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离子束抛光离子源坐标位置标校系统和标校方法

摘要

本发明公开了一种离子束抛光离子源坐标位置标校系统和方法,属于精密光学技术领域。它包括离子源,还包括法拉第杯及杯安装座、信号放大器、PLC、计算机和运动系统安装在离子束抛光设备上,离子源安装在运动系统上,法拉第杯位于运动系统各个运动轴的行程范围内;法拉第杯依次与信号放大器、PLC、计算机电联接。本发明能快速有效的测量出离子源束流中心坐标位置相对于工件坐标的偏差,并在运控控制系统中进行补偿,有效的提升加工坐标的精确对准,从而提升离子束抛光精度;通过硬件和软件相结合的系统方法,采用X轴和Y轴的分步扫描方法,能实现X轴和Y轴的坐标偏差测量和补偿。

著录项

  • 公开/公告号CN105081926A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2015-11-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 成都森蓝光学仪器有限公司;

    申请/专利号CN201510529474.X

  • 发明设计人 施春燕;

    申请日2015-08-26

  • 分类号B24B13/00;B24B49/12;

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 610000 四川省成都市高新区孵化园一号楼A座5楼11附3号

  • 入库时间 2023-12-18 12:06:53

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-12-07

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):B24B13/00 申请公布日:20151125 申请日:20150826

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2015-12-23

    实质审查的生效 IPC(主分类):B24B13/00 申请日:20150826

    实质审查的生效

  • 2015-11-25

    公开

    公开

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