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一种新型无氰镀银电镀液及电镀工艺

摘要

本发明提供了一种新型无氰镀银电镀液及电镀工艺,其无氰镀银电镀液原料配方组分的质量浓度为:硝酸银1.5~4g/L,碳酸钾2~50g/L,海因2~100g/L,葡萄糖酸钾0.1~100g/L,苹果酸钾0.1~100g/L,柠檬酸0.1~150g/L,乙内酰脲0.1~280g/L,丁炔二醇0.1~280g/L,烷基磺酸类表面活性剂0.001~20g/L。其电镀工艺流程为:前处理→水洗→活化→水洗→预镀银→镀银→回收→水洗→调整处理→水洗→热水洗(80℃)→水洗→银保护剂处理。该新型镀银工艺的主要优点:一是镀液非常稳定,容易控制;镀液电流效率高,分散能力和覆盖能力好;二是镀液为无氰配方,消除了氰化物的潜在危险,大大降低对环境的污染;三是镀层的各项性能不低于氰化镀银,可彻底取代功能性的氰化镀银工艺。

著录项

  • 公开/公告号CN105088293A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2015-11-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 重庆立道表面技术有限公司;

    申请/专利号CN201510472183.1

  • 申请日2015-08-04

  • 分类号C25D3/46;C25D5/00;

  • 代理机构北京鸿元知识产权代理有限公司;

  • 代理人王玉芝

  • 地址 402284 重庆市江津区德感工业园

  • 入库时间 2023-12-18 12:21:18

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-12-12

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C25D3/46 申请公布日:20151125 申请日:20150804

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2015-12-23

    实质审查的生效 IPC(主分类):C25D3/46 申请日:20150804

    实质审查的生效

  • 2015-11-25

    公开

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