首页> 中国专利> 一种用于光学超分辨成像的可编程相位型光瞳滤波器

一种用于光学超分辨成像的可编程相位型光瞳滤波器

摘要

本发明涉及一种用于光学超分辨成像的可编程相位型光瞳滤波器,采用自适应光学系统中的波前校正器,利用其可以快速改变波前相位的特点,通过软件控制波前校正器产生所需的光瞳滤波器位相结构,并将其置于成像光学系统瞳面上实现超分辨成像。波前校正器产生的光瞳滤波器位相由波前传感器进行测量,测量结果输入计算机与设定的滤波器位相结构做对比,根据对比结果进一步修正波前校正器,重复这一过程,实现对光瞳滤波器位相结构的闭环拟合。滤波器位相结构可以通过编程任意改变,具有结构灵活多样、实现简单快速、成本低廉等优点。

著录项

  • 公开/公告号CN104865709A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2015-08-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院光电技术研究所;

    申请/专利号CN201510247030.7

  • 申请日2015-05-15

  • 分类号G02B27/58(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 610209 四川省成都市双流350信箱

  • 入库时间 2023-12-18 10:31:17

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-04-03

    授权

    授权

  • 2017-01-25

    著录事项变更 IPC(主分类):G02B27/58 变更前: 变更后: 申请日:20150515

    著录事项变更

  • 2017-01-25

    专利申请权的转移 IPC(主分类):G02B27/58 登记生效日:20170104 变更前: 变更后: 申请日:20150515

    专利申请权、专利权的转移

  • 2015-09-23

    实质审查的生效 IPC(主分类):G02B27/58 申请日:20150515

    实质审查的生效

  • 2015-08-26

    公开

    公开

说明书

技术领域

本发明涉及一种用于光学超分辨成像的可编程相位型光瞳滤波器,采用自适应光学 系统中的波前校正器,通过软件控制波前校正器产生所需的光瞳滤波器位相结构,并将 其置于成像光学系统瞳面上实现超分辨成像。滤波器位相结构可以通过编程任意改变, 具有结构灵活多样、实现简单快速、成本低廉等优点。

背景技术

分辨率是成像光学系统最重要的性能参数。1952年,Toraldo[G.Toraldo di Francia, Nuovo Cimento Suppl.9,426(1952).]将超分辨天线的概念引入光学领域,首次提出光 瞳超分辨成像的概念,他指出在系统的出瞳处加一块超分辨光瞳滤波器,可以在花费较 小、对系统不做较大改动的条件下,有效地提高系统的空间分辨率。光瞳滤波器以其对 光波波前改变的不同方式,主要分为振幅型滤波器[C.J.R.Sheppard,Z.S.Hegedus.Axial  behavior of pupil plane filters[J].J.Opt.Soc.Am.A,1998,5(5)]、相位型滤波器[Wang Wei, Zhou Changhe,Yu Junjie.Transverse superresolution and extended axial focal depth  realized by three-zone annular phase pupil filter[J].Acta Physica Sinica,2011],以及振幅 和相位均可改变的复振幅型滤波器[云茂金,刘立人,孙建峰等,复振幅光瞳滤波器的三 维超分辨性能研究[J].光学学报,2005,25]。

振幅型光瞳滤波器具有结构简单,制作方便,容错性好等优点,比较容易在光学系 统中实现,然而其能量利用率较低的缺点,大大限制了这类滤波器在成像系统中的应用。 相比之下,相位型和复振幅型滤波器具有能量利用率高、应用灵活等诸多优点,但制作 比较困难。

目前,相位型光瞳滤波器主要利用衍射光学技术来制作。首先采用标准的二元光学 加工工艺制作出光瞳滤波器掩模板,然后利用光刻技术经曝光与显影两个步骤将掩模板 图形转印到涂在基片表面的光刻胶上,最后利用刻蚀技术将光刻胶形成的图形转印到基 底上,基底材料一般为光学玻璃。随着二元光学制造技术的发展和日趋成熟,相位型光 瞳滤波器的制作变得比较简单。但是,采用二元光学技术加工的光瞳滤波器一旦制作成 型,超分辨性能随即确定,如果需要尝试不同的超分辨效果,则需制作不同的光瞳滤波 器,实现周期长、费用高。另外,由于光瞳滤波器不可避免的存在加工和装调误差,从 而降低超分辨的效果,这时难以通过修改滤波器结构进行优化补偿。

与上述研究不同,本发明提出采用自适应光学系统中的波前校正器,利用其可以快速 改变波前相位的特点,通过软件控制波前校正器产生所需的光瞳滤波器位相结构,并将其 置于成像光学系统瞳面上实现超分辨成像。滤波器位相结构可以通过编程任意改变,具有结 构灵活多样、实现简单快速、成本低廉等优点。

发明内容

本发明解决的技术问题是:提供一种用于光学超分辨成像的可编程相位型光瞳滤波 器,采用自适应光学系统中的波前校正器,通过计算机控制波前校正器产生所需的光瞳 滤波器位相结构,并将其置于成像光学系统瞳面上实现超分辨成像。

本发明的技术方案是:一种用于光学超分辨成像的可编程相位型光瞳滤波器,采用 自适应光学系统中的波前校正器,通过计算机控制波前校正器产生所需的光瞳滤波器位 相结构,并将其置于成像光学系统瞳面上实现超分辨成像。波前校正器产生的光瞳滤波 器位相由波前传感器进行测量,测量结果输入计算机与设定的滤波器位相结构进行对 比,根据对比结果进一步修正波前校正器,重复这一过程,实现对光瞳滤波器位相结构 的闭环拟合。

优选地,所述的波前校正器和波前传感器通过中继光学系统共轭放置,并与系统入 瞳共轭。

优选地,所述的波前校正器是从变形反射镜、液晶波前矫正器、微加工薄膜变形镜、 微机电变形镜、双压电陶瓷变形镜、液体变形镜中选择的。

优选地,所述的波前传感器是从基于微透镜阵列的哈特曼波前传感器、基于微棱镜 阵列的哈特曼波前传感器、曲率波前传感器、角锥波前传感器中选择的。

本发明与现有技术相比,首次提出采用波前校正器实现位相型光瞳滤波器,通过计 算机控制波前校正器产生所需的光瞳滤波器位相结构,并将其置于成像光学系统瞳面上 实现超分辨成像。滤波器位相结构可以通过编程任意改变,具有结构灵活多样、实现简 单快速、成本低廉等优点。

附图说明

图1是本发明的结构原理图;

图2是本发明的一种应用示例图。

具体实施方式

下面结合附图说明本发明的优选实施例,将使本发明的上述及其它目的、特征和优 点更加清楚。

为了清楚详细的阐述本发明的实现过程,下面将参照附图1对本发明的优选实施例 进行详细说明,在描述过程中省略了对于本发明不必要的细节和功能,以防止对本发明 的理解造成混淆。

图1为本发明的结构原理图。如图1所示,根据本发明的用于光学超分辨成像的可 编程相位型光瞳滤波器包括信标光源1、第一中继光学系统3、波前校正器4、第二中继 光学系统5、第一反射镜6,第二反射镜7、波前传感器8。波前校正器4通过第一中继 光学系统3与系统入瞳2光学共轭,波前校正器4通过第二中继光学系统5与波前传感 器8光学共轭。

信标光源1发出的平行光经第一中继光学系统3、波前校正器4、第二中继光学系 统5、第一反射镜后6,通过第二反射镜7到达波前传感器8,波前传感器8实时测量波 前校正器4的相位分布并将测量结果送至计算机9。计算机9根据测得的相位分布,并 与设定的滤波器位相结构进行对比,根据对比结果经计算机控制软件处理,得到波前校 正器的控制电压,经高压放大器10对所述控制电压进行放大后,驱动波前校正器4产 生相应变化,以闭环拟合需要的光瞳滤波器相位结构。光瞳滤波器的相位结构可以通过 软件任意设定。

波前校正器可从变形反射镜(Deformable reflective mirror)、液晶波前矫正器(Liquid  crystal wavefront corrector)、微加工薄膜变形镜(Micromachined membrane deformable  mirror)、微机电变形镜(Microelectromechanical(MEMS)deformable mirror)、双压电陶 瓷变形镜(Bimorph deformable mirror)、液体变形镜(Liquid deformable mirror)中选择。

波前传感器可从基于微透镜阵列的哈特曼波前传感器(Hartmann wavefront sensor)、 基于微棱镜阵列的哈特曼波前传感器(参见中国发明专利ZL03126431.X)、曲率波前传 感器(Curvature wavefront sensor)、角锥波前传感器(Pyramid wavefront sensor)中选择。

图2是本发明的一种应用示例图。如图2所示,将用于光学超分辨成像的可编程相 位型光瞳滤波器置于主动照明反射式光学成像系统中,在完成光瞳滤波器相位结构拟合 后,照明光源3发出成像照明光,经第一分光镜5、成像物镜2后照明物体1,其后向 散射光经成像物镜2、第一分光镜5、第一中继光学系统6、波前校正器7、第二中继光 学系统8、第一反射镜9、第二分光镜10、第二反射镜12、透镜13成像到成像相机14 上,实现对物体1的超分辨成像。

至此已经结合优选实施例对本发明进行了描述。应该理解,本领域技术人员在不脱 离本发明的精神和范围的情况下,可以进行各种其它的改变、替换和添加。因此,本发 明的范围不局限于上述特定实施例,而应由所附权利要求所限定。

去获取专利,查看全文>

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号