离 开彼此且箔形部件CP保留在基底处，则认为箔形部件CP被传送。之后，可以 重新开始传送体10的转动和目标基底TS的传输。在实施方式中，当箔形部件 CP与目标基底TS接触时，传送体10保持压力抵接目标基底TS一段时间以便 结合部件CP与目标基底。

随后箔形部件CP例如使用施用至目标基底TS的粘合剂ADH粘附至目标 基底TS。替代性地是，粘合剂可以在面向目标基底的那一侧施用到箔形部件 CP。在另一个实施方式中，可以使用双组份粘合剂，其中第一份粘合剂组分施 用至箔形部件CP且第二份粘合剂组分施用至目标基底TS，使得粘合剂在箔形 部件CP与目标基底TS如图2D所示接触的时刻开始发生固化。

粘合剂以及施用粘合剂的方式可以为各种选项。在不需要以压花方式施用 粘合剂的情况下优选的是使用各向异性导电胶。在该情况下，简单涂覆方法例 如喷涂足以施用粘合剂。替代性地是，施用以压花方式被施用的各向同性导电 胶以避免电气短路。在该情况下，可以通过比如丝网印刷术的印刷方法施用粘 合剂。

由于传送体不能转动至下一个角度位置直到结合完成为止，这过程可能为 数分钟，因此，用于压力结合部件CP的传送体10的装置的实施方式会相对较 慢。参照图5描述克服此缺陷的替代性实施方式。

在图2E所示的随后步骤(S5)中，传送体从目标基底TS释放，从而留下 箔形部件CP粘附目标基底TS。目标基底TS可以随后传输到下一个位置，传 送体朝向图2A中所示的位置状态S1转动，以便实施下一个循环的制造过程。

图3A和图3B示出根据本发明的第一方面的装置的另一个实施方式。通过 示例的方式，传送体10具有四个粘合区16a、16b、16c、16d，四个粘合区16a、 16b、16c、16d相对于传送体10的轴线12以相互相差90°的Δα角梯度的取向 α布置在圆筒形传送表面14上。替代性地，例如45°或30°的其它角梯度。 在所示的示例中，沉积设备20和部件施用设备50同样以彼此相差所述Δα或 许多角梯度的取向α布置。图3A示出第一操作状态，其中，在该状态下，沉 积设备20正释放一滴要沉积到在传送体10的面向向上那一侧的粘合区16a的 对准液LQa。在传送体10的面向部件使用设备50的第二侧处的粘合区16b已 经在前一状态下供应一滴对准液LQb。

在图3B所示的随后操作状态中，部件施用设备50已经施用箔形部件CP4 到粘合区16b且对准液LQa的液滴沉积在粘合区16a上。

图3C示出另一个操作状态，其中传送体10已向下(即，朝向目标基底TS) 移动。随即，承载箔形部件CP3的粘合区16c与目标基底TS接触使得箔形部 件CP3从粘合区16c传送至目标基底TS。在此传送完成且传送体向上(返回其 初始位置)移动后，传送体10旋转角梯度Δα°且装置返回至图3A的操作状 态以开始新的循环。与后面循环之间的时间应足够长以允许箔形部件(此处 CP4)在被施用到对准液LQ上与在接触目标基底TS时之间的时间间隔通过由 对准液LQ施加的毛细力对准至粘合区。

同样在此实施方式中，传送体10在箔形部件CP与目标基底TS接触时维 持压力抵接目标基底TS一段时间以便结合部件CP与目标基底，这可能相对较 慢。参照图5描述克服此缺陷的替代性实施方式。

在上述的实施方式中，液体施用设备20至少在喷射液体的时刻布置在圆筒 形传送表面14的上方。以此方式，万有引力促进对准液LQ施用到圆筒形传送 表面14上。仍然，替代性的是，只要液体在压力下喷射，液体施用设备20能 够相对于圆筒形传送表面布置在其它位置处。

图4示出另一个实施方式，其中液体施用设备结合在传送体10内。液体施 用设备由微型管20a、20b、20c、20d形成，微型管20a、20b、20c、20d从传 送体10通向圆筒形传送表面14处的相应粘合区16a、16b、16c、16d。

图5示出根据本发明的辊对辊装置的第四实施方式。在图5的实施方式中， 辊对辊装置还包括压力结合设备90，压力结合设备90用于同时压力结合沿目 标基底TS的传输方向x施用的多个所述箔形部件CP。通过示例的方式，图5 所示的压力结合设备90能够同时压力结合5个所述箔形部件CP。在操作期间， 压力结合设备90的移动与辊对辊装置的其它设备10、32、34的移动同步。具 体地，在基底维持在固定位置处的时间间隔期间，压力结合设备90的板92、 94施加夹紧力以便结合箔形部件CP到目标基底TS。一旦箔形部件CP沿x方 向离开压力结合设备90，箔形部件CP已被N次夹紧至目标基底。在该情况下， N＝5(但可以选择任意值)以便在不阻挡装配过程的情况下确保部件CP牢固地 结合到目标基底。在该情况下，传送体10仅需要传送部件CP至目标基底。为 此目的，传送体10仅需要使部件与目标基底TS接触，没有必要传送体10施 加较大或长时间的压力。

任何一个前述的实施方式可以设置有参照图5描述的压力结合设备90。

图6示意性示出根据本发明的辊对辊装置的第五实施方式。在第五实施方 式中，辊对辊装置包括传送装置110。该传送装置可以包括在根据如参照图1 至图4描述的实施方式中。只要传送装置传送部件CP到目标基底TS就足够了。 在图5的实施方式中，设置了压力结合设备90。在该情况下，压力结合设备90 以分批的方式操作。在每个循环中，压力结合设备90接收一段长度的设置有沿 传输方向x布置的多个相应箔形部件CP的目标基底TS。图6的实施方式还 包括缓冲设备100，缓冲设备100用于将基底暂时容纳紧邻的多个相应箔形部 件CP直到紧邻的多个相应箔形部件CP可以被压力结合设备90接收为止。以 此方式，压力结合设备90可以连续不断地施加其夹紧力，使得在相同时间间隔 中有效夹紧时间越长。

图7示出根据本发明的辊对辊装置的第六实施方式。其中，传送体10的圆 筒形传送表面14维持距目标基底预定的距离D。该距离对应于相应箔形部件 CP的厚度。辊对辊装置还包括压力结合设备90。压力结合设备90布置成用于 同时压力结合沿目标基底TS的传输方向x施用的多个箔形部件CP。在该实施 方式中，传送体以基本恒定的速度连续不断地转动。由于传送体10的圆筒形传 送表面14维持在距目标基底TS预定的距离D处(其中该距离基本对应于箔形 部件的厚度)这样的事实，因此使得只要目标基底沿x方向以对应于箔形部件 CP的切向速度的速度移动，传送体10可以连续不断地转动。在这些情况下， 在箔形部件CP被传送到目标基底TS时，由对准液施加的力足够强大使箔形部 件CP维持在其对准状态。如在图6的实施方式中，辊对辊装置还包括缓冲设 备100。缓冲设备能够将基底暂时容纳紧邻的多个相应箔形部件CP直到紧邻的 多个相应箔形部件CP可以被压力结合设备90接收为止。随即，压力结合设备 90可以连续不断地施加夹紧力直到其中的多个相应箔形部件完全粘附至目标 基底为止。该实施方式还具有由传送装置110执行的传送过程可以以连续方式 处理的优点。另一个优点是，用于将传送体10和目标基底TS朝彼此移动的移 动设备是不必要的。假使要传送具有另一个厚度的箔形部件CP，却相应地需要 调节圆筒形传送表面与目标基底之间的距离。

就此而言，图1至图6的实施方式具有以下优点：其适用于只要部件不需 要被布置在目标基底的同一x位置处，既能在不用对装置进行调节的情况下传 送不同厚度的部件。总之，本发明公开了一种辊对辊装置，其用于制造包括设 置有至少一个箔形部件的目标基底的产品。所述装置包括：

传送体，所述传送体具有圆筒形传送表面，所述圆筒形传送表面设置有至 少一个粘合区的图案，与周围区相比，所述至少一个粘合区对于对准液具有相 对较高的亲和力，

液体施用设备，所述液体施用设备用于将所述对准液施用到所述圆筒形传 送表面上，

基底供应设备，所述基底供应设备用于供应所述基底，

旋转设备，所述旋转设备耦接至所述传送体用以使所述圆筒形传送表面绕 所述圆筒形传送表面的旋转轴线转动，

部件施用设备，所述部件施用设备用于将相应的箔形部件施用到所述至少 一个粘合区中的所述对准液上，

控制设备，所述控制设备用于控制所述装置使得所述被施用的相应箔形部 件CP移置至箔形部件面对所述基底TS的装配位置，同时在所述移置期间所述 被施用的相应箔形部件通过由所述对准液施加的毛细力对准至所述粘合区，并 且所述控制设备用于引起所述装置使所述被对准的相应箔形部件与所述目标基 底在所述装配位置接触以便传送所述箔形部件到所述目标基底。

在权利要求中，词“包括”不排除其它元件或步骤，不定冠词“一”不排 除多个。单个部件或其它单元可以实现权利要求所述的若干项的功能。在相互 不同权利要求中引用的某些手段的单一事实不表示不能有利的使用这些手段的 组合。权利要求中的附图标记不应理解为限制本发明的范围。