法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2014-11-05
授权
授权
2012-11-14
实质审查的生效 IPC(主分类):B41N1/08 申请日:20101222
实质审查的生效
2012-09-19
公开
公开
技术领域
本发明涉及平版印刷版用支撑体、平版印刷版用支撑体的制造方法、 以及平版印刷版原版。
背景技术
平版印刷法为利用水和油本质上不互混的印刷方式，在用于其的平版 印刷版的印刷版面中形成亲水且疏油性墨液的区域(以下将该区域称为 “非图像部”。)、和疏水亲油性墨液的区域(以下将该区域称为“图像部”。)。
用于平版印刷版中的平板印刷版用铝支撑体(以下简称为“平版印刷 版用支撑体”)以在其表面上携带非图像部这样的方式使用，因此其必须具 有许多相反的性质：一方面具有优异的亲水性和保水性，另一方面具有与 设置在其上的图像记录层的优异的粘附性。如果支撑体的亲水性太低，则 在印刷时墨液很可能附着于非图像部，导致橡皮滚筒(blanket cylinder)污 染，从而产生所谓的糊版(scumming)。另外，如果支撑体的保水性太低， 则在暗调部分产生堵塞，除非在印刷时增加润版液的量。因此，所谓的水 裕度变窄。
为获得这些性能良好的平版印刷版用支撑体已经进行了各种研究。例 如，专利文献1公开了一种如下制造平版印刷版用支撑体的方法：在将粗 糙化的铝板表面进行阳极氧化处理作为第一步骤后，和在比第一步骤中的 阳极氧化覆膜的微孔的孔径减小的条件下再进行阳极氧化处理作为第二 步骤，由此制造。其记载了使用该平版印刷版用支撑体获得的平版印刷版 可以在不使脱墨能力劣化的情况下，提高与光敏层的粘附性，不会导致高 光部脱离，耐刷性优异。
另一方面，印刷时，有时会使印刷暂停。在这样的情况下，平版印刷 版以被安装在印版滚筒上的状态放置，并且其非图像部受大气中污染物的 影响等而发生污染。因此，当使印刷暂停再启动后时，产生印刷多张纸张 直至可进行正常的印刷的需要，从而导致印刷用纸的浪费等不良状况。已 表明这些不良状况在含有盐酸的酸性溶液中经过实施电化学表面粗化的 平版印刷版中非常明显地发生。另外，在以下说明中，将当使印刷暂停再 启动时所发生的耗费的纸张数用于评价暂停印刷后的脱墨能力，并且当损 失纸张数小时，暂停印刷的脱墨能力评为“良好”。
另外，已经对近年来取得了重大进展的计算机直接制版(CTP)系统进 行了大量研究。其中，将进一步的工序合理化和废液处理问题的解决作为 目标，而需要可以在曝光后不用显影而直接安装在印刷机上进行印刷的平 版印刷版原版。
用于取消处理工序的方法之一有被称为机上显影的如下方法：将已曝 光的平版印刷版原版安装在印刷机的印版滚筒上，并且使印版滚筒旋转的 同时供应润版液和墨液，由此除去平版印刷版原版的非图像部。即，其是 如下所述的方式：使平版印刷版原版曝光，然后将曝光后的平版印刷版原 版直接安装在印刷机上，在普通印刷工艺中完成显影处理。适合在这样的 机上显影中应用的平版印刷版原版，其需要具有可溶于润版液或墨液溶剂 的图像记录层，并且需要具有适合在置于光室内的印刷机上显影的光室处 理性能。另外，在以下说明中，使用达到如下状态所需的印刷用纸的张数 来评价机上显影性，当损失的张数小时，机上先硬性评为“良好”，所述状 态为在未曝光部的印刷机上使机上显影完成，并且没有墨液转印到非图像 部的状态。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开平11-291657号公报
发明内容
发明要解决的问题
本发明者们对使用专利文献1中具体的记载的平版印刷版用支撑体 而得到的平版印刷版及平版印刷用原版的各性能进行研究，结果发现：暂 停印刷的脱墨能力和耐刷性、或机上显影性和耐刷性存在平衡的关系，无 法兼顾这两者，实用上未必能够满足。进而，还发现即便对于平版印刷版 用支撑体的耐划伤性也有改良的必要。
因此，本发明鉴于以上情况，其目的在于提供耐划伤性优异的平版印 刷版用支撑体、平版印刷版用支撑体的制造方法、及平版印刷版原版，所 述平版印刷版用支撑体能够得到制成平版印刷版时暂停印刷的脱墨能力 及耐刷性优异、且显示优异的机上显影性的平版印刷版用原版。
用于解决问题的手段
本发明人等为达成上述目的进行精心研究，结果发现通过控制阳极氧 化覆膜中的微孔的形状，能够解决上述问题。
即，本发明提供以下的(1)～(10)。
(1)一种平版印刷版用支撑体，其特征在于，其具有铝板、和在该 铝板上的铝的阳极氧化覆膜，且在该阳极氧化覆膜中具有与从该铝板的相 反侧的表面向深度方向延伸的微孔，
该微孔由从阳极氧化覆膜表面延伸至深度5～60nm(深度A)的位置的 大直径孔部、和与该大直径孔部的底部连通且从连通位置延伸至深度 900～2000nm的位置的小直径孔部构成，
大直径孔部的阳极氧化覆膜表面的平均直径为10～60nm，该平均直 径和深度A满足(深度A/平均直径)＝0.1～4.0的关系，
小直径孔部的该连通位置的平均直径为大于0且不足20nm，
该大直径孔部的平均直径与该小直径孔部的平均直径之比(小直径孔 部径/大直径孔部径)为0.85以下。
(2)如(1)所述的平版印刷版用支撑体，其中，上述大直径孔部的平均 直径为10～50nm。
(3)如(1)或(2)所述的平版印刷版用支撑体，其中，上述深度A为10～ 50nm。
(4)如(1)～(3)中任一项所述的平版印刷版用支撑体，其中，上述(深 度A/平均直径)的值为0.30以上且不足3.0。
(5)如(1)～(4)中任一项所述的平版印刷版用支撑体，其中，上述微孔 的密度为100～3000个/μm2。
(6)一种平版印刷版用支撑体的制造方法，其为制造(1)～(5)中任一项 所述的平版印刷版用支撑体的方法，其具备如下工序：
对铝板进行阳极氧化的第一阳极氧化处理工序，
使具有上述第一阳极氧化处理工序中得到的阳极氧化覆膜的铝板与 酸水溶液或碱水溶液接触，并使该阳极氧化覆膜中的微孔的直径扩大的扩 孔处理工序，以及
对上述扩孔处理工序得到的铝板进行阳极氧化的第二阳极氧化处理 工序。
(7)如(6)所述的平版印刷版用支撑体的制造方法，其中，上述第一 阳极氧化处理工序中得到的阳极氧化覆膜的厚度(覆膜厚度1)、和上述第 二阳极氧化处理工序中得到的阳极氧化覆膜的厚度(覆膜厚度2)之比(覆 膜厚度1/覆膜厚度2)为0.01～0.15。
(8)如(6)或(7)所述的平版印刷版用支撑体的制造方法，其中，上述第 二阳极氧化处理工序中得到的阳极氧化覆膜的厚度为900～2000nm。
(9)一种平版印刷版原版，其特征在于，其在(1)～(5)中任一项所述 的平版印刷版用支撑体上具有图像记录层。
(10)如(9)所述的平版印刷版原版，上述图像记录层为通过曝光形成 图像，且非曝光部可通过印刷墨液和/或润版液(fountain solution)除去 的图像记录层。
发明效果
根据本发明，可以提供能够得到暂停印刷的脱墨能力、耐刷性优异的 平版印刷版的耐划伤性优异的平版印刷版用支撑体及其制造方法、以及使 用了其的平版印刷版原版。
另外，机上显影型的平版印刷版中，能够维持机上显影性，同时提高 耐刷性。
附图说明
图1为本发明的平版印刷版用支撑体的一实施方式的示意性剖面图。
图2为按工序顺序示出本发明的平版印刷版用支撑体的制造方法的 基板及阳极氧化覆膜的示意性剖面图。
图3为表示本发明的平版印刷版用支撑体的制造方法中的用于电化 学表面粗化处理的交变波形电流波形图的一例图。
图4为表示本发明的平版印刷版用支撑体的制造方法中的使用交流 的电化学表面粗化处理中的径向池的一例的侧视图。
图5为表示本发明的平版印刷版用支撑体的制作中的用于机械表面 粗化处理的刷拭磨版的工序的侧视图。
图6为本发明的平版印刷版用支撑体的制作中的用于阳极氧化处理 的阳极氧化处理装置的概略图。
具体实施方式
以下对本发明的平版印刷版用支撑体、及其制造方法进行说明。
本发明的平版印刷版用支撑体包括铝板和在该铝板上形成的阳极氧 化覆膜，阳极氧化覆膜中的微孔具有平均直径较大的大直径孔部和平均直 径较小的小直径孔部沿着深度方向(覆膜的厚度方向)连结构成的形状。特 别是在本发明中，通过控制微孔中的平均直径较大的大直径孔部的深度， 可以更高水平兼顾被称为平衡关系的暂停印刷的脱墨能力和耐刷性、或机 上显影性和耐刷性的关系。
图1为本发明的平版印刷版用支撑体的一实施方式的示意性剖面图。
该图所示的平版印刷版用支撑体10具有将铝板12和铝的阳极氧化覆 膜14按顺序层叠而成的层叠结构。阳极氧化覆膜14具有由其表面朝向铝 板12侧延伸的微孔16，微孔16由大直径孔部18和小直径孔部20构成。
首先，对铝板12及阳极氧化覆膜14进行详述。
<铝板>
用于本发明的铝板12(铝支撑体)为尺寸稳定的以铝为主要成分的金 属，由铝或铝合金构成。除了纯铝板之外，还可以从含有以铝为主要成分 且包含微量的杂元素的合金板、或铝(合金)被层压或者蒸镀后的塑料薄 膜、或铝(合金)被层压或者蒸镀后的纸中选择。进而，也可以是如日本 特公昭48-18327号公报记载的那样在聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜上结合 铝片而成的复合体片。
在以下的说明中，将由上述举出的铝或铝合金构成的板总称为铝板 12。上述铝合金中所含的杂元素有硅、铁、锰、铜、镁、铬、锌、铋、镍、 钛等，合金中的杂元素的含量为10质量％以下。本发明中，纯铝板虽是 优选，但完全纯粹的铝在这冶炼技术上制造困难，所以可以是稍微含有杂 元素的铝板。这样一来，应用于本发明的铝板12其组成没有限定，可以 适当利用以往公知公用的素材的铝板、例如JISA1050、JISA1100、 JISA3103、JISA3005等。
另外，用于本发明的铝板12通常边以网状连续移动边处理，其宽度 为400mm～2000mm左右、厚度约为0.1mm～0.6mm左右。该宽度、厚 度可以通过印刷机的尺寸、印刷版的大小及用户的要求而适当改变。
可以对铝板适当实施后述的基板表面处理。
<阳极氧化覆膜>
阳极氧化覆膜14是指如下的阳极氧化铝覆膜：通常通过阳极氧化处 理在铝板12的表面制作、且具有与覆膜表面垂直的各自均匀分布的极微 细的微孔16。该微孔16从与铝板12相反侧的阳极氧化覆膜表面沿厚度 方向(铝板12侧)延伸。
阳极氧化覆膜14中的微孔16由从阳极氧化覆膜表面延伸至深度5～ 60nm(深度A：参照图1)的位置的大直径孔部18、和与该大直径孔部18 的底部连通、且从连通位置进一步延伸至深度900～2000nm的位置的小 直径孔部20构成。
以下对大直径孔部18和小直径孔部20进行详述。
(大直径孔部)
大直径孔部18的阳极氧化覆膜表面中的平均直径(平均开口直径)为 10～60nm。若为该范围，则可实现使用该平版印刷版用支撑体得到的平 版印刷版的优异的耐刷性、暂停印刷的脱墨能力、及实现使用该支撑体得 到的平版印刷版原版的优异的机上显影性。从使用该平版印刷版用支撑体 得到的平版印刷版的耐刷性更优异的观点出发，平均直径优选为10～ 50nm，更优选为15～50nm，进一步优选为20～50nm。
在平均直径不足10nm的情况下，无法得到充分的锚固效果，且无法 得到平版印刷版的耐刷性提高。另外，平均直径超过60nm的情况下，会 破坏表面粗化的砂目，无法得到耐刷性或暂停印刷的脱墨能力等各种性能 的提高。
大直径孔部18的平均直径为，用倍率15万倍的FE-SEM对阳极氧 化覆膜14表面观察N＝4张，在得到的4张图像中，测定存在于400×600nm2 的范围的微孔(大直径孔部)的直径，取其平均的值。
需要说明的是，大直径孔部18的形状不是圆形的情况，使用圆当量 直径。“圆当量直径”是指将开口部的形状假定为与开口部的投影面积具 有相同投影面积的圆时的该圆的直径。
大直径孔部18的底部位于距阳极氧化覆膜表面的深度5～60nm(以后 也称为深度A)。也就是说，大直径孔部18为从阳极氧化覆膜表面向深度 方向(厚度方向)延伸5～60nm的孔部。从使用该平版印刷版用支撑体得 到的平版印刷版的耐刷性、暂停印刷的脱墨能力、及使用该支撑体得到的 平版印刷版原版的机上显影性更优异的观点出发，深度优选为10～50nm。
深度不足5nm的情况下，无法得到充分的锚固效果，且无法得到平 版印刷版的耐刷性提高。深度超过60nm的情况下，平版印刷版的暂停印 刷的脱墨能力和平版印刷版原版的机上显影性劣化。
需要说明的是，上述深度为拍摄阳极氧化覆膜14的剖面的照片(15 万倍)，测定25个以上的大直径孔部的深度，取其平均的值。
大直径孔部18的平均直径与位于其底部的深度A的关系(深度A/平 均直径)满足0.1～4.0的关系。从使用该平版印刷版用支撑体得到的平版 印刷版的耐刷性、暂停印刷的脱墨能力、及使用该支撑体得到的平版印刷 版原版的机上显影性更优异的观点出发，(深度A/平均直径)优选为0.3以 上且不足3.0，更优选为0.3以上且不足2.5。
(深度A/平均直径)不足0.1的情况下，无法得到平版印刷版的耐刷 性提高。(深度A/平均直径)超过4.0的情况下，平版印刷版的暂停印刷的 脱墨能力和平版印刷版原版的机上显影性劣化。
大直径孔部18的形状没有特别限定，可举出大致直管状(大致圆柱 状)、朝深度方向(厚度方向)直径变小的圆锥状等，优选大致直管状。另外， 大直径孔部18的底部的形状没有特别限定，可以是曲面状(凸状)，也可 以是平面状。
大直径孔部18的内径没有特别限定，通常为与开口部的直径相同程 度的大小或或小于开口部的直径。需要说明的是，大直径孔部18的内径 通常与开口部的直径相比，可以具有1～10nm左右的差值。
(小直径孔部)
如图1所示，小直径孔部20为与大直径孔部18的底部连通，且从连 通位置进一步延伸到深度方向(厚度方向)的孔部。一个小直径孔部20通 常与一个大直径孔部18连通，但2个以上的小直径孔部20也可以与一个 大直径孔部18的底部连通。
小直径孔部20的连通位置中的平均直径为大于0且不足20nm。从 暂停印刷的脱墨能力、机上显影性的观点出发，平均直径优选为15nm以 下，更优选为13nm以下，特别优选为5～10nm。
平均直径为20nm以上的情况下，使用本发明的平版印刷版用支撑体 的平版印刷版的暂停印刷的脱墨能力、平版印刷版原版的机上显影性劣 化。
小直径孔部20的平均直径为用倍率15万倍的FE-SEM对阳极氧化 覆膜14表面观察N＝4张，在得到的4张图像中，测定存在于400×600nm2的范围的微孔(小直径孔部)的直径，取其平均的值。需要说明的是，大直 径孔部的深度深时，可以根据需要，对阳极氧化覆膜14上部(有大直径孔 部的区域)进行切削(例如利用氩气切削)，然后用上述FE-SEM对阳极氧 化覆膜14表面进行观察，求出小直径孔部的平均直径。
需要说明的是，小直径孔部20的形状不是圆形的情况下，使用圆当 量直径。“圆当量直径”是指将开口部的形状假定为与开口部的投影面积具 有相同投影面积的圆时的该圆的直径。
小直径孔部20的底部位于从与上述的大直径孔部18的连通位置(相 当于上述的深度A)进一步沿深度方向延伸900～2000nm的部位。换言之， 小直径孔部20是从与上述大直径孔部18的连通位置进一步延伸至深度方 向(厚度方向)的孔部，小直径孔部20的长度为900～2000nm。从平版印 刷版用支撑体的耐划伤性的观点出发，底部优选位于从连通位置延伸 900～1500nm的位置。
深度不足900nm的情况下，平版印刷版用支撑体的耐划伤性劣化。 深度超过2000nm的情况下，处理时间长，生产率及经济性差。
需要说明的是，上述深度为拍摄阳极氧化覆膜14的剖面的照片(5万 倍)，测定25个以上的小直径孔部的深度，取其平均的值。
小直径孔部20的连通位置中的平均直径与大直径孔部18的阳极氧化 覆膜表面中的平均直径之比(小直径孔部径/大直径孔部径)为0.85以下。 作为该比的下限超过0，优选为0.02～0.85，更优选为0.1～0.70。如果为 上述范围内，则耐刷性、暂停印刷的脱墨能力、及机上显影性更优异。
若平均直径之比超过0.85，则从不能兼顾耐刷性与暂停印刷污染性/ 机上显影性方面考虑，是差的。
小直径孔部20的形状没有特别限定，可举出大致直管状(大致圆柱 状)、朝着深度方向直径变小的圆锥状等，优选为大致直管状。另外，小 直径孔部20的底部的形状没有特别限定，可以是曲面状(凸状)，也可以 是平面状。
小直径孔部20的内径没有特别限定，通常为与连通位置中的直径相 同程度的大小、或可以比该径小也可以比该直径大。需要说明的是，小直 径孔部20的内径通常与开口部的直径相比可以具有1～10nm左右的差 值。
阳极氧化覆膜14中的微孔16的密度没有特别限定，从得到的平版印 刷版的耐刷性及暂停印刷的脱墨能力、以及平版印刷版原版的机上显影性 优异的观点出发，优选为50～4000个/μm2，更优选为100～3000个/μm2。
阳极氧化覆膜14的覆膜量没有特别限定，从平版印刷版用支撑体的 耐划伤性优异的观点出发，优选为2.3～5.5g/m2，更优选为2.3～4.0g/m2。
需要说明的是，上述的平版印刷版用支撑体的表面可以设置后述的图 像记录层，作为平版印刷用原版使用。
<平版印刷版用支撑体的制造方法>
以下对本发明的平版印刷版用支撑体的制造方法进行说明。
本发明的平版印刷版用支撑体的制造方法没有特别限定，优选按照以 下的工序实施的制造方法。
(表面粗化处理工序)对铝板实施表面粗化处理的工序
(第一阳极氧化处理工序)对表面粗化处理后的铝板进行阳极氧化的 工序
(扩孔处理工序)使第一阳极氧化处理工序中得到的具有阳极氧化覆 膜的铝板与酸水溶液或碱水溶液接触，并使该阳极氧化覆膜中的微孔的直 径扩大的工序
(第二阳极氧化处理工序)对扩孔处理工序得到的铝板进行阳极氧化 的工序
(亲水化处理工序)对第二阳极氧化处理工序中得到的铝板实施亲水 化处理的工序
以下对上述各工序进行详述。需要说明的是，表面粗化处理工序及亲 水化处理工序在发明的效果上，如果不需要也可以不实施。另外，图2 表示按照从第一阳极氧化处理工序到第二阳极氧化处理工序的顺序示出 的基板及阳极氧化覆膜的示意性剖面图。
<表面粗化处理工序>
表面粗化处理工序是对上述的铝板的表面实施含有电化学表面粗化 处理的表面粗化处理的工序。该工序虽然优选在后述的第一阳极氧化处理 工序前实施，但铝板的表面如果已经具有优选的表面形状，则尤其是可以 不实施。
表面粗化处理可以仅实施电化学表面粗化处理，但也可以组合实施电 化学表面粗化处理与机械的表面粗化处理和/或化学的表面粗化处理。
组合机械的表面粗化处理与电化学表面粗化处理的情况下，优选在机 械的表面粗化处理后，实施电化学表面粗化处理。
本发明中，电化学表面粗化处理优选在硝酸或盐酸的水溶液中实施。
机械的表面粗化处理通常以铝板的表面为表面粗糙度Ra：0.35～ 1.0μm的目标来实施。
本发明中，机械的表面粗化处理的各条件没有特别限定，例如可以按 照日本特公昭50-40047号公报记载的方法实施。机械的表面粗化处理可 以通过使用浮石悬浊液的刷拭磨版处理实施、或者以转印方式实施。
另外，化学的表面粗化处理也没有特别限定，可以按照公知的方法实 施。
在机械的表面粗化处理后，优选实施以下的化学蚀刻处理。
在机械的表面粗化处理后实施的化学蚀刻处理是为了使铝板的表面 的凹凸形状的边缘部分平滑、且防止印刷时的墨液的泼溅，提高平版印刷 版的耐汚性，同时除去表面残留的研磨材粒子等不需要物而实施的。
作为化学蚀刻处理，虽然已知有基于酸的蚀刻或基于碱的蚀刻，但从 蚀刻效率的观点出发，作为特别优异的方法，可举出使用碱溶液的化学蚀 刻处理(以下也称为“碱蚀刻处理”。)。
用于碱溶液的碱剂没有特别限定，可优选举出例如苛性钠、苛性钾、 偏硅酸钠、碳酸钠、铝酸钠、葡糖酸钠等。
另外，各碱剂可以含有铝离子。碱溶液的浓度优选为0.01质量％以 上，更优选为3质量％以上，另外，优选为30质量％以下，更优选为25 质量％以下。
进而，碱溶液的温度优选为室温以上，更优选为30℃以上，优选为 80℃以下，更优选为75℃以下。
蚀刻量优选为0.1g/m2以上，更优选为1g/m2以上，另外，优选为20g/m2以下，更优选为10g/m2以下。
另外，处理时间对应于蚀刻量优选为2秒～5分钟，从生产率提高的 观点出发，更优选为2～10秒。
本发明中，在机械的表面粗化处理后实施碱蚀刻处理的情况下，为了 除去通过碱蚀刻处理产生的产物，而优选使用低温的酸性溶液实施化学蚀 刻处理(以下也称为“去污(desmutting)处理”。)。
用于酸性溶液的酸没有特别限定，可举出例如硫酸、硝酸、盐酸。酸 性溶液的浓度优选为1～50质量％。另外，酸性溶液的温度优选为20～ 80℃。若酸性溶液的浓度及温度为该范围，则使用本发明的平版印刷版用 支撑体的平版印刷版的耐泡状污染性进一步提高。
本发明中，上述表面粗化处理虽然为在根据需要实施机械的表面粗化 处理及化学蚀刻处理后实施电化学表面粗化处理的处理，但在不进行机械 的表面粗化处理而实施电化学表面粗化处理时，也可以在电化学表面粗化 处理前使用苛性钠等碱水溶液实施化学蚀刻处理。由此，可以除去存在于 铝板的表面附近的杂质等。
电化学表面粗化处理由于对铝板的表面赋予微细的凹凸(凹痕)是容 易的，所以适于制作印刷性优异的平版印刷版。
电化学表面粗化处理在以硝酸或盐酸为主体的水溶液中使用电或交 流电进行。
另外，在电化学表面粗化处理后，优选进行以下的化学蚀刻处理。在 电化学表面粗化处理后的铝板的表面存在有污物、金属间化合物。电化学 表面粗化处理后进行的化学蚀刻处理中，特别是为了有效除去污物，首先 优选使用碱溶液进行化学蚀刻处理(碱蚀刻处理)。使用碱溶液的化学蚀刻 处理的各条件优选处理温度为20～80℃，另外，处理时间优选为1～60 秒。另外，优选碱溶液中含有铝离子。
进而，在电化学表面粗化处理后实施使用碱溶液的化学蚀刻处理后， 为了除去由此产生的产物，优选使用低温的酸性溶液进行化学蚀刻处理 (去污处理)。
另外，在电化学表面粗化处理后不进行碱蚀刻处理的情况下，为了有 效除去污物，而优选去污处理。
本发明中，上述的化学蚀刻处理可以通过任意的浸渍法、喷淋法、涂 布法等进行，没有特别限定。
<第一阳极氧化处理工序>
第一阳极氧化处理工序为通过对实施了上述表面粗化处理的铝板实 施阳极氧化处理，由此在该铝板表面形成具有沿深度方向(厚度方向)延伸 的微孔的铝的氧化覆膜的工序。如图2(A)所示，通过该第一阳极氧化处 理，在铝板12的表面形成具有微孔16a的铝的阳极氧化覆膜14a。
第一阳极氧化处理可以通过本领域中一直以来进行的方法来实施，以 能最终形成上述的微孔16的方式设定适当制造条件。
具体而言，第一阳极氧化处理工序中形成的微孔16a的平均直径(平 均开口径)通常为4～14nm左右，优选为5～10nm。若为上述范围内，则 容易形成上述的具有规定的形状的微孔16，得到的平版印刷版及平版印 刷版原版的性能更优异。
另外，微孔16a的深度通常为10nm以上且不足100nm左右，优选为 20～60nm。若为上述范围内，容易形成上述的具有规定的形状的微孔16， 得到的平版印刷版及平版印刷版原版的性能更优异。
微孔16a的孔隙密度没有特别限定，孔隙密度优选为50～4000个 /μm2，更优选为100～3000个/μm2。若为上述范围内，则得到的平版印刷 版的耐刷性及暂停印刷的脱墨能力、以及平版印刷版原版的机上显影性优 异。
另外，通过第一阳极氧化处理工序得到的阳极氧化覆膜的膜厚优选为 35～120nm，更优选为40～90nm。若为上述范围内，则使用经该工序得 到的平版印刷版用支撑体的平版印刷版的耐刷性及暂停印刷的脱墨能力、 以及平版印刷版原版的机上显影性优异。
进而，通过第一阳极氧化处理工序得到的阳极氧化覆膜的覆膜量优选 为0.1～0.3g/m2，更优选为0.12～0.25g/m2。若为上述范围内，则使用经 该工序得到的平版印刷版用支撑体的平版印刷版的耐刷性及暂停印刷的 脱墨能力、以及版印刷版原版的机上显影性优异。
第一阳极氧化处理工序中，可以使用硫酸、磷酸、草酸等水溶液作为 主要电解浴。根据场合，也可以使用铬酸、氨基磺酸、苯磺酸等或组合这 二种以上而成的水溶液或非水溶液。在如上所述的电解浴中如果向铝板通 过直流电或交流电，则可以在铝板表面形成阳极氧化覆膜。
需要说明的是，电解浴也可以含有铝离子。铝离子的含量没有特别限 定，优选为1～10g/L。
阳极氧化处理的条件根据所使用的电解液而适当设定，通常，电解液 的浓度为1～80质量％(优选5～20质量％)、液温为5～70℃(优选10～ 60℃)、电流密度为0.5～60A/dm2(优选5～50A/dm2)、电压为1～100V(优 选5～50V)、电解时间为1～100秒(优选5～60秒)的范围为合适。
这些阳极氧化处理中，尤其优选在英国专利第1,412,768号说明书中 记载的硫酸中以高电流密度进行阳极氧化的方法。
<扩孔处理工序>
扩孔处理工序为使通过上述的第一阳极氧化处理工序形成的存在于 阳极氧化覆膜的微孔的直径(孔径)扩大的处理(孔径扩大处理)。通过该扩 孔处理，如图2(B)所示，微孔16a的直径被扩大，形成具有含有更大的 平均直径的微孔16b的阳极氧化覆膜14b。
通过该扩孔处理，微孔16b的平均直径扩大至10～60nm(优选10～ 50nm)的范围。需要说明的是，该微孔16b成为相当于上述的大直径孔部 18的部分。
另外，优选通过该处理来调整距离微孔16b的表面的深度以使与上述 的深度A相同。
扩孔处理通过使利用上述的第一阳极氧化处理工序得到的铝板与酸 水溶液或碱水溶液接触来进行。使其接触的方法没有特别限定，可举出例 如浸渍法、喷淋法。其中，优选浸渍法。
扩孔处理工序中使用碱水溶液的情况下，优选使用选自氢氧化钠、氢 氧化钾、及氢氧化锂中至少一种的碱水溶液。碱水溶液的浓度优选为0.1～ 5质量％。
需要说明的是，将碱水溶液的pH调整到11～13后，在10～70℃(优 选20～50℃)的条件下，使铝板与碱水溶液接触1～300秒(优选1～50秒) 是合适的。
此时，碱处理液中还可以含有碳酸盐、硼酸盐、磷酸盐等多元弱酸的 金属盐。
扩孔处理工序中使用酸水溶液的情况下，优选使用硫酸、磷酸、硝酸、 盐酸等无机酸或这些的混合物的水溶液。酸水溶液的浓度优选为1～80 质量％，更优选为5～50质量％。
需要说明的是，在酸水溶液的液温5～70℃(优选10～60℃)的条件下， 使铝板与酸水溶液接触1～300秒(优选1～150秒)是合适的。
需要说明的是，碱水溶液或酸水溶液中可以含有铝离子。铝离子的含 量没有特别限定，优选为1～10g/L。
<第二阳极氧化处理工序>
第二阳极氧化处理工序为通过对实施了上述扩孔处理的铝板实施阳 极氧化处理，形成向更深度方向(厚度方向)延伸的微孔的工序。如图2(C) 所示，通过该第二阳极氧化处理工序，形成具有向深度方向延伸的微孔 16c的阳极氧化覆膜14c。
通过该第二阳极氧化处理工序，形成与扩大了平均直径的微孔16b 的底部连通、且平均直径比微孔16b(相当于大直径孔部18)的平均直径小 的从连通位置向深度方向延伸的新的孔部。该孔部相当于上述的小直径孔 部20。
第二阳极氧化处理工序中，新形成的孔部的平均直径为大于0且不足 20nm，以从与大直径孔部20的连通位置的深度为上述规定范围的方式实 施处理。需要说明的是，处理所使用的电解浴与上述第一阳极氧化处理工 序相同，作为处理条件，根据所使用的材料而适当设定。
阳极氧化处理的条件虽然可根据所使用的电解液而适当设定，通常电 解液的浓度为1～80质量％(优选5～20质量％)、液温为5～70℃(优选10～ 60℃)、电流密度为0.5～60A/dm2(优选1～30A/dm2)、电压为1～100V(优 选5～50V)、电解时间为1～100秒(优选5～60秒)的范围是合适的。
通过第二阳极氧化处理工序得到的阳极氧化覆膜的膜厚，通常为 900～2000nm，优选为900～1500nm。若为上述范围内，则使用经该工序 得到的平版印刷版用支撑体的平版印刷版的耐刷性及暂停印刷的脱墨能 力、以及平版印刷版原版的机上显影性优异。
另外，通过第二阳极氧化处理工序得到的阳极氧化覆膜的覆膜量通常 为2.2～5.4g/m2，优选2.2～4.0g/m2。若为上述范围内，则使用经该工序 得到的平版印刷版用支撑体的平版印刷版的耐刷性及暂停印刷的脱墨能 力、以及平版印刷版原版的机上显影性优异。
通过第一阳极氧化处理工序得到的阳极氧化覆膜的厚度(覆膜厚度1) 与通过第二阳极氧化处理工序得到的阳极氧化覆膜的厚度(覆膜厚度2)之 比(覆膜厚度1/覆膜厚度2)优选为0.01～0.15，更优选为0.02～0.10。若 为上述范围内，则平版印刷版用支撑体的耐划伤性优异。
<亲水化处理工序>
本发明的平版印刷版用支撑体的制造方法可以具有在上述的第二阳 极氧化处理工序后实施亲水化处理的亲水化处理工序。需要说明的是，作 为亲水化处理，可使用日本特开2005-254638号公报的段落[0109]～[0114] 公开的公知的方法。
需要说明的是，优选通过浸渍于硅酸钠、硅酸钾等碱金属硅酸盐的水 溶液中的方法、涂布亲水性乙烯基聚合物或亲水性化合物使其形成亲水性 的底涂层的方法等进行亲水化处理。
基于硅酸钠、硅酸钾等碱金属硅酸盐的水溶液的亲水化处理可以按照 美国专利第2,714,066号说明书及美国专利第3,181,461号说明书记载的方 法及顺序来进行。
另一方面，作为本发明的平版印刷版用支撑体，优选对上述的铝板， 以以下所示的顺序实施以下的A方式或B方式所示的各处理得到的平版 印刷版用支撑体，从耐刷性的观点出发，特别优选A方式。需要说明的 是，以下的各处理之间优选进行水洗。其中，在连续进行的2个工序(处 理)使用相同的组成的溶液是可以省略水洗。
(A方式)
(2)在碱水溶液中进行化学蚀刻处理(第1碱蚀刻处理)
(3)在酸性水溶液中进行化学蚀刻处理(第1去污处理)
(4)在以硝酸为主体的水溶液中进行电化学表面粗化处理(第1电化学 表面粗化处理)
(5)在碱水溶液中进行化学蚀刻处理(第2碱蚀刻处理)
(6)在酸性水溶液中进行化学蚀刻处理(第2去污处理)
(7)在以盐酸为主体的水溶液中进行电化学表面粗化处理(第2电化学 表面粗化处理)
(8)在碱水溶液中进行化学蚀刻处理(第3碱蚀刻处理)
(9)在酸性水溶液中进行化学蚀刻处理(第3去污处理)
(10)阳极氧化处理(第一阳极氧化处理及第二阳极氧化处理)
(11)亲水化处理
(B方式)
(2)在碱水溶液中进行化学蚀刻处理(第1碱蚀刻处理)
(3)在酸性水溶液中进行化学蚀刻处理(第1去污处理)
(12)在以盐酸为主体的水溶液中进行电化学表面粗化处理
(5)在碱水溶液中进行化学蚀刻处理(第2碱蚀刻处理)
(6)在酸性水溶液中进行化学蚀刻处理(第2去污处理)
(10)阳极氧化处理(第一阳极氧化处理及第二阳极氧化处理)
(11)亲水化处理
需要说明的是，在上述A方式及B方式的(2)的处理前，可以根据需 要实施(1)机械的表面粗化处理。需要说明的是，从耐刷性等的观点出发， 优选各方式中不含有该(1)的处理。
在此，上述(1)～(12)中的机械的表面粗化处理、电化学表面粗化处理、 化学蚀刻处理、阳极氧化处理及亲水化处理可以用与上述的处理方法、条 件同样的方法来进行，优选在以下说明的处理方法、条件下实施。
机械的表面粗化处理优选用毛径为0.2～1.61mm的旋转的尼龙刷滚、 供给到铝板表面的浆液进行机械的表面粗化处理。
作为研磨剂可使用公知的物质，优选硅砂、石英、氢氧化铝或这些的 混合物。
浆液的比重优选为1.05～1.3。当然也可以采用吹附浆液的方式、使 用线刷的方式、将带凹凸的压延辊的表面形状转印到铝板的方式等。
用于碱水溶液中的化学蚀刻处理的碱水溶液的浓度优选为1～30质 量％，铝及铝合金中含有的合金成分可以含有0～10质量％。
作为碱水溶液，特别优选以苛性钠为主体的水溶液。液温优选在常 温～95℃，处理1～120秒钟。
为了在蚀刻处理结束后不将处理液带入到下一工序中，而优选实施利 用夹持辊进行的处理液的移除和利用喷淋进行的水洗。
第1碱蚀刻处理中的铝板的溶解量优选为0.5～30g/m2，更优选为 1.0～20g/m2，进一步优选为3.0～15g/m2。
第2碱蚀刻处理中的铝板的溶解量优选为0.001～30g/m2，更优选为 0.1～4g/m2，进一步优选为0.2～1.5g/m2。
第3碱蚀刻处理中的铝板的溶解量优选为0.001～30g/m2，更优选为 0.01～0.8g/m2，进一步优选为0.02～0.3g/m2。
酸性水溶液中，对于化学蚀刻处理(第1～第3去污处理)可优选使用 磷酸、硝酸、硫酸、铬酸、盐酸、或含有这些2种以上的酸的混酸。
酸性水溶液的浓度优选为0.5～60质量％。
另外，酸性水溶液中，铝及铝合金中所含有的合金成分也可以溶解 0～5质量％。
另外，液温在常温～95℃进行实施，处理时间优选为1～120秒。为 了在去污处理结束后，不将处理液夹带到下个工序而优选实施利用夹持辊 进行的处理液的移除和利用喷淋进行的水洗。
对用于电化学表面粗化处理的水溶液进行说明。
第1电化学表面粗化处理中使用的以硝酸为主体的水溶液，可以使用 采用通常的直流或交流的电化学表面粗化处理中所使用的物质，可以在 1～100g/L的硝酸水溶液添加具有硝酸铝、硝酸钠、硝酸铵等的硝酸离子； 氯化铝、氯化钠、氯化铵等的盐酸离子；等的盐酸或硝酸化合物的一种以 上至1g/L～饱和而使用。
另外，在以硝酸为主体的水溶液中也可以溶解铁、铜、锰、镍、钛、 镁、硅等铝合金中所含的金属。
具体而言，优选使用在硝酸0.5～2质量％水溶液中添加氯化铝、硝 酸铝以使铝离子为3～50g/L的溶液。
另外，温度优选为10～90℃，更优选为40～80℃。
另一方面，第2电化学表面粗化处理中使用的以盐酸为主体的水溶液 可以使用采用通常的直流或交流的电化学表面粗化处理所使用的物质，在 1～100g/L的盐酸水溶液中添加具有硝酸铝、硝酸钠、硝酸铵等的硝酸离 子；氯化铝、氯化钠、氯化铵等的盐酸离子；等的盐酸或硝酸化合物的一 种以上至1g/L～饱和而使用。
另外，在以盐酸为主体的水溶液中也可以溶解铁、铜、锰、镍、钛、 镁、硅等铝合金中所含的金属。
具体而言，优选使用在盐酸0.5～2质量％水溶液中添加氯化铝、硝 酸铝以使铝离子为3～50g/L的溶液。
另外，温度优选为10～60℃，更优选为20～50℃。需要说明的是， 也可以添加次氯酸。
另一方面，B方式中的盐酸水溶液中的电化学表面粗化处理使用的以 盐酸为主体的水溶液，可以使用采用通常的直流或交流的电化学表面粗化 处理所使用的物质，在1～100g/L的盐酸水溶液中添加0～30g/L的硫酸 而使用。另外，可以在该溶液中添加具有硝酸铝、硝酸钠、硝酸铵等的硝 酸离子；氯化铝、氯化钠、氯化铵等的盐酸离子；等的盐酸或硝酸化合物 的1种以上至1g/L～饱和而使用。
另外，在以盐酸为主体的水溶液中，铁、铜、锰、镍、钛、镁、硅等 的铝合金中所含的金属可以溶解。
具体而言，优选使用在硝酸0.5～2质量％水溶液中添加氯化铝、硝 酸铝等而以使铝离子为3～50g/L的溶液。
另外，温度优选为10～60℃，更优选为20～50℃。需要说明的是， 也可以次氯酸。
电化学表面粗化处理的交流电源波形可以使用正弦波、矩形波、梯形 波、三角形波等。频率优选为0.1～250Hz。
图3为表示本发明的平版印刷版用支撑体的制造方法中的用于电化 学表面粗化处理的交变波形电流波形图的一例的图表。
图3中，ta为阳极反应时间、tc为阴极反应时间、tp为电流从0至到 达峰值的时间、Ia为阳极循环侧的峰值时的电流、Ic为阴极循环侧的峰 值时的电流。梯形波中，电流从0至到达峰值的时间tp优选为1～10msec。 由于电源电路的阻抗的影响，所以若tp不足1，则电流波形的上升时需 要大的电源电压，电源的设备成本增高。若大于10msec，则容易受到电 解液中的微量成分的影响，难以进行均匀的表面粗化。电化学表面粗化中 使用的1个循环交流电的条件优选铝板的阳极反应时间ta与阴极反应时 间tc的比tc/ta为1～20，铝板的阳极时的电量Qc与阳极时的电量Qa的 比Qc/Qa为0.3～20、阳极反应时间ta为5～1000msec的范围。tc/ta更优 选为2.5～15。Qc/Qa更优选为2.5～15。电流密度以梯形波的峰值计，电 流的阳极循环侧Ia、阴极循环侧Ic均优选为10～200A/dm2。Ic/Ia优选为 0.3～20的范围。电化学表面粗化结束时刻的铝板的阳极反应所赋予的电 量的总和优选为25～1000C/dm2。
本发明中，用于使用交流电的电化学表面粗化的电解槽可以使用纵 型、扁平型、径向型等公知的表面处理所用的电解槽，特别优选日本特开 平5-195300号公报记载的那样的径向型电解槽。
使用了交流电的电化学表面粗化可以使用图4所示的装置。
图4为表示本发明的平版印刷版用支撑体的制造方法中的使用了交 流电的电化学表面粗化处理中的径向池的一例的侧视图。
图4中，50为主电解槽、51为交流电源、52为径向转筒辊、53a，53b 为主极、54为电解液供给口、55为电解液、56为狭缝、57为电解液通路、 58为辅助阳极、60为辅助阳极槽、W为铝板。使用2个以上电解槽时， 电解条件可以相同也可以不同。
铝板W浸渍到主电解槽50中并卷绕到所配置的径向转筒辊52上， 在输送过程中通过与交流电源51连接的主极53a、53b进行电解处理。电 解液55从电解液供给口54通过狭缝56供给到径向转筒辊52和主极53a、 53b之间的电解液通路57中。用主电解槽50处理过的铝板W接下来用 辅助阳极槽60进行电解处理。在该辅助阳极槽60中辅助阳极58与铝板 W相对配置，电解液55以流过辅助阳极58与铝板W之间的空间的方式 进行供给。
另一方面，在电化学表面粗化处理(第1及第2电化学表面粗化处理) 中，可以是在铝板和与其对向的电极间加入直流电流，并且电化学进行表 面粗化的方法。
<干燥工序>
优选在获得通过上述的工序得到的平版印刷版用支撑体后，设置后述 的图像记录层前，实施使平版印刷版用支撑体的表面进行干燥的处理(干 燥工序)。
干燥优选在表面处理的最后的处理后，水洗处理及用夹持辊处理液的 移除之后进行。作为具体的条件，没有特别限定，优选以热风(50～200℃)、 或冷风自然干燥法等干燥。
<平版印刷版原版>
本发明的平版印刷版用支撑体可以设置以下例示的光敏层、热敏层等 图像记录层而制成本发明的平版印刷版原版。图像记录层没有特别限定， 可优选举出例如日本特开2003-1956号公报的段落[0042]～[0198]记载的 普通的正型、普通的负型、光聚合物型、热正型、热负型、能够机上显影 的未处理的类型。
以下对优选的图像记录层进行详细说明。
<图像记录层>
作为能够用于本发明的平版印刷版原版的优选的图像记录层，为可通 过印刷墨液和/或润版液除去的记录层，具体而言，优选为具有红外线吸 收剂、聚合引发剂、和聚合性化合物，且可通过红外线的照射进行记录的 图像记录层。
对于本发明的平版印刷版原版而言，通过红外线的照射使图像记录层 的曝光部固化并形成疎水性(亲油性)区域，且印刷开始时未曝光部通过润 版液、墨液或润版液与墨液的乳化物从支撑体上快速除去。
以下对图像记录层的各构成成分进行说明。
(红外线吸收剂)
以发出760～1200nm的红外线的激光作为光源图像形成本发明的平 版印刷版原版时，通常使用红外线吸收剂。
红外线吸收剂具有使吸收的红外线转换为热的功能、和通过红外线进 行激发对后述的聚合引发剂(自由基产生剂)产生电子移动/能量移动的功 能。
能够在本发明中使用的红外线吸收剂为在波长760～1200nm具有极 大吸收的染料或颜料。
作为染料，可利用市售的染料、例如“染料便览”(有机合成化学协 会编集、昭和45年刊)等文献记载的公知的染料。
具体而言，可举出偶氮染料、金属络合物偶氮染料、吡唑啉酮偶氮染 料、萘醌染料、蒽醌染料、酞菁染料、碳染料(carbonium dye)、醌亚胺 染料、次甲基染料、花青染料、方酸菁色素、吡喃鎓盐、金属硫醇盐络合 物等染料。可优选使用例如日本特开2009-255434号公报段落[0096]～ [0107]公开的染料。
另一方面，作为颜料，可利用例如日本特开2009-255434号公报的段 落[0108]～[0112]记载的颜料。
(聚合引发剂)
上述聚合引发剂为通过光、热或者该两者能量产生自由基，引发、促 进具有聚合性的不饱和基的化合物的聚合的化合物，本发明中，优选使用 通过热产生自由基的化合物(热自由基产生剂)。
作为上述聚合引发剂，可以使用公知的热聚合引发剂或具有键合解离 能量小的键的化合物、光聚合引发剂等。
作为聚合引发剂，可利用例如日本特开2009-255434号公报的段落 [0115]～[0141]记载的聚合引发剂等。
需要说明的是，作为聚合引发剂可以使用鎓盐等，从反应性、稳定性 的方面考虑，作为优选的物质可举出上述肟酯化合物或重氮鎓盐、碘鎓盐、 锍盐。
相对于构成图像记录层的全部固体成分，这些聚合引发剂可以以 0.1～50质量％、优选以0.5～30质量％、特别优选以1～20质量％的比例 进行添加。在该范围内，可得到良好的敏感度和印刷时的非图像部的良好 的不易污染性。
(聚合性化合物)
聚合性化合物为具有至少一个烯属不饱和双键的加成聚合性化合物， 选自具有至少1个、优选2个以上的末端烯属不饱和键的化合物。本发明 中，这样的化合物可以没有特别限定地使用本发明的技术领域中广泛公知 的物质。
作为聚合性化合物，可使用例如日本特开2009-255434号公报的段落 [0142]～[0163]例示的聚合性化合物等。
另外，使用异氰酸酯和羟基的加成反应制造的脲烷系加成聚合性化合 物也是合适的。作为该具体例，可举出日本特公昭48-41708号公报记载 的使在1分子具有2个以上的异氰酸酯基的多异氰酸酯化合物与下述通式 (A)所示的含有羟基的乙烯基单体加成得到的1分子中含有2个以上的聚 合性乙烯基的乙烯基脲烷化合物等。
CH2＝C(R4)COOCH2CH(R5)OH (A)
(其中，R4及R5表示H或CH3。)
聚合性化合物相对于图像记录层中的不挥发性成分，优选在5～80 质量％、进一步优选在25～75质量％的范围使用。另外，这些可以单独 使用也可以并用2种以上。
(粘合剂聚合物)
本发明中，图像记录层中可以使用用于提高图像记录层的覆膜形成性 的粘合剂聚合物。
粘合剂聚合物可以没有限制地使用以往公知的物质，优选具有覆膜性 的聚合物。作为这样的粘合剂聚合物，具体而言，可举出例如丙烯酸树脂、 聚乙烯醇缩醛树脂、聚氨酯树脂、聚脲树脂、聚酰亚胺树脂、聚酰胺树脂、 环氧树脂、甲基丙烯酸树脂、聚苯乙烯系树脂、酚醛清漆型酚醛系树脂、 聚酯树脂、合成橡胶、天然橡胶等。
粘合剂聚合物为了提高图像部的覆膜强度，而可以具有交联性。为了 使粘合剂聚合物具有交联性，可以向高分子的主链中或侧链中导入烯属不 饱和键等交联性官能基。交联性官能基也可以通过共聚导入。
作为粘合剂聚合物，还可以使用例如日本特开2009-255434号公报段 落[0165]～[0172]公开的粘合剂聚合物。
相对于图像记录层的全部固体成分，粘合剂聚合物的含量为5～90 质量％，优选为5～80质量％，更优选为10～70质量％。在该范围内，可 得到良好的图像部的强度和图像形成性。
另外，聚合性化合物和粘合剂聚合物优选按照以质量比计0.5/1～4/1 的量使用。
(表面活性剂)
图像记录层中为了促进印刷开始时的机上显影性、及提高涂布面状而 优选使用表面活性剂。
作为表面活性剂，可举出非离子表面活性剂、阴离子表面活性剂、阳 离子表面活性剂、两性表面活性剂、氟系表面活性剂等。
作为表面活性剂，可使用例如日本特开2009-255434号公报的段落 [0175]～[0179]公开的表面活性剂等。
表面活性剂可以单独使用或组合2种以上使用。
相对于图像记录层的全部固体成分，表面活性剂的含量优选为 0.001～10质量％，更优选为0.01～5质量％。
图像记录层可以更进一步根据需要添加上述以外的各种化合物。可举 出例如日本特开2009-255434号公报的段落[0181]～[0190]公开的着色剂、 烘干剂、阻聚剂、高级脂肪酸衍生物、增塑剂、无机微粒、低分子亲水性 化合物等。
<图像记录层的形成>
图像记录层可以通过在溶剂中分散或溶解需要的上述各成分制成涂 布液后，将该涂布液涂布在支撑体上而形成。在此，作为使用的溶剂，可 举出二氯乙烷、环己酮、甲乙酮、甲醇、乙醇、丙醇、乙二醇单甲醚、1- 甲氧基-2-丙醇、2-甲氧基乙基乙酸酯、1-甲氧基-2-丙基乙酸酯、水等，但 不限定于这些。
这些溶剂可单独或混合使用。涂布液的固体成分的浓度优选为1～50 质量％。
另外，涂布、干燥后得到的平版印刷版用支撑体上的图像记录层涂布 量(固体成分)根据用途而各异，通常优选为0.3～3.0g/m2。在该范围，可 得到良好的敏感度和图像记录层的良好的覆膜特性。
作为涂布的方法，可举出例如棒涂、旋涂、喷涂、帘涂、浸涂、气刀 涂布、刮刀涂布、辊涂等。
<底涂层>
本发明的平版印刷版原版中，希望在上述的图像记录层和平版印刷版 用支撑体之间设置底涂层。
底涂层优选含有具有基板吸附性基、聚合性基及亲水性基的聚合物。
作为具有基板吸附性基、聚合性基及亲水性基的聚合物，可举出使具 有吸附性基的单体、具有亲水性基的单体、及具有聚合性反应基(交联性 基)的单体共聚而成的底涂层用高分子树脂。
作为可用于底涂层用高分子树脂的单体，可举出例如日本特开 2009-255434号公报的段落[0197]～[0210]等记载的单体。
作为将含有底涂层的构成材料的底涂层涂布液涂布于支撑体的方法， 可以使用公知的各种法。可举出例如棒涂、旋涂、喷涂、帘涂、浸涂、气 刀涂布、刮刀涂布、辊涂布等。
底涂层的涂布量(固体成分)优选为0.1～100mg/m2，更优选为1～ 50mg/m2。
<保护层>
本发明的平版印刷版原版中，为了防止图像记录层中的划伤等发生、 阻隔氧、防止高照度激光曝光时的烧蚀，而可以根据需要在图像记录层上 设置保护层。
关于保护层，一直以来进行过各种研究，例如在美国专利第3,458,3¨ 号说明书及日本特公昭55-49729号公报中有详细记载。
另外，作为用于保护层的材料，可使用例如日本特开2009-255434号 公报的段落[0213]～[02227]等记载的材料(水溶性高分子化合物、无机质 的层状化合物等)。
将制备后的保护层涂布液涂布在支撑体上所具有的图像记录层上，进 行干燥，形成保护层。涂布溶剂可以与粘合剂相关联而适当选择，使用水 溶性聚合物时，优选使用蒸馏水、纯化水。保护层的涂布方法没有特别限 制，可举出例如刮刀涂布法、气刀涂布法、凹版涂布法、辊涂涂布法、喷 淋涂布法、浸渍涂布法、棒涂涂布法等。
作为保护层的涂布量，以干燥后的涂布量计，优选为0.01～10g/m2的范围，更优选为0.02～3g/m2的范围，最优选为0.02～1g/m2的范围。
具有如上所述的图像记录层的本发明的平版印刷版原版不仅制成平 版印刷版时显示优异的暂停印刷的脱墨能力、耐刷性，而且在机上显影型 的情况下成为提高了机上显影性的平版印刷版原版。
实施例
以下通过实施例对本发明进行详细说明，本发明不受这些限定。
<平版印刷版用支撑体的制造>
对于厚度0.3mm的材质1S的铝合金板，实施下述(A)～(F)中的下述 表1所示的处理，制造平版印刷版用支撑体。需要说明的是，全部的处理 工序之间实施水洗处理，并在水洗处理后用夹持辊进行处理液的移除。
<处理A>
(A-a)机械的表面粗化处理(刷拭磨版法)
使用如图5所示的装置，将浮石的悬浊液(比重1.1g/cm3)制成研磨浆 液边供给到铝板的表面，边通过旋转的硬毛束刷进行机械的表面粗化处 理。图5中，1为铝板、2及4为辊状刷(本实施例中，硬毛束刷)、3为研 磨浆液、5、6、7及8为支撑辊。
关于机械的表面粗化处理，研磨材的中位直径(μm)设为30μm、刷数 设为4根、刷的转速(rpm)设为250rpm。硬毛束刷的材质为6·10尼龙， 刷毛的直径为0.3mm、毛长为50mm。刷为在φ300mm的不锈钢制的筒 上开孔密集地植毛而成。硬毛束刷下部的2根支撑辊(φ200mm)的距离为 300mm。硬毛束刷进行按压到直至使刷旋转的驱动马达的负荷成为相对 于在将硬毛束刷按压到铝板前的负荷为10kW压力。刷的旋转方向与铝板 的移动方向相同。
(A-b)碱蚀刻处理
对上述得到的铝板在温度70℃利用喷淋管吹附苛性钠浓度26质 量％、铝离子浓度6.5质量％的苛性钠水溶液，进行蚀刻处理。然后，进 行了利用喷淋的水洗。铝溶解量为10g/m2。
(A-c)在酸性水溶液中的去污处理
接着，在硝酸水溶液中进行去污处理。用于去污处理的硝酸水溶液使 用以下工序的电化学表面粗化中采用的硝酸的废液。该液温为35℃。去 污液通过喷淋吹附，进行3秒钟的去污处理。
(A-d)电化学表面粗化处理
使用硝酸电解60Hz的交流电压，连续进行电化学表面粗化处理。此 时的电解液使用在温度35℃、硝酸10.4g/L的水溶液中添加硝酸铝而将铝 离子浓度调整为4.5g/L的电解液。交流电源波形为如图3所示的波形， 使用电流值从零到达峰值的时间tp为0.8msec、duty比为1∶1、梯形的 矩形波交流电，碳电极作为对电极进行电化学表面粗化处理。辅助阳极使 用铁素体。电解槽使用如图4所示的装置。电流密度以电流的峰值计为 30A/dm2、辅助阳极使从电源流过的电流的5％进行分流。电量(C/dm2)以 铝板为阳极时的电量的总和计为185C/dm2。然后，进行了利用喷淋的水 洗。
(A-e)碱蚀刻处理
对上述得到的铝板在温度50℃利用喷淋管吹附苛性钠浓度5质量％、 铝离子浓度0.5质量％的苛性钠水溶液，进行蚀刻处理。然后，进行了利 用喷淋的水洗。铝溶解量为0.5g/m2。
(A-f)在酸性水溶液中的去污处理
接着，在硫酸水溶液中进行去污处理。用于去污处理的硫酸水溶液使 用硫酸浓度170g/L、铝离子浓度5g/L的溶液。其液温为30℃。通过喷淋 吹附去污液，进行了3秒钟去污处理。
(A-g)电化学表面粗化处理
使用盐酸电解60Hz的交流电压，连续进行电化学表面粗化处理。电 解液使用向液温35℃、6.2g/L的盐酸水溶液中添加氯化铝而将铝离子浓 度调整为4.5g/L的电解液。交流电源波形为如图3所示的波形，使用电 流值从零达到峰值的时间tp为0.8msec、duty比1∶1、梯形的矩形波交 流电，以碳电极作为对电极，进行电化学表面粗化处理。辅助阳极使用铁 素体。电解槽使用如图4所示的装置。
电流密度以电流的峰值计为25A/dm2，盐酸电解中的电量(C/dm2)以 铝板为阳极时的电量的总和计为63C/dm2。然后，进行利用喷淋的水洗。
(A-h)碱蚀刻处理
对上述得到的铝板在温度50℃利用喷淋管吹附苛性钠浓度5质量％、 铝离子浓度0.5质量％的苛性钠水溶液，进行蚀刻处理。然后，进行了利 用喷淋的水洗。铝溶解量为0.1g/m2。
(A-i)在酸性水溶液中的去污处理
接着，在硫酸水溶液中进行去污处理。具体而言，使用阳极氧化处理 工序产生的废液(硫酸170g/L水溶液中溶解铝离子5g/L)，在液温35℃进 行4秒钟的去污处理。通过喷淋吹附去污液，进行了3秒钟的去污处理。
(A-j)第1阶段的阳极氧化处理
使用图6所示的结构的基于直流电解的阳极氧化装置，进行第1阶段 的阳极氧化处理。用表1示出的条件进行阳极氧化处理，形成规定的覆膜 厚的阳极氧化覆膜。
(A-k)扩孔处理
将上述阳极氧化处理的铝板按照表1示出的条件在温度35℃浸渍到 苛性钠浓度5质量％、铝离子浓度0.5质量％的苛性钠水溶液中，进行了 扩孔处理。然后，进行了利用喷淋的水洗。
(A-l)第2阶段的阳极氧化处理
使用图6所示的结构的基于直流电解的阳极氧化装置，进行了第2 阶段的阳极氧化处理。用表1所示的条件进行阳极氧化处理，形成规定的 覆膜厚的阳极氧化覆膜。
(A-m)硅酸盐处理
为了确保非图像部的亲水性，而使用2.5质量％的3号硅酸钠水溶液， 在50℃浸渍7秒钟实施了硅酸盐处理。Si的附着量为10mg/m2。然后， 进行了利用喷淋的水洗。
<处理(B)>
(B-a)碱蚀刻处理
对铝板在温度70℃利用喷淋管吹附苛性钠浓度26质量％、铝离子浓 度6.5质量％的苛性钠水溶液，进行了蚀刻处理。然后，进行了利用喷淋 的水洗。然后实施电化学表面粗化处理的面的铝溶解量为1.0g/m2。
(B-b)在酸性水溶液中的去污处理(第1去污处理)
接着，在酸性水溶液中进行了去污处理。用于去污处理的酸性水溶液 使用150g/L的硫酸水溶液。其液温为30℃。利用喷淋吹附去污液，进行 3秒钟去污处理。然后，进行了水洗处理。
(B-c)在盐酸水溶液中的电化学表面粗化处理
接着，使用盐酸浓度14g/L、铝离子浓度13g/L、硫酸浓度3g/L的电 解液，使用交流电流进行了电解表面粗化处理。电解液的液温为30℃。 铝离子浓度通过添加氯化铝而调节。
交流电流的波形是正和负的波形为对称的正弦波，频率为50Hz、交 流电流1个周期中的阳极反应时间和阴极反应时间为1∶1、电流密度以 交流电流波形的峰值电流值计为75A/dm2。另外，电量以铝板参与阳极反 应中的电量的总和计为450C/dm2，电解处理是每隔125C/dm2打开4秒钟 的通电间隔并分4次进行。铝板的对电极使用碳电极。然后，进行了水洗 处理。
(B-d)碱蚀刻处理
对电化学表面粗化处理后的铝板在温度35℃利用喷淋管吹附苛性钠 浓度5质量％、铝离子浓度0.5质量％的苛性钠水溶液，进行了蚀刻处理。 实施了电化学表面粗化处理的面的铝的溶解量为0.1g/m2。然后，进行了 水洗处理。
(B-e)在酸性水溶液中的去污处理
接着，进行了在酸性水溶液中的去污处理。用于去污处理的酸性水溶 液使用阳极氧化处理工序产生的废液(硫酸170g/L水溶液中溶解铝离子 5.0g/L)。液温为30℃。利用喷淋吹附去污液进行了3秒钟的去污处理。
(B-f)第1阶段的阳极氧化处理
使用图6所示的结构的基于直流电解的阳极氧化装置，进行了第1 阶段的阳极氧化处理。在表1示出的条件下进行阳极氧化处理，形成了规 定的覆膜厚的阳极氧化覆膜。
(B-g)扩孔处理
将上述阳极氧化处理后的铝板在温度35℃按照表1示出的条件浸渍 到苛性钠浓度5质量％、铝离子浓度0.5质量％的苛性钠水溶液中，进行 了扩孔处理。然后，进行了利用喷淋的水洗。
(B-h)第2阶段的阳极氧化处理
使用图6所示的结构的基于直流电解的阳极氧化装置，进行了第2 阶段的阳极氧化处理。在表1示出的条件下进行阳极氧化处理，形成了规 定的覆膜厚的阳极氧化覆膜。
(B-i)硅酸盐处理
为了确保非图像部的亲水性，使用2.5质量％的3号硅酸钠水溶液， 在50℃浸渍7秒钟，实施了硅酸盐处理。Si的附着量为10mg/m2。然后， 进行了利用喷淋的水洗。
<处理(C)>
(C-a)机械的表面粗化处理(刷拭磨版法)
使用图5所示的装置，以浮石的悬浊液(比重1.1g/cm3)作为研磨浆液 边供给到铝板的表面，边通过旋转的硬毛束刷进行机械的表面粗化处理。
关于机械的表面粗化处理，研磨材的中位径(μm)设为30μm、刷数设 为4根、刷的转速(rpm)设为250rpm。硬毛束刷的材质为6·10尼龙，刷 毛的直径为0.3mm、毛长50mm。刷为在φ300mm的不锈钢制的筒上开 孔密集地进行植毛而成。硬毛束刷下部的2根支撑辊(φ200mm)的距离为 300mm。硬毛束刷进行按压直至使刷旋转的驱动马达的负荷成为相对于 使硬毛束刷按压铝板前的负荷为10kW压力。刷的旋转方向与铝板的移动 方向相同。
(C-b)碱蚀刻处理
在温度70℃利用喷淋管对上述得到的铝板吹附苛性钠浓度26质 量％、铝离子浓度6.5质量％的苛性钠水溶液，进行蚀刻处理。然后，进 行了利用喷淋的水洗。铝溶解量为10g/m2。
(C-c)在酸性水溶液中的去污处理
接着，进行了在酸性水溶液中的去污处理。用于去污处理的酸性水溶 液使用阳极氧化处理工序中产生的废液(硫酸170g/L水溶液中溶解铝离子 5.0g/L)。液温为30℃。利用喷淋吹附去污液，进行了3秒钟的去污处理。
(C-d)第1阶段的阳极氧化处理
使用图6所示的结构的基于直流电解的阳极氧化装置，进行了第1 阶段的阳极氧化处理。在表1示出的条件下进行阳极氧化处理，形成了规 定的覆膜厚的阳极氧化覆膜。
(C-e)扩孔处理
将上述阳极氧化处理后的铝板在温度35℃在表1示出的条件下浸渍 到苛性钠浓度5质量％、铝离子浓度0.5质量％的苛性钠水溶液中，进行 了扩孔处理。然后，进行了利用喷淋的水洗。
(C-f)第2阶段的阳极氧化处理
使用图6所示的结构的基于直流电解的阳极氧化装置，进行了第2 阶段的阳极氧化处理。在表1示出的条件下进行阳极氧化处理，形成了规 定的覆膜厚的阳极氧化覆膜。
(C-g)硅酸盐处理
为了确保非图像部的亲水性，使用2.5质量％的3号硅酸钠水溶液， 在50℃浸渍7秒钟，实施了硅酸盐处理。Si的附着量为10mg/m2。然后， 进行了利用喷淋的水洗。
<处理(D)>
(D-a)机械的表面粗化处理(刷拭磨版法)
使用图5所示的装置，以浮石的悬浊液(比重1.1g/cm3)作为研磨浆液 边供给到铝板的表面，边利用旋转的硬毛束刷进行了机械的表面粗化处 理。
关于机械的表面粗化处理，研磨材的中位径(μm)设为30μm、刷数设 为4根、刷的转速(rpm)设为250rpm。硬毛束刷的材质为6·10尼龙，刷 毛的直径为0.3mm、毛长为50mm。刷为在φ300mm的不锈钢制的筒上 开孔密集地进行植毛而成。硬毛束刷下部的2根支撑辊(φ200mm)的距离 为300mm。硬毛束刷进行按压直至使刷旋转的驱动马达的负荷成为相对 于使硬毛束刷按压铝板前的负荷为10kW压力。刷的旋转方向与铝板的移 动方向相同。
(D-b)碱蚀刻处理
对上述得到的铝板在温度70℃利用喷淋管吹附苛性钠浓度26质 量％、铝离子浓度6.5质量％的苛性钠水溶液，进行了蚀刻处理。然后， 进行了利用喷淋的水洗。铝溶解量为10g/m2。
(D-c)在酸性水溶液中的去污处理
接着，在硝酸水溶液中进行去污处理。用于去污处理的硝酸水溶液， 使用接下来工序的用于电化学的表面粗化的硝酸的废液。其液温为35℃。 通过喷淋吹附去污液，进行了3秒钟的去污处理。
(D-d)电化学表面粗化处理
使用硝酸电解60Hz的交流电压，连续进行电化学的表面粗化处理。 此时的电解液使用在温度35℃向硝酸10.4g/L的水溶液中添加硝酸铝调整 铝离子浓度至4.5g/L的电解液。交流电源波形为图3所示的波形，使用 电流值从零到峰值的时间tp为0.8msec、duty比为1∶1、梯形的矩形波 交流电，以碳电极作为对电极进行电化学表面粗化处理。辅助阳极使用铁 素体。电解槽使用图4示出的装置。电流密度以电流的峰值值计为 30A/dm2，辅助阳极中使从电源流过的电流的5％进行分流。电量(C/dm2) 以铝板为阳极时的电量的总和计为185C/dm2。然后，进行了利用喷淋的 水洗。
(D-e)碱蚀刻处理
对上述得到的铝板在温度50℃利用喷淋管吹附苛性钠浓度5质量％、 铝离子浓度0.5质量％的苛性钠水溶液，进行蚀刻处理。然后，进行了利 用喷淋的水洗。铝溶解量为0.5g/m2。
(D-f)在酸性水溶液中的去污处理
接着，在硫酸水溶液中进行了去污处理。用于去污处理的硫酸水溶液， 使用硫酸浓度170g/L、铝离子浓度5g/L的溶液。其液温为30℃。通过喷 淋吹附去污液，进行了3秒钟的去污处理。
(D-g)第1阶段的阳极氧化处理
使用图6所示的结构的基于直流电解的阳极氧化装置，进行了第1 阶段的阳极氧化处理。在表1示出的条件下进行阳极氧化处理，形成了规 定的覆膜厚的阳极氧化覆膜。
(D-h)扩孔处理
对上述阳极氧化处理后的铝板在温度35℃在表1示出的条件下浸渍 到苛性钠浓度5质量％、铝离子浓度0.5质量％的苛性钠水溶液中，进行 扩孔处理。然后，进行了利用喷淋的水洗。
(D-i)第2阶段的阳极氧化处理
使用图6所示的结构的基于直流电解的阳极氧化装置，进行了第2 阶段的阳极氧化处理。在表1示出的条件下进行阳极氧化处理，形成了规 定的覆膜厚的阳极氧化覆膜。
(D-j)硅酸盐处理
为了确保非图像部的亲水性，使用2.5质量％的3号硅酸钠水溶液， 在50℃浸渍7秒钟，实施了硅酸盐处理。Si的附着量为10mg/m2。然后， 进行了利用喷淋的水洗。
<处理(E)>
(E-a)碱蚀刻处理
对铝板在温度70℃利用喷淋管吹附苛性钠浓度26质量％、铝离子浓 度6.5质量％的苛性钠水溶液，进行了蚀刻处理。然后，进行了利用喷淋 的水洗。然后实施电化学表面粗化处理的面的铝溶解量为5g/m2。
(E-b)在酸性水溶液中的去污处理
接着，在硝酸水溶液中进行去污处理。用于去污处理的硝酸水溶液， 使用接下来工序的用于电化学的表面粗化的硝酸的废液。其液温为35℃。 通过喷淋吹附去污液，进行了3秒钟的去污处理。
(E-c)电化学表面粗化处理
使用硝酸电解60Hz的交流电压，连续进行电化学的表面粗化处理。 此时的电解液使用在温度35℃向硝酸10.4g/L的水溶液中添加硝酸铝调整 铝离子浓度为4.5g/L的电解液。交流电源波形为图3所示的波形，使用 电流值从零到峰值的时间tp为0.8msec、duty比1∶1、梯形的矩形波交 流电，以碳电极作为对电极进行电化学表面粗化处理。辅助阳极使用铁素 体。电解槽使用图4示出的装置。电流密度以电流的峰值计为30A/dm2， 辅助阳极中使从电源流过的电流的5％进行分流。电量(C/dm2)以铝板为阳 极时的电量的总和计为250C/dm2。然后，进行了利用喷淋的水洗。
(E-d)碱蚀刻处理
对上述得到的铝板在温度50℃利用喷淋管吹附苛性钠浓度5质量％、 铝离子浓度0.5质量％的苛性钠水溶液，进行了蚀刻处理。然后，进行了 利用喷淋的水洗。铝溶解量为0.2g/m2。
(E-e)在酸性水溶液中的去污处理
接着，使用阳极氧化处理工序产生的废液(硫酸170g/L水溶液中溶解 铝离子5g/L)，在液温35℃进行了4秒钟的去污处理。在硫酸水溶液中进 行了去污处理。通过喷淋吹附去污液，进行了3秒钟的去污处理。
(E-f)第1阶段的阳极氧化处理
使用图6所示的结构的基于直流电解的阳极氧化装置，进行了第1 阶段的阳极氧化处理。在表1示出的条件下进行阳极氧化处理，形成了规 定的覆膜厚的阳极氧化覆膜。
(E-g)扩孔处理
对上述阳极氧化处理后的铝板在温度35℃在表1示出的条件下浸渍 到苛性钠浓度5质量％、铝离子浓度0.5质量％的苛性钠水溶液中，进行 了扩孔处理。然后，进行了利用喷淋的水洗。
(E-h)第2阶段的阳极氧化处理
使用图6所示的结构的基于直流电解的阳极氧化装置，进行了第2 阶段的阳极氧化处理。在表1示出的条件下进行阳极氧化处理，形成了规 定的覆膜厚的阳极氧化覆膜。
(E-i)硅酸盐处理
为了确保非图像部的亲水性，使用2.5质量％的3号硅酸钠水溶液， 在50℃浸渍7秒钟，实施了硅酸盐处理。Si的附着量为10mg/m2。然后， 进行了利用喷淋的水洗。
<处理(F)>
(F-a)碱蚀刻处理
对铝板在温度70℃利用喷淋管吹附苛性钠浓度26质量％、铝离子浓 度6.5质量％的苛性钠水溶液，进行了蚀刻处理。然后，进行了利用喷淋 的水洗。然后实施电化学表面粗化处理的面的铝溶解量为5g/m2。
(F-b)在酸性水溶液中的去污处理
接着，在硝酸水溶液中进行去污处理。用于去污处理的硝酸水溶液， 使用接下来工序的用于电化学的表面粗化的硝酸的废液。其液温为35℃。 通过喷淋吹附去污液，进行了3秒钟的去污处理。
(F-c)电化学表面粗化处理
使用硝酸电解60Hz的交流电压，连续进行电化学的表面粗化处理。 此时的电解液使用在温度35℃向硝酸10.4g/L的水溶液中添加硝酸铝、调 整铝离子浓度为4.5g/L的电解液。交流电源波形为图3所示的波形，使 用电流值从零到峰值的时间tp为0.8msec、duty比1∶1、梯形的矩形波 交流电，以碳电极作为对电极进行电化学表面粗化处理。辅助阳极使用铁 素体。电解槽使用图4示出的装置。电流密度以电流的峰值计为30A/dm2， 辅助阳极使从电源流过的电流的5％分流。电量(C/dm2)以铝板为阳极时的 电量的总和计为250C/dm2。然后，进行了利用喷淋的水洗。
(F-d)碱蚀刻处理
对上述得到的铝板在温度50℃利用喷淋管吹附苛性钠浓度5质量％、 铝离子浓度0.5质量％的苛性钠水溶液，进行了蚀刻处理。然后，进行了 利用喷淋的水洗。铝溶解量为0.2g/m2。
(F-g)在酸性水溶液中的去污处理
接着，在硫酸水溶液中进行了去污处理。用于去污处理的硫酸水溶液， 使用硫酸浓度170g/L、铝离子浓度5g/L的溶液。其液温为30℃。通过喷 淋吹附去污液，进行了3秒钟的去污处理。
(F-h)电化学表面粗化处理
使用盐酸电解60Hz的交流电压，连续进行电化学的表面粗化处理。 电解液使用在液温35℃向盐酸6.2g/L的水溶液添加氯化铝、调整铝离子 浓度为4.5g/L的电解液。交流电源波形为图3所示的波形，使用电流值 从零到峰值的时间tp为0.8msec、duty比1∶1、梯形的矩形波交流电， 以碳电极作为对电极进行电化学表面粗化处理。辅助阳极使用铁素体。电 解槽使用图4示出的装置。电流密度以电流的峰值计为25A/dm2，盐酸电 解中的电量(C/dm2)以铝板为阳极时的电量的总和计，为63C/dm2。然后， 进行了利用喷淋的水洗。
(F-i)碱蚀刻处理
对上述得到的铝板在温度50℃利用喷淋管吹附苛性钠浓度5质量％、 铝离子浓度0.5质量％的苛性钠水溶液，进行了蚀刻处理。然后，进行了 利用喷淋的水洗。铝溶解量为0.1g/m2。
(F-j)在酸性水溶液中的去污处理
接着，在硫酸水溶液中进行了去污处理。具体而言，使用阳极氧化处 理工序产生的废液(硫酸170g/L水溶液中溶解铝离子5g/L)，在液温35℃ 进行了4秒钟的去污处理。通过喷淋吹附去污液，进行了3秒钟的去污处 理。
(F-k)第1阶段的阳极氧化处理
使用图6所示的结构的基于直流电解的阳极氧化装置，进行了第1 阶段的阳极氧化处理。在表1示出的条件下进行阳极氧化处理，形成了规 定的覆膜厚的阳极氧化覆膜。
(F-l)扩孔处理
对上述阳极氧化处理后的铝板在温度35℃、在表1示出的条件下浸 渍到苛性钠浓度5质量％、铝离子浓度0.5质量％的苛性钠水溶液中，进 行扩孔处理。然后，进行了利用喷淋的水洗。
(F-m)第2阶段的阳极氧化处理
使用图6所示的结构的基于直流电解的阳极氧化装置，进行了第2 阶段的阳极氧化处理。在表1示出的条件下进行阳极氧化处理，形成了规 定的覆膜厚的阳极氧化覆膜。
(F-n)硅酸盐处理
为了确保非图像部的亲水性，使用2.5质量％的3号硅酸钠水溶液， 在50℃浸渍7秒钟，实施了硅酸盐处理。Si的附着量为10mg/m2。然后， 进行了利用喷淋的水洗。
上述得到的第二阳极氧化处理工序后的具有微孔的阳极氧化覆膜中 的大直径孔部的阳极氧化覆膜表面中的平均直径、小直径孔部的连通位置 中的平均直径、及深度汇集示于表2。
需要说明的是，微孔的平均直径(大直径孔部及小直径孔部的平均直 径)用倍率15万倍的FE-SEM观察大直径孔部表面及小直径孔部表面N＝4 张，在得到的4张图像中，测定存在于400×600nm2的范围的微孔(大直径 孔部及小直径孔部)的直径，取其平均的值。需要说明的是，大直径孔部 的深度深、小直径孔部的直径难以测定的情况下，可根据需要切削阳极氧 化覆膜上部(存在大直径孔部的区域)，然后求出小直径孔部的直径。
需要说明的是，微孔的深度(大直径孔部及小直径孔部的深度)为如下 所述的值，用FE-SEM观察(大直径孔部深度观察：15万倍、小直径孔部 深度观察：5万倍)支撑体(阳极氧化覆膜)的剖面，在得到的图像中，测定 任意的25个微孔的深度，取其平均的值。
需要说明的是，表2中，第一阳极氧化处理栏的AD量与第二阳极氧 化处理栏的AD量表示各处理得到的覆膜量。需要说明的是，使用的电解 液为含有表1中的成分的水溶液。
[表1]
[表2]
[表3]
表2
在实施例1～28中，对于铝的阳极氧化覆膜而言，形成了具有规定的 平均直径及深度的微孔。
需要说明的是，比较例11及17～21为仅实施一次阳极氧化处理的以 往的形式。另外，比较例12～16的制造条件与日本特开平11-219657号 公报的段落[0136]所述的实施例1～5的制造条件相同。
<平版印刷版原版的制造>
对上述制造的各平版印刷版用支撑体，以干燥涂布量为28mg/m2的 方式涂布下述底涂层用涂布液，设置底涂层。
<底涂层用涂布液>
·下述结构的底涂层用化合物(1) 0.18g
·羟基乙基亚氨基二乙酸 0.10g
·甲醇 55.24g
·水 6.15g
[化1]
底涂层化合物(1)
然后，在如上所述那样形成的底涂层上，棒涂布图像记录层涂布液后， 在100℃烘箱干燥60秒，形成了干燥涂布量1.3g/m2的图像记录层。
全部的图像记录层涂布液通过将各感光液及微凝胶液在涂布之前不 久混合搅拌而得到。
<感光液>
·粘合剂聚合物(1)〔下述结构〕 0.24g
·红外线吸收剂(1)〔下述结构〕 0.030g
·自由基聚合引发剂(1)〔下述结构〕 0.162g
·聚合性化合物三(丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯(NK ESTER A-9300、新中村化学社制) 0.192g
·低分子亲水性化合物三(2-羟基乙基)异氰脲酸酯 0.062g
·低分子亲水性化合物(1)〔下述结构〕 0.052g
·感脂化剂
鏻化合物(1)〔下述结构〕 0.055g
·感脂化剂
苄基-二甲基-辛基铵·PF6盐 0.018g
·甜菜碱化合物(C-1)〔下述结构〕 0.010g
·氟系表面活性剂(1)(重均分子量：1万)〔下述结构〕 0.008g
·甲乙酮 1.091g
·1-甲氧基-2-丙醇 8.609g
<微凝胶液>
·微凝胶(1) 2.640g
·蒸馏水 2.425g
上述的粘合剂聚合物(1)、红外线吸收剂(1)、自由基聚合引发剂(1)、 鏻化合物(1)、低分子亲水性化合物(1)及氟系表面活性剂(1)的结构如以下 所示。
[化2]
粘合剂聚合物(1)
[化3]
红外线吸收剂(1)
聚合引发剂(1)
氟系表面活性剂(1)
鏻化合物(1)
低分子亲水性化合物(1)
上述所述的微凝胶(1)为如下所述合成的物质。
<微凝胶(1)的合成>
将作为油相成分的三羟甲基丙烷和二甲苯二异氰酸酯加成物 (TAKENATE D-110N、三井武田化学品公司制)10g、季戊四醇三丙烯酸 酯(SR444，日本化药社制)3.15g、及Pionin A-41C(竹本油脂社制)0.1g溶 解于乙酸乙酯17g中。制备作为水相成分的PVA-205的4质量％水溶液 40g。混合油相成分及水相成分，使用均化机以12,000rpm乳化10分钟。 将得到的乳化物添加到蒸馏水25g中，在室温搅拌30分钟后，在50℃搅 拌3小时。将这样得到的微凝胶液的固体成分浓度使用蒸馏水稀释到15 质量％，将其制成上述微凝胶(1)。通过光散射法测定微凝胶的平均粒径， 结果平均粒径为0.2μm。
然后，在如上所述形成的图像记录层上，进一步棒涂布下述组成的保 护层涂布液后，在120℃烘箱干燥60秒，形成干燥涂布量0.15g/m2的保 护层，得到平版印刷版原版。
<保护层用涂布液>
·无机质层状化合物分散液(1) 1.5g
·聚乙烯醇(CKS50、磺酸改性、皂化度99摩尔％以上、聚合度300、 日本合成化学工业社制)6质量％水溶液 0.55g
·聚乙烯醇(PVA-405、皂化度81.5摩尔％、聚合度500、可乐丽公司 制)6质量％水溶液 0.03g
·表面活性剂(EMALEX 710、日本乳化剂公司制)1质量％水溶液8.60g
·离子交换水 6.0g
上述所述的无机质层状化合物分散液(1)为以下所述制备的物质。
(无机质层状化合物分散液(1)的制备)
在离子交换水193.6g中添加合成云母Somasif ME-100(coopchem (株)制)6.4g，使用均化机分散直至平均粒径(激光散射法)为3μm。得到的 分散粒子的长径比为100以上。
<平版印刷版原板的评价>
(机上显影性)
通过红外线半导体激光搭载的富士胶片株式会社制Luxel PLATESETTER T-6000III对得到的平版印刷版原版在外面滚筒转速 1000rpm、激光输出功率70％、分辨率2400dpi的条件下进行曝光。曝光 图像尽量含有满版图像及20μm光斑FM投影屏的50％网点图。
不对得到的曝光完毕的原版进行显影处理，而安装于(株)小森 Corporation制印刷机LITHRONE26的印刷滚筒上。使用Ecolity-2(富士胶 片株式会社制)/自来水＝2/98(容量比)的润版液与Values-G(N)墨液(大日本 油墨化学工业(株)制)，用LITHRONE26的标准自动印刷开始方法供给润 版液和墨液进行机上显影后，以每小时10000张的印刷速度，在特菱 art(76.5kg)纸上进行了100张的印刷。
使50％网点图的未曝光部的印刷机上的机上显影结束，计算直至墨 液不转印到网点非图像部的状态为止所需要的印刷用纸的张数作为机上 显影性。从机上显影性好的情况依次用◎(损失纸20张以下)、○(损失纸 21～30张)、△(损失纸31～40张)、×(损失纸41张以上)表示。结果示于 表3。需要说明的是，实用上优选不是×。
(暂停印刷脱墨张数)
上述机上显影结束后，在得到良好的印刷物后，暂时停止印刷，在 25℃、湿度50％的房间中，印刷机上暂时停止1小时，再开始印刷时， 评价直至得到无污染的良好的印刷物之前所需要的印刷用纸的损失纸张 数。从暂停印刷的脱墨能力好的情况依次用◎(损失纸75张以下)、○(损 失纸76～200张)、△(损失纸201～300张)、×(损失纸301张以上)表示。 结果示于表3。需要说明的是，实用上优选不是×。
(耐刷性)
用上述同样的印刷机及手法进行机上显影后，进行继续印刷。通过目 视确认满版图像的浓度开始变薄的时刻的印刷张数，评价耐刷性。将印刷 张数不足1万张的情况作为×××，将1万张以上且不足1万5千张的情况 评价为××，将1万5千张以上且不足2万张的情况评价为×，将2万张以 上且不足2万5千张的情况评价为○，将2万5千张以上且不足3万张的 情况评价为◎，将3万张以上的情况评价为◎◎。结果示于表3。
需要说明的是，实用上优选不是“×××”、“××”、“×”。
(耐划伤性)
平版印刷版用支撑体的耐划伤性通过得到的平版印刷版用支撑体表 面的搔刮试验来评价。
搔刮试验使用连续加重式搔刮强度试验器(SB-53、新东科学社制)， 蓝宝石针0.4mmφ，在针的移动速度10cm/秒的条件下，以加重100g来 进行。
该结果是，将由针导致的划痕未达到铝合金板(基体)的表面的情况作 为耐划伤性优异的样品，评价为“○”，将达到的情况评价为“×”。需要说明 的是，加重值为100g且耐划伤性优异的平版印刷版用支撑体可以抑制制 成平版印刷版原版之际卷绕时及层叠时的对图像记录层的划痕的转印，可 以抑制非图像部的污染。
[表4]
表3
如上述表3所示，对于使用了具备形成有显示规定的范围的平均直径 及深度的微孔的铝的阳极氧化覆膜的平版印刷用支撑体的平版印刷版及 平版印刷版原版(实施例1～28)而言，可确认显示优异的耐刷性、暂停印 刷的脱墨能力、机上显影性及耐划伤性。需要说明的是，实施例1～28 中得到的构成微孔的大直径孔部及小直径孔部的形状均为大致直管状，大 直径孔部的底面为曲面状(大致半球状)。
尤其是对于大直径孔部的平均直径为规定的范围的实施例3及4而 言，可以确认得到了更优异的效果。另外，对于大直径孔部的深度为规定 的范围的实施例7及8、大直径孔部的平均直径与深度的比为规定的范围 的实施例11及12、进而微孔的密度为规定的范围的实施例15及16而言， 可确认到得到了优异的效果。
另一方面，对于不满足本发明的平均直径及深度的关系的比较例1～ 21而言，与实施例1～28比较，仅得到效果差的结果。
尤其对于再现日本特开平11-291657号公报中具体的公开的实施例 1～5的比较例12～16而言，得到暂停印刷的脱墨能力及机上显影性劣化 的结果。
符号的说明
1、12：铝板
2、4：辊状刷
3：研磨浆液
5、6、7、8：支撑辊
ta：阳极反应时间
tc：阴极反应时间
tp：电流从0直至达到峰值的时间
Ia：阳极循环侧的峰值时的电流
Ic：阴极循环侧的峰值时的电流
10：平版印刷版用支撑体
14、14a、14b、14c：铝阳极氧化覆膜
16、16a、16b、16c：微孔
18：大直径孔部
20：小直径孔部
50：主电解槽
51：交流电源
52：径向转筒辊
53a，53b：主极
54：电解液供给口
55：电解液
56：辅助阳极
60：辅助阳极槽
W：铝板
610：阳极氧化处理装置
612：给电槽
614：电解处理槽
616：铝板
618、626：电解液
620：给电电极
622、628：辊
624：夹持辊
630：电解电极
632：槽壁
634：直流电源
机译： 平版印刷版用支撑体的制造方法，平版印刷版用支撑体和平版印刷版原版
机译： 平版印刷版用支撑体的制造方法，平版印刷版用支撑体和平版印刷版原版
机译： 平版印刷版用支撑体的制造方法，平版印刷版用支撑体和平版印刷版原版
