法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-11-01
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03G 5/07 专利号:ZL2011103534346 申请日:20111109 授权公告日:20161214
专利权的终止
2016-12-14
授权
授权
2013-12-04
实质审查的生效 IPC(主分类):G03G5/07 申请日:20111109
实质审查的生效
2012-08-01
公开
公开
技术领域
本发明涉及含有硫醇基的电荷输送材料、含有硫醇基的电荷输送材料溶解液、光 电转换装置、电子照相感光体、图像形成设备和处理盒。
背景技术
近来，积极开发了诸如电子照相感光体、有机EL器件、有机晶体管、有机太阳 能电池等使用有机化合物的电子装置。
特别是，已知交联结构在耐热性和强度方面是有效的。公开了一种有机EL器件， 其中使用了热固化膜或光固化膜(例如，参见WO 97/33193 A2)。还公开有其中使 用了包含电荷输送性基团的丙烯酸聚合物的电子照相感光体(例如，参见特开平 5-202135号公报、特开平6-256428号公报和特开平9-12630号公报)。此外，还公 开了其中使用包含电荷输送性基团和反应性基团的丙烯酸聚合物来形成膜然后进行 交联的电子照相感光体(例如，参见特开2005-002291号公报)。另外，公开了通过 涂布含有光固化型丙烯酸单体然后使其固化而形成的膜(例如，参见特开平5-40360 号公报)。此外还公开了通过使具有碳碳双键的单体、具有碳碳双键的电荷转移材料 和粘合剂树脂的混合物接受光能或热能以使得所述单体的碳碳双键和所述电荷转移 材料的碳碳双键进行反应而形成的膜。此外，公开了使用有机过氧化物将单官能甲基 丙烯酸改性的电荷转移材料、不输送电荷的甲基丙烯酸单体和聚碳酸酯树脂固化(例 如，参见特开平5-216249号公报)。
公开了一种膜，所述膜包含通过聚合在同一分子中具有两个以上链聚合性官能团 的空穴输送性化合物而得到的化合物(例如，参见特开2000-206715号公报)。此外， 还公开了一种电子照相感光体，在所述感光体中使用了通过在硅氧烷基质中掺入具有 硫醇基的空穴输送性化合物而固化的膜(例如，参见特开2000-310870号公报)。另 外，公开了一种电子照相感光体，在所述感光体中使用了在氧杂环丁烷基质中掺入具 有硫醇基的空穴输送性化合物而固化的膜(例如，参见特开平2006-184803号公报)。
进而还公开了一种电子照相感光体，所述感光体包含具有电荷输送性结构的化合 物、不具有电荷输送性结构的自由基聚合性单体和链转移剂，并具有因光能照射单元 所致的交联膜(例如，参见特开2007-322483号公报)。
此外，公开了一种图像形成设备，在该图像形成设备中，将曝光波长设定为500nm 以下，光斑面积设定为2000μm2以下(例如，参见特开2004-21136号公报)。另外， 公开了具有表面层的感光体在波长为380nm～500nm时曝光，在所述表面层中利用 电子束固化具有链聚合性官能团的输送剂(例如，参见特开2005-55818号公报)。 此外，公开了具有1μm～10μm的表面保护层的感光体在波长为380nm～450nm时 曝光，光斑直径为40μm以下(例如，参见特开2005-70648号公报)。另外，还公 开了使感光体在波长为380nm～450nm和色调剂的重量平均粒径为6μm以下时显 影(例如，参见特开2005-70649号公报)。还公开了在波长为380nm～500nm时使 用偶氮颜料作为电荷产生剂(例如，参见特开2006-126327号公报)。
发明内容
根据本发明的第一方面，提供一种由以下通式(1)表示的含有硫醇基的电荷输送材料：
F-[(G)a1-(X)a2-Y-SH]b (1)
其中，F表示来自电荷输送性化合物的有机基团，G表示具有1～5个碳原子的 二价有机基团，X表示选自-CO-O-基团、-O-CO-基团和-O-基团的基团，Y表示具有 1～5个碳原子的二价有机基团，a1和a2各自独立地表示0或1，并且b表示1～6 的整数。
在根据第二方面的含有硫醇基的电荷输送材料中，所述通式(1)中，F可以是具有 空穴输送能力的有机基团。
在根据第三方面的含有硫醇基的电荷输送材料中，由所述通式(1)表示的含有硫 醇基的电荷输送材料可以由以下通式(1)’表示：
F-[(G)a-X-Y-SH]b (1)′
其中，F表示来自电荷输送性化合物的有机基团，G表示具有1～5个碳原子的 二价有机基团，X表示-CO-O-基团或-O-CO-基团，Y表示具有1～5个碳原子的二价 有机基团，a表示0或1，并且b表示1～6的整数。
在根据第四方面的含有硫醇基的电荷输送材料中，由所述通式(1)表示的含有硫 醇基的电荷输送材料可以由以下通式(2)表示：
其中，D表示由-(G)a1-(X)a2-Y-SH表示的结合基团，Ar1～Ar4各自独立地表示具 有取代基或不具有取代基的芳基，Ar5表示具有取代基或不具有取代基的芳基、或者 具有取代基或不具有取代基的亚芳基，G表示具有1～5个碳原子的二价有机基团， X表示选自-CO-O-基团、-O-CO-基团和-O-基团的基团，Y表示具有1～5个碳原子的 二价有机基团，a1和a2各自独立地表示0或1，Ar1～Ar5中的一个至四个具有能够 与由-(G)a1-(X)a2-Y-SH表示的结合基团结合的键，c1～c5各自独立地表示0～2的整 数，并且k表示0或1。
在根据第五方面的含有硫醇基的电荷输送材料中，其中由所述通式(1)’表示的含 有硫醇基的电荷输送材料可以由以下通式(2)’表示：
其中，D表示由-(G)a-X-Y-SH表示的结合基团，Ar1～Ar4各自独立地表示具有取 代基或不具有取代基的芳基，Ar5表示具有取代基或不具有取代基的芳基、或者具有 取代基或不具有取代基的亚芳基，G表示具有1～5个碳原子的二价有机基团，X表 示-CO-O-基团或-O-CO-基团，Y表示具有1～5个碳原子的二价有机基团，a表示0 或1。Ar1～Ar5中的一个至四个具有能够与由-(G)a-X-Y-SH表示的结合基团结合的键， c1～c5各自独立地表示0～2的整数，并且k表示0或1。
根据本发明的第六方面，提供一种含有硫醇基的电荷输送材料溶解液，在该溶解 液中由以下通式(1)表示的含有硫醇基的电荷输送材料溶解在溶剂中：
F-[(G)a1-(X)a2-Y-SH]b (1)
其中，F表示来自电荷输送性化合物的有机基团，G表示具有1～5个碳原子的 二价有机基团，X表示选自-CO-O-基团、-O-CO-基团和-O-基团的基团，Y表示具有 1～5个碳原子的二价有机基团，a1和a2各自独立地表示0或1，并且b表示1～6 的整数。
在根据第七方面的含有硫醇基的电荷输送材料溶解液中，其中由通式(1)表示的 含有硫醇基的电荷输送材料可以由以下通式(1)’表示：
F-[(G)a-X-Y-SH]b (1)′
其中，F表示来自电荷输送性化合物的有机基团，G表示具有1～5个碳原子的 二价有机基团，X表示-CO-O-基团或-O-CO-基团，Y表示具有1～5个碳原子的二价 有机基团，a表示0或1，并且b表示1～6的整数。
根据本发明的第八方面，提供一种光电转换装置，所述装置包括通过使用其中溶 解有由以下通式(1)表示的含有硫醇基的电荷输送材料的溶解液而形成的膜：
F-[(G)a1-(X)a2-Y-SH]b (1)
其中，F表示来自电荷输送性化合物的有机基团，G表示具有1～5个碳原子的 二价有机基团，X表示选自-CO-O-基团、-O-CO-基团和-O-基团的基团，Y表示具有 1～5个碳原子的二价有机基团，a1和a2各自独立地表示0或1，并且b表示1～6 的整数。
在根据第九方面的光电转换装置中，由所述通式(1)表示的含有硫醇基的电荷输 送材料可以是由以下通式(1)’表示的材料：
F-[(G)a-X-Y-SH]b (1)′
其中，F表示来自电荷输送性化合物的有机基团，G表示具有1～5个碳原子的 二价有机基团，X表示-CO-O-基团或-O-CO-基团，Y表示具有1～5个碳原子的二价 有机基团，a表示0或1，并且b表示1～6的整数。
在根据第十方面的光电转换装置中，所述膜可以含有其中聚合了所述含有硫醇基 的电荷输送材料的聚合物。
根据本发明的第十一方面，提供一种电子照相感光体，所述感光体包括在导电性 基体上使用其中溶解有由以下通式(1)表示的含有硫醇基的电荷输送材料的溶解液而 形成的层：
F-[(G)a1-(X)a2-Y-SH]b (1)
其中，F表示来自电荷输送性化合物的有机基团，G表示具有1～5个碳原子的 二价有机基团，X表示选自-CO-O-基团、-O-CO-基团和-O-基团的基团，Y表示具有 1～5个碳原子的二价有机基团，a1和a2各自独立地表示0或1，并且b表示1～6 的整数。
在根据第十二方面的电子照相感光体中，由所述通式(1)表示的含有硫醇基的电 荷输送材料可以由以下通式(1)’表示：
F-[(G)a-X-Y-SH]b (1)′
其中，F表示来自电荷输送性化合物的有机基团，G表示具有1～5个碳原子的 二价有机基团，X表示-CO-O-基团或-O-CO-基团，Y表示具有1～5个碳原子的二价 有机基团，a表示0或1，并且b表示1～6的整数。
根据本发明的第十三方面，提供一种具有导电性基体和在所述导电性基体上的感 光层的电子照相感光体，所述感光层含有通过聚合至少一种由以下通式(I)表示的含有 硫醇基的电荷输送材料和至少一种具有不饱和键的化合物而形成的聚合物：
F-[(G)a1-(X)a2-Y-SH]b (I)
其中，F表示来自电荷输送性化合物的有机基团，G表示具有1～5个碳原子的 二价有机基团，X表示选自-CO-O-、-O-CO-和-O-的基团，Y表示具有1～5个碳原子 的二价有机基团，其可以具有-SH基团作为取代基，a1和a2各自独立地表示0或1， 并且b表示1～6的整数。
在根据第十四方面的电子照相感光体中，通式(I)中，F可以是具有空穴输送能力 的有机基团。
在根据第十五方面的电子照相感光体中，由通式(I)表示的含有硫醇基的电荷输送 材料可以是由以下通式(II)表示的含有硫醇基的电荷输送材料：
其中，D表示由-(G)a1-(X)a2-Y-SH表示的结合基团，Ar1～Ar4各自独立地表示具 有取代基或不具有取代基的芳基，Ar5表示具有取代基或不具有取代基的芳基、或者 具有取代基或不具有取代基的亚芳基，G表示具有1～5个碳原子的二价有机基团， X表示选自-CO-O-、-O-CO-和-O-的基团，Y表示具有1～5个碳原子的二价有机基团， 其可以具有-SH基团作为取代基，a1和a2各自独立地表示0或1，Ar1～Ar5中的一 个至四个具有能够与由-(G)a1-(X)a2-Y-SH表示的结合基团结合的键，c1～c5各自独立 地表示0～2的整数，并且k表示0或1。
在根据第十六方面的电子照相感光体中，所述具有不饱和键的化合物可以是具有 电荷输送性骨架的单体、低聚物或聚合物。
在根据第十七方面的电子照相感光体中，所述具有不饱和键的化合物可以是在同 一个分子中具有两个以上不饱和键并且不具有电荷输送性骨架的单体、低聚物或聚合 物。
在根据第十八方面的电子照相感光体中，所述感光层可以含有润滑剂颗粒。
根据本发明的第十九方面，提供一种图像形成设备，所述图像形成设备包括：电 子照相感光体，所述电子照相感光体具有位于导电性基体上的感光层，所述感光层含 有通过聚合至少一种由以下通式(I)表示的含有硫醇基的电荷输送材料和至少一种所 述具有不饱和键的化合物而形成的聚合物；充电装置，所述充电装置对所述电子照相 感光体的表面充电；曝光装置，所述曝光装置使经充电的所述电子照相感光体的表面 曝光以在所述表面上形成静电潜像；显影装置，所述显影装置使所述静电潜像显影以 形成色调剂图像；和转印装置，所述转印装置将所述色调剂图像转印至转印介质：
F-[(G)a1-(X)a2-Y-SH]b (1)
其中，F表示来自电荷输送性化合物的有机基团，G表示具有1～5个碳原子的 二价有机基团，X表示选自-CO-O-基团、-O-CO-基团和-O-基团的基团，Y表示具有 1～5个碳原子的二价有机基团，a1和a2各自独立地表示0或1，并且b表示1～6 的整数。
根据本发明的第二十方面，提供一种包括电子照相感光体的处理盒，其中，所述 电子照相感光体包括位于导电性基体上的感光层，所述感光层含有通过聚合至少一种 由以下通式(I)表示的含有硫醇基的电荷输送材料和至少一种所述具有不饱和键的化 合物而形成的聚合物，并且其中，所述处理盒能够从图像形成设备上拆卸：
F-[(G)a1-(X)a2-Y-SH]b (1)
其中，F表示来自电荷输送性化合物的有机基团，G表示具有1～5个碳原子的 二价有机基团，X表示选自-CO-O-基团、-O-CO-基团和-O-基团的基团，Y表示具有 1～5个碳原子的二价有机基团，a1和a2各自独立地表示0或1，b表示1～6的整数。
根据本发明的第一方面，与不使用由通式(1)表示的含有硫醇基的电荷输送材料 的情况相比，通过使用由通式(1)表示的含有硫醇基的电荷输送材料形成的膜能够获 得优异的电性质。
根据本发明的第二方面，与F不是具有空穴输送能力的有机基团的情况相比，通 过使用由通式(1)表示的含有硫醇基的电荷输送材料(其中F是具有空穴输送能力的 有机基团)形成的膜能够获得优异的空穴输送性。
根据本发明的第三方面，与不使用由通式(1)’表示的含有硫醇基的电荷输送材料 的情况相比，通过使用由通式(1)’表示的含有硫醇基的电荷输送材料形成的膜能够获 得优异的电性质。
根据本发明的第四方面，与不使用由通式(2)表示的含有硫醇基的电荷输送材料 的情况相比，通过使用由通式(2)表示的含有硫醇基的电荷输送材料形成的膜能够获 得优异的空穴输送性。
根据本发明的第五方面，与不使用由通式(2)’表示的含有硫醇基的电荷输送材料 的情况相比，通过使用由通式(2)’表示的含有硫醇基的电荷输送材料形成的膜能够获 得优异的空穴输送性。
根据本发明的第六方面，与未溶解由通式(1)表示的含有硫醇基的电荷输送材料 的情况相比，通过使用由通式(1)表示的含有硫醇基的电荷输送材料形成的膜能够获 得优异的电性质。
根据本发明的第七方面，与未溶解由通式(1)’表示的含有硫醇基的电荷输送材料 的情况相比，通过使用由通式(1)’表示的含有硫醇基的电荷输送材料形成的膜能够获 得优异的电性质。
根据本发明的第八方面，与不具有通过使用其中溶解有由通式(1)表示的含有硫 醇基的电荷输送材料的溶液而形成的膜的情况相比，能够获得具有优异的电性质的光 电装换装置。
根据本发明的第九方面，与不具有通过使用其中溶解有由通式(1)’表示的含有硫 醇基的电荷输送材料的溶液而形成的膜的情况相比，能够获得具有优异的电性质的光 电装换装置。
根据本发明的第十方面，与不包含通过聚合由通式(1)表示的含有硫醇基的电荷 输送材料而形成的聚合物的情况相比，能够获得具有优异的机械强度和耐热性的光电 装换装置。
根据本发明的第十一方面，与不具有通过使用其中溶解有由通式(1)表示的含有 硫醇基的电荷输送材料的溶液而形成的层的情况相比，能够获得具有优异的电性质的 电子照相感光体。
根据本发明的第十二方面，与不具有通过使用其中溶解有由通式(1)表示的含有 硫醇基的电荷输送材料的溶液而形成的层的情况相比，能够获得具有优异的电性质的 电子照相感光体。
根据本发明的第十二方面，与不具有通过使用其中溶解有由通式(1)’表示的含有 硫醇基的电荷输送材料的溶液而形成的层的情况相比，能够获得具有优异的电性质的 电子照相感光体。
根据本发明的第十三方面，与使用除了由通式(1)表示的含有硫醇基的电荷输送 材料之外的电荷输送材料的情况相比，能够获得优异的电性质。
根据本发明的第十四方面，与通式(1)中的F不是具有空穴输送能力的有机基团 的情况相比，能够获得优异的空穴输送性。
根据本发明的第十五方面，与使用除了由通式(II)表示的含有硫醇基的电荷输送 材料之外的电荷输送材料的情况相比，能够获得优异的空穴输送性。
根据本发明的第十六方面，与具有不饱和键的化合物不是具有电荷输送性骨架的 单体、低聚物或聚合物的情况相比，能够获得具有优异的电性质的电子照相感光体。
根据本发明的第十七方面，与具有不饱和键的化合物在同一分子中不具有两个以 上不饱和键和/或该化合物不是不具有电荷输送性骨架的单体、低聚物或聚合物的情 况相比，能够获得具有优异的机械强度的电子照相感光体。
根据本发明的第十八方面，与不包含润滑剂颗粒的情况相比，能够获得具有优异 的长期稳定性的电性质的电子照相感光体。
根据本发明的第十九方面，与电子照相感光体中使用除了由通式(1)表示的含有 硫醇基的电荷输送材料之外的电荷输送材料的情况相比，能够获得具有优异的图像品 质的图像。
根据本发明的第二十方面，与电子照相感光体中使用除了由通式(1)表示的含有 硫醇基的电荷输送材料之外的电荷输送材料的情况相比，能够获得具有优异的图像品 质的图像。
附图说明
基于以下附图详细地描述本发明的示例性实施方式，其中：
图1是显示根据本示例性实施方式的电子照相感光体的层构成的一个实例的部 分截面示意图。
图2是显示根据本示例性实施方式的电子照相感光体的层构成的另一个实例的 部分截面示意图。
图3是显示根据本示例性实施方式的电子照相感光体的层构成的又一个实例的 部分截面示意图。
图4是显示根据本示例性实施方式的具有处理盒的图像形成设备的部分截面示 意图。
图5是显示根据本示例性实施方式的串联型图像形成设备的截面示意图。
图6A、6B和6C各自是显示重影评价标准的说明图。
图7是显示根据本示例性实施方式的有机电致发光元件的层构成的一个实例的 部分截面示意图。
图8是显示根据本示例性实施方式的有机电致发光元件的层构成的另一个实例 的部分截面示意图。
图9是显示根据本示例性实施方式的有机电致发光元件的层构成的又一个实例 的部分截面示意图。
图10是显示曝光头的图示。
图11是显示利用曝光头对感光体进行曝光的状态的图示。
图12是显示实施例中合成的含有硫醇基的电荷输送材料的IR光谱图。
图13是显示实施例中合成的含有硫醇基的电荷输送材料的IR光谱图。
图14是显示实施例中合成的含有硫醇基的电荷输送材料的IR光谱图。
具体实施方式
下面将详细描述本发明的示例性实施方式。
<含有硫醇基的电荷输送材料>
新型的本示例性实施方式的含有硫醇基的电荷输送材料由以下通式(1)表示：
F-[(G)a1-(X)a2-Y-SH]b (1)
(通式(1)中，F表示来自电荷输送性化合物的有机基团，G表示具有1～5个碳原 子的二价有机基团，X表示选自-CO-O-基团、-O-CO-基团和-O-基团的基团，Y表示 具有1～5个碳原子的二价有机基团，a1和a2各自独立地表示0或1，并且b表示1～ 6的整数)。
G的优选例包括以下有机基团：具有取代基或不具有取代基的含1～5个碳原子 的亚烷基(包括直链亚烷基、支链亚烷基和环状亚烷基)或者具有取代基或不具有取 代基的含1～5个碳原子的亚烷基与-O-的组合。其中，更优选以下有机基团：直链的、 不具有取代基的含1～5个碳原子的亚烷基或直链的、不具有取代基的含1～5个碳原 子的亚烷基与-O-的组合。
G的更具体的优选例包括-CH2-、-C2H4-、-C3H6-、-C4H8-、-C5H10-、-O-C2H4-O-、 -CH2-O-C2H4-O-等。
Y的优选例包括具有取代基或不具有取代基的含1～5个碳原子的亚烷基(包括 直链亚烷基、支链亚烷基和环状亚烷基)、具有取代基或不具有取代基的含1～5个碳 原子的烯基等。此外，取代基的实例包括-SH基团、卤素原子、烷基、烷氧基等，并 且其中特别优选-SH基团。
其中，更优选直链或支链的亚烷基，所述亚烷基取代有-CH3或-SH基团，或者不 具有取代基，并具有1～5个碳原子。
Y的更具体的优选例包括-CH2-、-C2H4-、-CH(CH3)-CH2-、-CH(CH3)-、 -CH2-CH(SH)-CH2-、-CH2-CH(CH2-SH)-等。
F表示具有电荷输送性质的结构，具体而言，使用酞菁类化合物、卟啉类化合物、 偶氮苯类化合物、三芳基胺类化合物、联苯胺类化合物、芳基烷烃类化合物、具有芳 基取代基的乙烯类化合物、芪类化合物、蒽类化合物、腙类化合物、醌类化合物、芴 酮类化合物等。
其中，优选具有芳基胺骨架的化合物，因为这类化合物具有电荷输送性质，特别 是在由通式(1)表示的含有硫醇基的电荷输送材料中，特别优选那些由以下通式(2)表 示的电荷输送材料。
通式(2)中，D表示由-(G)a1-(X)a2-Y-SH表示的结合基团，Ar1～Ar4各自独立地表 示具有取代基或不具有取代基的芳基，Ar5表示具有取代基或不具有取代基的芳基、 或者具有取代基或不具有取代基的亚芳基，G表示具有1～5个碳原子的二价有机基 团，X表示选自-CO-O-基团、-O-CO-基团和-O-基团的基团，Y表示具有1～5个碳原 子的二价有机基团，a1和a2各自独立地表示0或1。Ar1～Ar5中的一个至四个具有 能够与由-(G)a1-(X)a2-Y-SH表示的结合基团结合的键，c1～c5各自独立地表示0～2 的整数，并且k表示0或1。
通式(2)中，Ar1、Ar2、Ar3和Ar4各自独立地表示具有取代基或不具有取代基的 芳基，并且，Ar1、Ar2、Ar3和Ar4可以为彼此相同或不同。
此处，具有取代基的芳基中的取代基的实例，除-D(即，由-(G)a1-(X)a2-Y-SH表示 的结合基团)之外，包括具有1～4个碳原子的烷基、具有1～4个碳原子的烷氧基、 具有6～10个碳原子的芳基等。此外，这些烷基、烷氧基和芳基可以具有取代基或不 具有取代基。
本示例性实施方式的含有硫醇基的电荷输送材料优选由以下通式(1)’表示：
F-[(G)a-X-Y-SH]b (1)′
(通式(1)’中，F表示来自电荷输送性化合物的有机基团，G表示具有1～5个碳 原子的二价有机基团，X表示-CO-O-基团或-O-CO-基团，Y表示具有1～5个碳原子 的二价有机基团，a表示0或1，并且b表示1～6的整数)。
据推测，由于由通式(1)’表示的含有硫醇基的电荷输送材料具有-SH作为极性基， 并且如-OH、-NH-等妨碍载流子输送的极性基的数目较少，因此由该材料形成的膜抑 制用于俘获电荷的陷阱的形成，并由此抑制残留电势的累积。
另外，通常而言，对于通过交联多官能电荷输送材料得到的膜，随着固定化的进 行，膜中的残余应力增大，而对于由通式(1)’表示的含有硫醇基的电荷输送材料，为 了通过具有高度运动自由度的硫酯基团而使电荷输送成分交联，膜中的残余应力受到 抑制，因此不宜生成结构陷阱，由此推测得到了优异的电性质。
结果，在获得优异的电性质的同时，可进一步增大形成的膜的厚度。
此外，在为了增大形成的膜的强度的情况中，将电荷输送材料另外地与多官能丙 烯酸单体混合以形成膜，这两种成分在通常的电荷输送材料中的相容性较低，因此， 限制了多官能丙烯酸单体的添加量的增加。然而，据推测，由于由通式(1)’表示的含 有硫醇基的电荷输送材料具有与多官能丙烯酸单体类似的酯结构，而且两种成分的相 容性良好，因此，无需相分离即可多官能丙烯酸单体进行交联，并且因而得到了同时 具有电性质和强度的膜。
此外，通过使用由通式(1)’表示的含有硫醇基的电荷输送材料来形成膜，结晶受 到抑制，因此，易于得到厚度不均得以抑制的薄膜，据推测由此产生优异的电性质。
此外，通过提供交联结构，得到了具有更高的耐热性和耐溶剂性的膜，因而能够 获得长时间稳定的性能。
新型的本示例性实施方式的含有硫醇基的电荷输送材料优选由以下通式(1)’表 示：
F-[(G)a-X-Y-SH]b (1)′
(通式(1)’中，F表示来自电荷输送性化合物的有机基团，G表示具有1～5个碳 原子的二价有机基团，X表示-CO-O-基团或-O-CO-基团，Y表示具有1～5个碳原子 的二价有机基团，a表示0或1，并且b表示1～6的整数)。
G的优选例包括：具有取代基或不具有取代基的含1～5个碳原子的亚烷基(包 括直链亚烷基、支链亚烷基和环状亚烷基)、具有取代基或不具有取代基的含1～5 个碳原子的亚烯基、具有取代基或不具有取代基的含1～5个碳原子的亚烷基与-O- 的组合的有机基团、或者具有取代基或不具有取代基的含1～5个碳原子的亚烯基与 -O-的组合的有机基团。其中，更优选以下基团：直链的、不具有取代基的含1～5个 碳原子的亚烷基或者直链的、不具有取代基的含1～5个碳原子的亚烷基与-O-的组合 的有机基团。
此外，取代基的实例包括卤素原子、烷基、烷氧基等。
G的更具体的优选例包括-CH2-、-C2H4-、-C3H6-、-C4H8-、-C5H10-、-O-C2H4-O-、 -CH2-O-C2H4-O-、-CH＝CH-CH2-、-O-C2H2-O-、-CH2-O-C2H2-O-等，并且其中，特别 优选-CH2-、-C2H4-、-C3H6-、-C4H8-、-C5H10-、-O-C2H4-O-和-CH2-O-C2H4-O-。
Y的优选例包括具有取代基或不具有取代基的含1～5个碳原子的亚烷基(包括 直链亚烷基、支链亚烷基和环状亚烷基)、具有取代基或不具有取代基的含1～5个碳 原子的亚烯基等。此外，取代基的实例包括-SH基团、卤素原子、烷基、烷氧基等， 其中特别优选-SH基团。
其中，更优选直链或支链的亚烷基，所述亚烷基取代有-SH基团，或者不具有取 代基，并具有1～5个碳原子。
Y的更具体的优选例包括-CH2-、-C2H4-、-CH(CH3)-CH2-、-CH(CH3)-、 -CH2-CH(SH)-CH2-、-CH2-CH(CH2-SH)-等。
F表示具有电荷输送性质的结构，具体而言，使用酞菁类化合物、卟啉类化合物、 偶氮苯类化合物、三芳基胺类化合物、联苯胺类化合物、芳基烷烃类化合物、具有芳 基取代基的乙烯类化合物、芪类化合物、蒽类化合物、腙类化合物、醌类化合物、芴 酮类化合物等。
其中，优选具有芳基胺骨架的化合物，因为这类化合物具有电荷输送性质，特别 是在由通式(1)’表示的含有硫醇基的电荷输送材料中，特别优选那些由以下通式(2)’ 表示的电荷输送材料。
通式(2)’中，D表示由-(G)a-X-Y-SH表示的结合基团，Ar1～Ar4各自独立地表示 具有取代基或不具有取代基的芳基，Ar5表示具有取代基或不具有取代基的芳基、或 者具有取代基或不具有取代基的亚芳基，G表示具有1～5个碳原子的二价有机基团， X表示-CO-O-基团或-O-CO-基团，Y表示具有1～5个碳原子的二价有机基团，a表 示0或1。Ar1～Ar5中的一个至四个具有能够与由-(G)a-X-Y-SH表示的结合基团结合 的键，c1～c5各自独立地表示0～2的整数，k表示0或1。
通式(2)’中，Ar1、Ar2、Ar3和Ar4各自独立地表示具有取代基或不具有取代基的 芳基，并且，Ar1、Ar2、Ar3和Ar4可以为彼此相同或不同。
此处，具有取代基的芳基中的取代基的实例，除-D(即，由-(G)a-X-Y-SH表示的 结合基团)之外，包括具有1～4个碳原子的烷基、具有1～4个碳原子的烷氧基、具 有6～10个碳原子的芳基等。此外，这些烷基、烷氧基和芳基可以具有取代基或不具 有取代基。
Ar1、Ar2、Ar3和Ar4优选为下式(1)～(7)中的任一种。另外，下式(1)～(7)代表 “-(D)C”，其概括地表示能够由各Ar1、Ar2、Ar3和Ar4取代的“-(D)C1”～“-(D)C4”。
式(1)～(7)中，R1表示选自由氢原子、具有1～4个碳原子的烷基、取代有具有1～ 4个碳原子的烷基或具有1～4个碳原子的烷氧基的苯基、不具有取代基的苯基和具 有7～10个碳原子的芳烷基组成的组中的一种，R2、R3和R4各自独立地表示选自由 氢原子、具有1～4个碳原子的烷基、具有1～4个碳原子的烷氧基、取代有具有1～ 4个碳原子的烷氧基的苯基、不具有取代基的苯基、具有7～10个碳原子的芳烷基和 卤素原子组成的组中的一种，Ar表示具有取代基或不具有取代基的亚芳基，D表示 由-(G)a1-(X)a2-Y-SH表示的结合基团，c表示0、1或2，s表示0或1，t表示0～3的 整数，并且Z’表示二价有机连接基团。
此处，式(7)中的Ar优选由以下结构式(8)或(9)表示。
式(8)和(9)中，R5和R6各自独立地表示选自由氢原子、具有1～4个碳原子的烷 基、具有1～4个碳原子的烷氧基、取代有具有1～4个碳原子的烷氧基的苯基、不具 有取代基的苯基、具有7～10个碳原子的芳烷基和卤素原子组成的组中的一种，并且 各个t’表示0～3的整数。
另外，式(7)中，Z’优选由下式(10)～(17)中的任一种表示。另外，各个s表示0 或1。
式(10)～(17)中，R7和R8各自独立地表示选自由氢原子、具有1～4个碳原子的 烷基、具有1～4个碳原子的烷氧基或取代有具有1～4个碳原子的烷氧基的苯基、不 具有取代基的苯基、具有7～10个碳原子的芳烷基和卤素原子组成的组中的一种，W 表示二价基团，q和r各自独立地表示1～10的整数，各个t”表示0～3的整数。
式(16)和(17)中的W优选是由下式(18)～(26)表示的任一种二价基团。但是，式(25) 中，u表示0～3的整数。
此外，在通式(2)中，当k为0时Ar5是具有取代基或不具有取代基的芳基，该芳 基的实例包括在Ar1～Ar4的描述中例举的芳基。另外，当k为1时，Ar5是具有取代 基或不具有取代基的亚芳基，该亚芳基的实例包括从在Ar1～Ar4的描述中例举的芳 基除去一个氢原子而获得的亚芳基。
在通式(2)的-D(即，由-(G)a1-(X)a2-Y-SH表示的结合基团)中，G和Y的实例包括 通式(1)的描述中例举的各基团。
通式(2)中，c1～c5各自独立地表示0、1或2，并且D的总数为1以上。从增加 所获得固化膜的强度并由此抑制重复使用后图像品质的劣化的观点出发，D的总数优 选是2以上，更优选是4以上。
此处，由通式(1)表示的含有硫醇基的电荷输送材料的具体实例如下所示，但并 不限于此。另外，在显示了由通式(1)表示的化合物的实例的下表中，F-(G)a1-和-(X)a2- 之间的连接部分表示为“*”，-(X)a2-和Y-SH之间的连接部分表示为“#”。不过，在a2＝0 的情况中，“*”和“#”直接连接。
上表中，Compound表示化合物
接下来描述合成方法。
由通式(1)和通式(1)’表示的含有硫醇基的电荷输送材料由普通的酯化反应合成。
例如，所述材料通过下列方法合成：使含有酯基的芳基胺化合物与含有硫醇的醇 进行酯化反应的方法、将含有酯基的芳基胺化合物经水解成为游离羧酸然后酯化为含 有硫醇的醇或含有硫醇的烃的氯化物、溴化物、碘化物等的方法、或者其他的方法。 另外，所述材料也可以通过下述方法合成：将含有酯基的芳基胺化合物用氢化铝锂、 硼氢化钠等还原为对应的醇，然后与含有硫醇的羧酸化合物反应。
此外，使用诸如硫酸、对甲苯磺酸等酸催化剂通过以下通式(3)表示的醇、以下 通式(4)表示的羧酸、以下通式(5)表示的羧酸、或以下通式(6)表示的醇的酯化来合 成含有硫醇基的电荷输送材料。另外，可以使用对应的羧酸氯化物来代替所述羧酸。
F-[(G)a1-OH]b (3)
HOOC-Y-SH (4)
F-[(G)a1-COOH]b (5)
HO-Y-SH (6)
(其中，F表示来自电荷输送性化合物的有机基团，G表示具有1～5个碳原子的 二价有机基团，Y表示具有1～5个碳原子的二价有机基团，其可以具有-SH基团作 为取代基，a1表示0或1，并且b表示1～6的整数)。
此外，其中X是醚键的化合物通过以下通式(7)表示的醇、以下通式(8)表示的醇 或卤化物、以下通式(9)表示的醇或卤化物和以下通式(10)表示的醇来合成。
F-[(G)a1-OH]b (7)
J-Y-SH (8)
F-[(G)a1-J]b (9)
HO-Y-SH (10)
(其中，F表示来自电荷输送性化合物的有机基团，G表示具有1～5个碳原子的 二价有机基团，Y表示具有1～5个碳原子的二价有机基团，其可以具有-SH基团作 为取代基，a1表示0或1，b表示1～6的整数，J表示羟基或氯、溴或碘)。
如在例如Experimental Chemistry Lecture Course，第4版，第28卷，第217页等 中所述，使用过量的含有硫醇的醇和诸如钛、锡、锌等的有机金属化合物通过加热来 进行酯化。
相对于芳基胺化合物的酯基，含有硫醇的醇理想的是以1当量以上、优选为 1.2当量以上、更优选为1.5当量以上的量加入。
可以加入诸如硫酸、磷酸等无机酸；钛醇盐；钙、钴等的乙酸盐或碳酸盐；或者 锌或铅的氧化物作为催化剂。基于1重量份的芳基胺化合物，催化剂的用量理想的为 1/10000重量份～1重量份，优选为1/1000重量份～1/2重量份。
反应优选在100℃～300℃的反应温度下进行，更优选在使醇脱离的沸点以上的 温度进行。
作为芳基胺化合物的酯基，出于促进酯化反应的目的优选诸如甲醇、乙醇等低沸 点醇的酯。
反应优选在诸如氮气、氩气等惰性气体中进行，另外，反应可以使用对甲基.异 丙基苯、1-氯萘等高沸点溶剂进行。
正如在如Experimental Chemistry Lecture Course，第4版.，第20卷，第51页等中 所述，使用诸如NaOH、K2CO3等碱性催化剂，或诸如磷酸、硫酸等酸性催化剂使芳 基胺化合物的酯基进行水解，从而获得所述芳基胺化合物羧酸。此处，作为溶剂，可 以使用各种溶剂，不过，优选使用诸如甲醇、乙醇、乙二醇等醇类溶剂，或其与水的 混合物。此外，在溶解性较低的情况中，可以加入二氯甲烷、氯仿、甲苯、二甲亚砜、 醚，四氢呋喃等。
溶剂的量不受特别限制，不过基于1重量份的含有酯基的芳基胺化合物优选为 1重量份～100重量份，优选为2重量份～50重量份。
反应温度设定为室温(20℃)以上至溶剂的沸点以下，考虑到反应速率，优选为 50℃以上。
催化剂的量不受特别限制，不过基于1重量份的含有酯基的芳基胺化合物优选为 0.001重量份～1重量份，更优选为0.01重量份～0.5重量份。
在水解之后使用碱性催化剂进行水解的情况中，得到的盐被诸如盐酸等酸中和， 因此游离出来。进而，该产物可以在用水充分洗涤并干燥后使用，并且必要时还可以 用诸如甲醇、乙醇、甲苯、乙酸乙酯、丙酮等适宜的溶剂进行重结晶然后进行干燥。
基于芳基胺化合物羧酸，含有硫醇的醇理想的是以1当量以上、优选1.2当量以 上、进而更优选1.5当量以上的量加入。
使用诸如硫酸、磷酸等无机酸或诸如对甲苯磺酸等有机酸作为催化剂来进行脱水和 酯化，由此进行合成。基于1重量份的芳基胺化合物，理想的是催化剂以1/10000重量 份～1重量份，优选为1/1000重量份～1/2重量份的量使用。
优选使用能够与水共沸的溶剂进行反应，从而除去在聚合过程中生成的水。甲苯、 氯苯、1-氯萘等是有效的，并且基于1重量份的芳基胺化合物，理想的是以1重量份～ 100重量份、优选2重量份～50重量份的量使用。
反应温度随意设定，不过为了除去聚合过程中生成的水，反应优选在溶剂的沸点 进行。反应完成后，将反应液倒入水中，用诸如甲苯、己烷、乙酸乙酯等萃取，并且 必要时使用诸如活性炭、硅胶、多孔氧化铝、活性高岭土等吸附剂进行纯化。
另外，基于芳基胺化合物羧酸的酸基，使1当量～5当量、优选为1.1当量～3当 量的具有诸如Cl、Br、I等卤素原子的含有硫醇的烃与吡啶、哌啶、三乙胺、二甲基 氨基吡啶、三甲胺、DBU、氢化钠、氢氧化钠、氢氧化钾等碱在有机溶剂中反应以进 行合成，所述有机溶剂例如为非质子极性溶剂，如N-甲基吡咯烷酮、二甲亚砜、N，N- 二甲基甲酰胺等；酮类溶剂，如丙酮、甲基乙基酮等；和醚类溶剂，如二乙醚、四氢 呋喃等。
所述碱理想的是以基于羧酸为1当量～3当量、优选为1当量～2当量的量使用。 所用的非质子有机溶剂理想的是以基于羧酸衍生物为1重量份～50重量份、优选为 1.5重量份～30重量份的量使用。
反应温度在0℃以上至溶剂沸点以下的范围内可随意设定，但优选为0℃～ 150℃。反应完成后，将反应液倒入水中，用诸如甲苯、己烷、乙酸乙酯等萃取，并 且必要时使用诸如活性炭、硅胶、多孔氧化铝、活性高岭土等吸附剂进行纯化。
另外，如在Experimental Chemistry Lecture，4th Ed.，Vol.20，P.10等中所述，可以 使用氢化锂、硼氢化钠等将芳基胺化合物的酯基还原成相应的醇，并与含硫醇的羧酸 进行酯化以进行合成。
<含有硫醇基的电荷输送材料溶解液>
通过将由通式(1)或(1)’表示的含有硫醇基的电荷输送材料溶解在溶剂中形成根 据本示例性实施方式的含有硫醇基的电荷输送材料溶解液。
作为溶剂，诸如甲苯、二甲苯等芳香族溶剂；诸如甲基乙基酮、甲基异丁基酮、 环己酮等酮类溶剂；诸如乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯类溶剂；诸如四氢呋喃、二烷等 醚类溶剂；诸如乙二醇单甲醚等溶纤剂类溶剂；和诸如异丙醇、丁醇等醇类溶剂可以 单独使用或作为混合物使用。
另外，用于将由通式(1)或(1)’表示的含有硫醇基的电荷输送材料溶解在溶剂中的 方法可以是普通的方法，例如在10℃～150℃、优选在15℃～120℃时与溶剂搅拌混 合的方法，或是采用超声波照射的方法等等。
将本示例性实施方式的含有硫醇基的电荷输送材料溶解液例如用于光电转换装 置(有机EL器件、电子照相感光体等)中的成膜，或者太阳能电池、有机晶体管等 的形成。
<光电转换装置>
接下来，将描述光电转换装置。
本示例性实施方式的含有硫醇基的电荷输送材料可用于形成作为汽相沉积膜的 膜，而其中溶解有含有硫醇基的电荷输送材料的溶解液可以用于形成膜。此外，该膜 可以包含其中聚合了含有硫醇基的电荷输送材料的聚合物。
另外，其中含有硫醇基的电荷输送材料作为分子分散在诸如聚碳酸酯树脂、聚芳 酯树脂(polyarylate resin)、聚酯树脂等树脂中的膜在实际使用中非常出色，而且最优 选使用通过与具有双键的单体、低聚物或聚合物混合后固化而形成的固化膜。
<电子照相感光体>
本示例性实施方式的电子照相感光体(其有时简称为“感光体”)具有导电性基体 和位于所述导电性基体上的感光层，所述感光层含有通过聚合至少一种由以下通式(I) 表示的含有硫醇基的电荷输送材料和至少一种具有不饱和键的化合物(以下有时简称 为“特定聚合物”)而形成的聚合物。
F-[(G)a1-(X)a2-Y-SH]b (I)
(通式(I)中，F表示来自电荷输送性化合物的有机基团，G表示具有1～5个碳原 子的二价有机基团，X表示选自-CO-O-、-O-CO-和-O-的基团，Y表示具有1～5个碳 原子的二价有机基团，其可以具有-SH基团作为取代基，a1和a2各自独立地表示0 或1，并且b表示1～6的整数)。
据推测，由于由通式(I)表示的含有硫醇基的电荷输送材料具有-SH作为极性基 团，而硫原子的电负性较低，因此与-OH、-NH-等不同，妨碍载流子输送的作用相对 较小。因而，采用由该材料形成的膜，用于俘获电荷的陷阱的形成受到抑制，残留电 势的累积受到抑制，因而电势稳定性优异。
另外，通常而言，对于通过交联多官能电荷输送材料得到的膜，随着固定化的进 行，膜中的残余应力增大，而对于由通式(I)表示的含有硫醇基的电荷输送材料，出于 通过具有高度运动自由度的硫酯基而交联电荷输送成分的目的，膜中的残余应力受到 抑制，因此不易生成结构陷阱，由此推测得到了优异的电性质。
结果，在获得优异的电性质的同时，可进一步增大形成的膜的厚度。
此外，在为了增大形成的膜的强度的情况中，可将电荷输送材料另外地与多官能 丙烯酸单体混合以形成膜，这两种成分在通常的电荷输送材料中的相容性较低，因此， 限制了多官能丙烯酸单体的添加量的增加。然而，据推测，由于由通式(I)表示的含有 硫醇基的电荷输送材料具有与多官能丙烯酸单体类似的酯结构，而且两种成分的相容 性良好，因此，无需相分离即可多官能丙烯酸单体进行交联，并且因而得到了同时具 有电性质和强度的膜。
因此，通过使用由通式(I)表示的含有硫醇基的电荷输送材料，形成了同时具有电 性质和强度的感光层。特别是，可以实现厚度为10μm以上的较厚的膜的情况。另外， 包含通过聚合至少一种由通式(I)表示的含有硫醇基的电荷输送材料和至少一种具有 不饱和键的化合物(特定化合物)而形成的聚合物的层是构成本示例性实施方式的感 光体的最外表面的表面层，并且以上较厚膜的形成抑制了反复使用后的图像品质的下 降。在具有高强度表面层的情况中，感光体的寿命被确定为表面层磨损的时间点。因 此，较厚膜的形成有效地为感光体提供了更长的寿命。
此外，为了形成图像，感光体通过放电而带电并得以使用，而此时，由于电应力 和由诸如臭氧等放电气体引起的应力，导致感光体的表面材料的劣化，结果，容易吸 收诸如称为放电产物的硝酸铵等离子性材料。因此，特别地，在高湿度下吸收水，感 光体的表面电阻率减少。因此，在所形成的图像中，发生潜像模糊，结果，容易发生 图像的劣化。为了抑制该现象，下述方法是有效的：提供与感光体接触的待清洁的部 件，与待清洁的部件的摩擦适当地磨耗了表面层，从而除去了放电产物并抑制了潜像 渗色。另外，由于成像时的带电方式和清洁方式极大地影响磨耗量，因而使用的色调 剂的形状等高度依赖于图像形成系统。因此，调整感光体的表面层的强度十分重要。
在这方面，本示例性实施方式的电子照相感光体中，可以对由通式(1)表示的含 有硫醇基的电荷输送材料等的交联成分的比例和由通式(I)表示的含有硫醇基的电荷 输送材料等的反应性单体的结构进行选择，从而形成对于系统而言强度最合适的表面 层。
此外，通过使用由通式(I)表示的含有硫醇基的电荷输送材料本身作为多官能电荷 输送性单体，可以赋予感光层强度而不会降低电荷输送成分的浓度。
在由通式(I)表示的含有硫醇基的电荷输送材料中，优选具有芳基胺骨架的材料， 原因是这种材料具有较高的电荷输送性质，并且特别优选由以下通式(II)表示的那些 材料。
(通式(II)中，D表示由-(G)a1-(X)a2-Y-SH表示的结合基团，Ar1～Ar4各自独立地 表示具有取代基或不具有取代基的芳基，Ar5表示具有取代基或不具有取代基的芳基、 或者具有取代基或不具有取代基的亚芳基，G表示具有1～5个碳原子的二价有机基 团，X表示选自-CO-O-、-O-CO-和-O-的基团，Y表示具有1～5个碳原子的二价有机 基团，其可以具有-SH基团作为取代基，a1和a2各自独立地表示0或1，Ar1～Ar5中的一个至四个具有能够与由-(G)a1-(X)a2-Y-SH表示的结合基团结合的键，c1～c5各 自独立地表示0～2的整数，并且k表示0或1)。
-具有不饱和键的化合物-
接下来，描述具有不饱和键的化合物。不具有电荷输送成分的所述化合物包括以 下化合物。
单官能单体的实例包括丙烯酸异丁酯、丙烯酸叔丁酯、丙烯酸异辛酯、丙烯酸月 桂酯、丙烯酸硬脂基酯、丙烯酸异冰片酯、丙烯酸环己酯、丙烯酸2-甲氧基乙酯、 丙烯酸甲氧基三乙二醇酯、丙烯酸2-乙氧基乙酯、丙烯酸四氢糠基酯、丙烯酸苯甲 酯、丙烯酸乙基卡必醇酯、丙烯酸苯氧基乙酯、2-羟基丙烯酸酯、丙烯酸2-羟基丙 酯、丙烯酸4-羟基丁酯、丙烯酸甲氧基聚乙二醇酯、甲基丙烯酸甲氧基聚乙二醇酯、 丙烯酸苯氧基聚乙二醇酯、甲基丙烯酸苯氧基聚乙二醇酯、丙烯酸羟乙基邻苯基苯酚 酯、丙烯酸邻苯基苯酚缩水甘油醚酯、苯乙烯等。
双官能单体的实例包括二(甲基)丙烯酸二乙二醇酯、二(甲基)丙烯酸聚乙二醇酯、 二(甲基)丙烯酸聚丙二醇酯、二(甲基)丙烯酸新戊二醇酯、二(甲基)丙烯酸1，6-己二醇 酯、二乙烯基苯、邻苯二甲酸二烯丙酯等。
三官能单体的实例包括三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三(甲基)丙烯酸季戊四 醇酯、脂肪族三(甲基)丙烯酸酯、三乙烯基环己烷等。
四官能单体的实例包括四(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、双三羟甲基丙烷四(甲基)丙 烯酸酯、脂肪族四(甲基)丙烯酸酯等。
五官能以上的单体的实例包括五(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯、六(甲基)丙烯酸二 季戊四醇酯等，以及具有聚酯骨架、氨基甲酸酯骨架或膦腈骨架的(甲基)丙烯酸酯。
另外，反应性聚合物的实例包括日本特开平5-216249号公报、日本特开平 5-323630号公报、日本特开平11-52603号公报、日本特开2000-264961号公报和日 本特开2005-2291号公报等公开的那些聚合物。
在化合物具有不饱和键但不具有电荷输送成分的情况中，其可单独使用或作为两 种以上的混合物使用。具有不饱和键但不具有电荷输送成分的的化合物用于形成电子 照相感光体的最外表面层，基于用于表面层的组合物的总固含物，其用量优选为60重 量％以下，更优选为55重量％以下，进而更优选为50重量％以下。
接下来描述具有不饱和键的还具有电荷输送性骨架的化合物(单体、低聚物和聚 合物)。
(I)在同一分子中具有链聚合性官能团和电荷输送性骨架的化合物
同一分子中具有链聚合性官能团和电荷输送性骨架的化合物中的链聚合性官能 团不受特别限制，只要是能够进行自由基聚合的官能团即可，例如，其是至少具有碳 碳双键的官能团。其具体实例包括含有选自乙烯基、乙烯基醚基、乙烯基硫醚基、苯 乙烯基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基及其衍生物中的至少一个的基团，等等。其中，考 虑到高反应性时，所述链聚合性官能团优选是含有选自乙烯基、苯乙烯基、丙烯酰基、 甲基丙烯酰基及其衍生物中的至少一个的基团。
另外，同一分子中具有链聚合性官能团和电荷输送性骨架的(I)化合物中的电荷输 送性骨架不受特别限制，只要其具有电子照相感光体中已知的结构即可，例如，所述 骨架为来自含有氮的空穴输送性化合物的骨架，所述空穴输送性化合物例如三芳基胺 类化合物、联苯胺类化合物、腙类化合物等。其实例包括与氮原子共轭的结构。其中， 优选三芳基胺骨架。
此处，作为在同一分子中具有链聚合性官能团和电荷输送性骨架的(I)化合物，因 为电荷输送性质优异和链聚合性优异，可提到由以下通式(A)表示的化合物作为优选 例。
通式(A)中，Ar1～Ar4各自独立地表示具有取代基或不具有取代基的芳基，Ar5表示具有取代基或不具有取代基的芳基、或者具有取代基或不具有取代基的亚芳基， D表示具有含有碳碳双键的官能团的基团，c1～c5各自独立地表示0、1或2，k表示 0或1，并且D的总数为1以上(优选为2以上)。
此处，由通式(A)表示的化合物可以是这样的化合物：其中D表示具有选自丙烯 酰基、甲基丙烯酰基、乙烯基苯基、烯丙基、乙烯基、乙烯基醚基、烯丙基乙烯基醚 基及其衍生物中的至少一个的基团(特别是，在末端具有所述基团的基团)。
另外，由通式(A)表示的化合物可以是这样的化合物：其中D表示 -(CH2)d-(O-CH2-CH2)e-O-CO-C(R′)＝CH2(其中，R′表示氢原子或甲基，d表示1～5的 整数，e表示0或1)。
通式(A)中，Ar1～Ar4各自独立地表示具有取代基或不具有取代基的芳基。Ar1～ Ar4可以彼此为相同或不同。
此处，具有取代基的芳基中的取代基的实例，除了由D表示的基团之外，包括 具有1～4个碳原子的烷基、具有1～4个碳原子的烷氧基、具有6～10个碳原子的具 有取代基或不具有取代基的芳基等。
Ar1～Ar4的具体实例可以是下式(1)～(7)中的任一种。另外，下式(1)～(7)代表 “-(D)C”，其概括性地表示能够由Ar1～Ar4中的每一个取代的“-(D)C1”～“-(D)C4”。
式(1)～(7)中，R1表示选自由氢原子、具有1～4个碳原子的烷基、取代有具有1～ 4个碳原子的烷基或具有1～4个碳原子的烷氧基的苯基、不具有取代基的苯基和具 有7～10个碳原子的芳烷基中的至少一个。R2～R4各自独立地表示选自氢原子、具 有1～4个碳原子的烷基、具有1～4个碳原子的烷氧基、取代有具有1～4个碳原子 的烷氧基的苯基、不具有取代基的苯基、具有7～10个碳原子的芳烷基和卤素原子中 的至少一个。Ar表示具有取代基或不具有取代基的亚芳基，D表示与通式(A)中的D 相同的基团，c表示1或2，s表示0或1，并且t表示0～3的整数。
此处，式(7)中的Ar由以下结构式(8)或(9)表示。
式(8)和(9)中，R5和R6各自独立地表示选自由氢原子、具有1～4个碳原子的烷 基、具有1～4个碳原子的烷氧基、取代有具有1～4个碳原子的烷氧基的苯基、不具 有取代基的苯基、具有7～10个碳原子的芳烷基和卤素原子组成的组中的一种，并且 t表示0～3的整数。
此外，式(7)中，Z’表示二价有机连接基团，但优选由以下式(10)～(17)中的任一 种表示。另外，s表示0或1。
式(10)～(17)中，R7和R8各自独立地表示选自由氢原子、具有1～4个碳原子的 烷基、具有1～4个碳原子的烷氧基、取代有具有1～4个碳原子的烷氧基的苯基、不 具有取代基的苯基、具有7～10个碳原子的芳烷基和卤素原子组成的组中的一种，W 表示二价基团，q和r各自独立地表示1～10的整数，并且t”表示0～3的整数。
式(16)和(17)中的W可以是下式(18)～(26)的二价基团中的任一种。但是，在式(25) 中，u表示0～3的整数。
此外，在通式(A)中，当k为0时Ar5是具有取代基或不具有取代基的芳基，该 芳基的实例包括在Ar1～Ar4的描述中例举的芳基。另外，当k为1时，Ar5是具有取 代基或不具有取代基的亚芳基，该亚芳基的实例包括作为从Ar1～Ar4的描述所例举 的芳基中在所需的位置除去一个氢原子而获得的亚芳基而列举的那些亚芳基。
下文中，显示了由通式(A)表示的化合物((I)的化合物)的具体实例。另外，由 通式(A)表示的化合物并不限于此。
首先，示出具有一个含有碳碳双键的反应性官能团的化合物的具体实例，不过并 不限于此。
接下来显示具有两个含有碳碳双键的反应性官能团的化合物的具体实例，不过并 不限于此。
下面显示具有三个含有碳碳双键的反应性官能团的化合物的具体实例，不过并不 限于此。
下面，显示具有4～6个含有碳碳双键的反应性官能团的化合物的具体实例，不 过并不限于此。
(I)的化合物例如以下列方式合成。
即，例如通过缩合作为前体的醇和对应的甲基丙烯酸或甲基丙烯酸的卤化物来合 成(I)的化合物。例如在作为前体的醇具有苯甲醇结构的情况中，通过使醇和诸如甲基 丙烯酸羟基乙酯等具有羟基的丙烯酸进行脱水/醚化来合成特定的电荷输送材料。
示例性化合物iv-4和示例性化合物iv-17的合成途径将如下示出作为实例。
以上图中，Compound表示化合物。
(I)的其他化合物例如根据化合物iv-4的合成途径和化合物iv-17的合成途径来合 成。
作为(I)的化合物，如上所述，从改善所得膜的机械强度的观点出发，可以使用具 有四个以上含有碳碳双键的反应性官能团的化合物。
此外，作为(I)的化合物，具有四个以上含有碳碳双键的反应性官能团的化合物和 具有一至三个含有碳碳双键的反应性官能团的化合物可以组合使用。通过这样的组合 使用，在抑制电荷输送性能的劣化的同时调整了膜的强度。
在具有四个以上含有碳碳双键的反应性官能团的化合物和具有一至三个含有碳 碳双键的反应性官能团的化合物组合用作(I)的化合物的情况中，具有四个以上含有碳 碳双键的反应性官能团的化合物的含量可以为(I)的化合物的总含量的5重量％以上， 特别是为20重量％以上。
接下来，描述(I)的其他化合物。
(I)的化合物可以是含有分别由以下通式(B)和(C)表示的部分结构的聚合物。
通式(B)和(C)中，R1、R2和R3各自独立地表示氢原子或具有1～4个碳原子的烷 基，X和Y各自独立地表示具有1～20个碳原子的二价有机基团，a表示0或1，并 且CT表示具有电荷输送性骨架的有机基团。
此处，含有分别由以下通式(B)和(C)表示的部分结构的聚合物的末端基团具有通 过自由基聚合反应在终止反应中形成的结构。
通式(B)中，由CT表示的具有电荷输送性骨架的有机基团的实例包括上述的电荷 输送性骨架，但其优选例包括具有三芳基胺骨架、联苯胺骨架、芳基烷烃骨架、具有 芳基取代基的乙烯骨架、芪骨架、蒽骨架和腙骨架的有机基团。其中，更优选具有三 芳基胺骨架、联苯胺骨架和芪骨架的有机基团。
通式(B)和(C)中，由X和Y表示的二价有机基团的实例包括具有选自亚烷基、 -C(＝O)-、-O-C(＝O)-、芳香环和具有以上组合的连接基团中的一个的二价有机基团。 另外，由X和Y表示的二价有机基团优选不具有羟基。
由X表示的二价有机基团的具体实例包括-C(＝O)-O-(CH2)n-(其中，n表示0或 1～10的整数)等。
由Y表示的二价有机基团的具体实例包括-(CH)n-(其中，n表示1～10的整数)、 -(CH2)n-O-C(＝O)-(其中，n表示0或1～10的整数，并且“(CH2)n”的部分氢原子可以 由羟基取代)、-(CH2)n-Ar-(其中，Ar表示具有1～3个芳香环的亚芳基，并且n表示 0或1～10的整数)、-Ar-O-(CH2)n-O-C(＝O)-(其中，Ar表示具有1～3个芳香环的亚 芳基，并且n表示0或1～10的整数)等。
由通式(B)表示的部分结构的具体实例包括但不限于下列结构。此外，在“(X)a” 栏中，指示为“-”的情况表示a＝0的情况，指示为基团的情况表示a＝1的情况，即， 由CT和X一起表示的基团。
接下来，由通式(C)表示的结构的具体实例包括以下结构，但实施不限于此。
其中，由以下结构通式(D)表示的那些具有优异的溶解性和成膜性，因而是优选 的。
通式(D)中，R1、R2和R3各自独立地表示氢原子或具有1～4个碳原子的烷基， X表示具有1～20个碳原子的二价有机基团，Y′表示-C(＝O)-、-CH2-或-(CH2)2-，a和 b各自独立地表示0或1，并且CT表示具有电荷输送性骨架的有机基团。
m和n各自独立地表示5以上的整数，并且满足10＜m+n＜200且0.2＜m/(m+n)＜0.95 的条件，但从强度、挠性和电性质的观点出发，优选的条件是15＜m+n＜2000且 0.3＜m/(m+n)＜0.95，更优选20＜m+n＜2000且0.4＜m/(m+n)＜0.95。
另外，通式(D)中，由X表示的具有二价有机基团的有机基团和由CT表示的电 荷输送性骨架，具有与通式(B)和(C)中的X和CT相同的定义。
包含由通式(B)和(C)各自表示的部分结构的聚合物例如根据公知方法制备，所述 公知方法例如为使用由通式(A)表示的化合物作为单体，与甲基丙烯酸、丙烯酸、缩 水甘油基化合物及其衍生物等进行共聚。
此外，包含由通式(B)和(C)各自表示的部分结构的聚合物除了由通式(B)和(C)表 示的那些之外也可以与一价单体共聚，从而提供溶解性和挠性。
单官能单体的实例包括诸如丙烯酸异丁酯、丙烯酸叔丁酯、丙烯酸异辛酯、丙烯 酸月桂酯、丙烯酸硬脂基酯、丙烯酸异冰片酯、丙烯酸环己酯、丙烯酸2-甲氧基乙 酯、丙烯酸甲氧基三乙二醇酯、丙烯酸2-乙氧基乙酯、丙烯酸四氢糠基酯、丙烯酸 苯甲酯、丙烯酸乙基卡必醇酯、丙烯酸苯氧基乙酯、2-羟基丙烯酸酯、丙烯酸2-羟 基丙酯、丙烯酸4-羟基丁酯、丙烯酸甲氧基聚乙二醇酯、甲基丙烯酸甲氧基聚乙二 醇酯、丙烯酸苯氧基聚乙二醇酯、甲基丙烯酸苯氧基聚乙二醇酯、丙烯酸羟乙基邻苯 基苯酚酯或丙烯酸邻苯基苯酚缩水甘油醚酯等丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯；以及诸如苯 乙烯、α-甲基苯乙烯或4-甲基苯乙烯等苯乙烯衍生物。
从提供溶解性和挠性的观点出发，相对于通式(D)中的m，当这些单体共聚时的 用量(1)优选满足条件1/m＜0.3，更优选是1/m＜0.2。
此外，这些(I)的化合物可以单独使用或者两种以上组合使用。
[电子照相感光体]
本示例性实施方式的电子照相感光体具有位于导电性基体上的感光层，所述感光 层包含通过聚合至少一种由通式(I)表示的含有硫醇基的电荷输送材料和至少一种具 有不饱和键的化合物而形成的聚合物。
另外，通过使用交联性单体自身作为多官能电荷输送性单体，可以在不降低电荷 输送性成分的浓度时提供强度。
在本示例性实施方式的电子照相感光体中，优选包括包含由通式(I)表示的含有硫 醇基的电荷输送材料的层作为最外表面层，并且所述最外表面层也可以是形成电子照 相感光体自身的最上面的层的任意层，并且被设置为用作保护层的层或用作电荷输送 层的层。
此外，在最外表面层是用作保护层的层的情况中，保护层的下层可以具有包括电 荷输送层和电荷产生层的感光层，或具有单层型的感光层。
在最外表面层是用作保护层的层的情况中，导电性基体上包括感光层和用作最外 表面层的保护层，其中保护层可以具有包含以下层的任意构成：所述层包括含有通过 使用由通式(I)表示的含有硫醇基的电荷输送材料形成的聚合物的组合物或其固化产 物。
此外，在最外表面层是用作电荷输送层的层的情况中，导电性基体上包括电荷产 生层和用作最外表面层的电荷输送层，其中电荷输送层可以具有包含以下层的任意构 成：所述层包括含有通过使用由通式(I)表示的含有硫醇基的电荷输送材料和至少一种 含有不饱和键的化合物形成的聚合物的组合物或其固化产物的层。
此外，可以混合诸如硫醇基、不饱和键等不具有反应性的电荷输送材料。
下文中，将参考附图详细描述在最外表面层用作保护层时的本示例性实施方式的 电子照相感光体。另外，附图中，相同的或相当的部分由相同的符号表示，而省略重 复的描述。
图1是显示本示例性实施方式的电子照相感光体的优选例的示意性截面图。
图2至3是显示本发明其他示例性实施方式的电子照相感光体的示意性截面示 图。
图1中所示的电子照相感光体7A是所谓的功能分离型感光体(或层压型感光体)， 并且具有如下结构，所述结构中在导电性基体4上设置底涂层1，并在底涂层1上依 次形成电荷产生层2、电荷输送层3和保护层5。电子照相感光体7A中，感光层由 电荷产生层2和电荷输送层3组成。
图2中所示的电子照相感光体7B是功能分离型感光体，其与图1中所示的电子 照相感光体7A类似，具有功能上分离的电荷产生层2和电荷输送层3。
图2中所示的电子照相感光体7B具有如下结构，所述结构中在导电性基体4上 设置底涂层1，并且在底涂层1上依次形成电荷输送层3、电荷产生层2和保护层5。 电子照相感光体7B中，感光层由电荷输送层3和电荷产生层2组成。
图3中所示的电子照相感光体7C在同一层(单层型感光层6)中含有电荷产生材料 和电荷输送材料。图3中所示的电子照相感光体7C具有如下结构：在导电性基体4 上设置底涂层1，并且在底涂层1上依次形成单层型感光层6和保护层5。
此外，在图1、2和3中所示的电子照相感光体7A、7B和7C中，设置保护层5 作为在距离导电性基体2的最远侧处形成的最外表面层，并且该最外表面层具有上述 构造。
另外，在图1、2和3中所示的电子照相感光体中，可以形成或不形成底涂层1。
下文中，作为代表性实例，基于图1中所示的电子照相感光体7A来描述各元件。
-保护层-
首先，描述作为电子照相感光体7A中的最外表面层的保护层5。保护层5是电 子照相感光体7A中的最外表面层，并且优选由通过聚合至少一种由通式(I)表示的含 有硫醇基的电荷输送材料和至少一种具有不饱和键的化合物而形成的聚合物形成。
作为固化方法，通过热、光、辐射等进行自由基聚合。如果将反应调节成不过于 迅速地进行，则可以抑制膜的不均匀或者褶皱的产生，因此优选的是在自由基缓慢出 现的条件下进行聚合。考虑到这一点，优选易于调节聚合速率的热聚合。
·非反应性的电荷输送材料
对于构成保护层(最外表面层)5的膜，可以组合使用非反应性的电荷输送材料。 非反应性的电荷输送材料不具有负责电荷输送的反应性基团，因此，在将非反应性的 电荷输送材料用在保护层(最外表面层)5中的情况，电荷输送性成分的浓度实质上 增大，因而有效地进一步改善了电性质。另外，可以加入非反应性的电荷输送材料以 降低交联密度，由此调节强度。
作为非反应性的电荷输送材料，可以使用已知的电荷输送材料，具体而言，使用 三芳基胺类化合物、联苯胺类化合物、芳基烷烃类化合物、具有芳基取代基的乙烯类 化合物、芪类化合物、蒽类化合物、腙类化合物等。
其中，从流动性、相容性等的观点出发，优选的是具有三苯基胺骨架。
基于用于形成层的涂布液的总固含物，非反应性的电荷输送材料的量优选为0重 量％～30重量％，更优选为1重量％～25重量％，进而更优选为5重量％～25重量％。
其他添加剂
例如，出于例如调节成膜性、挠性、润滑性和粘附性的目的，构成保护层(最外 表面层)5的固化膜可添加有其他的偶联剂，特别是含有氟的偶联剂。作为这些化合 物，使用各种硅烷偶联剂和市售有机硅类硬涂剂。另外，可以使用含有自由基聚合性 基团的有机硅化合物或含氟化合物。
硅烷偶联剂的实例包括乙烯基三氯硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基 硅烷、γ-缩水甘油氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、γ- 缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、γ-氨基丙基三甲氧基硅 烷、γ-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、四甲 氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷等。
市售硬涂剂的实例包括KP-85、X-40-9740和X-8239(都由Shin-Etsu Chemical Co.，Ltd.制造)和AY42-440、AY42-441和AY49-208(都由Dow Corning Toray Co.， Ltd制造)等。
另外，为提供拒水性等，可以添加含氟化合物，含氟化合物的实例包括(十三氟 -1，1，2，2-四氢辛基)三乙氧基硅烷、(3，3，3-三氟丙基)三甲氧基硅烷、3-(七氟异丙氧基) 丙基三乙氧基硅烷、1H，1H，2H，2H-全氟烷基三乙氧基硅烷、1H，1H，2H，2H-全氟癸基三 乙氧基硅烷和1H，1H，2H，2H-全氟辛基三乙氧基硅烷等。
硅烷偶联剂可以以任意量使用，但含氟化合物的量优选是不含氟的化合物重量的 0.25倍以下。此外，可以混合日本特开2001-166510号公报中所公开的反应性氟化合 物等。
含有自由基聚合性基团的硅化合物和含氟化合物的实例包括日本特开 2007-11005号公报中公开的化合物等。
优选向构成保护层(最外表面层)5的固化膜中添加抗劣化剂。
作为抗劣化剂，优选受阻酚类抗劣化剂和受阻胺类抗劣化剂，还可以使用任何已 知的抗氧化剂，例如有机硫类抗氧化剂、亚磷酸盐(酯)类抗氧化剂、二硫代氨基甲酸 盐类抗氧化剂、硫脲类抗氧化剂、苯并咪唑类抗氧化剂等。
抗劣化剂的添加量优选为20重量％以下，更优选为10重量％以下。
受阻酚类抗氧化剂的实例包括IRGANOX 1076、IRGANOX 1010、IRGANOX 1098、IRGANOX 245、IRGANOX 1330、IRGANOX 3114、IRGANOX 1076和3，5- 二叔丁基-4-羟基联苯等。
受阻胺类抗氧化剂的实例包括SANOL LS2626、SANOL LS765、SANOL LS770、 SANOL LS744、TINUVIN 144、TINUVIN 622LD以及MARK LA57、MARK LA67、 MARK LA62、MARK LA68和MARK LA63，硫醚类抗氧化剂的实例包括SUMILIZER TPS和SUMILIZER TP-D，磷酸盐(酯)类抗氧化剂的实例包括MARK 2112、MARK PEP-8、MARK PEP-24G、MARK PEP-36、MARK 329K、MARK HP-10等。
此外，构成保护层(最外表面层)5的固化膜中可以添加有导电性颗粒或者有机 或无机颗粒。
颗粒的实例包括含硅颗粒。含硅颗粒是指包括硅作为组成元素的颗粒，并且其具 体实例包括胶体二氧化硅和有机硅颗粒。用作含硅颗粒的胶体二氧化硅选自平均粒径 是1nm～100nm，优选是10nm～30nm的二氧化硅，并且在分散于酸性或碱性水分 散液中、或者分散于诸如醇、酮、酯等有机溶剂中后使用。胶体二氧化硅可以是市售 产品。
保护层中胶体二氧化硅的固含量不受特别限制，但相对于保护层5的总固含物， 该含量优选为0.1重量％～50重量％，更优选为0.1重量％～30重量％。
用作含硅颗粒的有机硅颗粒选自有机硅树脂颗粒、有机硅橡胶颗粒和表面由有机 硅处理的经处理的二氧化硅颗粒，并且可以使用市售有机硅颗粒。
这些有机硅颗粒是球形的，并且平均粒径优选为1nm～500nm，更优选为10nm～ 100nm。
相对于保护层5的总固含物，有机硅颗粒的量优选为0.1重量％～30重量％，更 优选为0.5重量％～10重量％。
此外，所述颗粒的其他实例包括诸如四氟乙烯、三氟乙烯、六氟丙烯、氟乙烯、 偏二氟乙烯等氟颗粒，诸如“The Proceedings of The 8th Polymer Material Forum， Lecture”第89页中所述的等通过将氟树脂和具有羟基的单体共聚而获得的树脂的颗 粒，以及诸如ZnO-Al2O3、SnO2-Sb2O3、In2O3-SnO2、ZnO2-TiO2、ZnO-TiO2、MgO-Al2O3、 FeO-TiO2、TiO2、SnO2、In2O3、ZnO、MgO等半导体金属氧化物的颗粒。另外，为 了将颗粒分散可以使用各种已知的分散剂。
另外，可以添加诸如有机硅油等油。
有机硅油的实例包括：诸如二甲基聚硅氧烷、二苯基聚硅氧烷、苯基甲基硅氧烷 等有机硅油；诸如氨基改性聚硅氧烷、环氧基改性聚硅氧烷、羧基改性聚硅氧烷、甲 醇改性聚硅氧烷、甲基丙烯酸改性聚硅氧烷、巯基改性聚硅氧烷、苯酚改性聚硅氧烷 等反应性有机硅油；诸如六甲基环三硅氧烷、八甲基环四硅氧烷、十甲基环戊硅氧烷、 十二甲基环己硅氧烷等环状二甲基环硅氧烷；诸如1，3，5-三甲基-1，3，5-三苯基环三硅 氧烷、1，3，5，7-四甲基-1，3，5，7-四苯基环四硅氧烷、1，3，5，7，9-五甲基-1，3，5，7，9-五苯基环 戊硅氧烷等环状甲基苯基环硅氧烷；诸如六苯基环三硅氧烷等环状苯基环硅氧烷；诸 如3-(3，3，3-三氟丙基)甲基环三硅氧烷等含氟环硅氧烷；诸如甲基氢化硅氧烷混合物、 五甲基环戊硅氧烷、苯基氢化环硅氧烷等含氢化甲硅烷基的环硅氧烷；和诸如五乙烯 基五甲基环戊硅氧烷等含乙烯基的环硅氧烷。
此外，可以添加金属、金属氧化物、炭黑等。金属的实例包括铝、锌、铜、铬、 镍、银、不锈钢等，以及其上沉积有上述金属的塑料颗粒。金属氧化物的实例包括氧 化锌、氧化钛、氧化锡、氧化锑、氧化铟、氧化铋、掺杂锡的氧化铟、掺杂锑或掺杂 钽的氧化锡、掺杂锑的氧化锆等。
这些可以单独使用，也可以两种以上组合使用。当两种以上组合使用时，它们可 以简单地混合，也可以制成固溶体或熔融产物。导电性颗粒的平均粒径优选是0.3μm 以下，特别优选是0.1μm以下。
(组合物)
保护层5形成用组合物优选是以溶解液(保护层形成用涂布液)来制备，在所述 溶解液中至少一种由通式(I)表示的含有硫醇基的电荷输送材料和至少一种具有不饱 和键的化合物溶解在溶剂中。
保护层形成用涂布液可以不含溶剂，或者在必要时也可以包含溶剂，例如甲苯、 二甲苯等芳香族溶剂；例如甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环己酮等酮类溶剂；诸如乙 酸乙酯、乙酸丁酯等酯类溶剂；诸如四氢呋喃、二烷等醚类溶剂；诸如乙二醇单甲 醚等溶纤剂类溶剂；以及诸如异丙醇、丁醇等醇类溶剂，这些溶剂可单独使用或用作 混合溶剂。
此外，当涂布液是通过上述成分的反应而制备时，可以只是将各成分混合和溶解， 但优选的是在室温(20℃)～100℃、更优选30℃～80℃的条件对它们加热10分钟～100 小时、进而更优选1小时～50小时。此时，还优选使用超声波照射。
(保护层5的制备)
通过诸如刮涂法、线棒涂布法、喷涂法、浸涂法、珠涂法、气刀涂布法、幕涂法、 喷墨涂布法等常用涂布方法，将保护层形成用涂布液涂布在涂布表面(在图1的情况 中是电荷输送层3)上。
之后，对获得的膜施加光、电子束或热，从而使膜聚合和固化。
当通过热使膜聚合和固化时，加热条件优选是50℃以上。特别是，加热温度优 选为100℃～180℃。
在通过光使膜聚合和固化时，可通过使用例如汞灯、金属卤化物灯等已知方法照 射光，以获得固化膜。
上述聚合和固化反应中，在真空或氧浓度优选为10％以下，更优选为5％以下， 进而更优选为2％以下，最优选为500ppm以下的低氧浓度的惰性气体气氛中进行反 应，从而可以进行链反应而不会使由光、电子束或热产生的自由基失活。
在本示例性实施方式中，特别优选自由基产生相对较慢的通过热进行的固化方 法。
保护层5的膜厚优选为3μm～40μm，更优选为5μm～35μm。
以上参照图1中所示的电子照相感光体7A说明了功能分离型感光体层中的各层 的构成，但该构成也可以应用于图2所示的功能分离型电子照相感光体7B。此外， 在图3所示的电子照相感光体7C的单层型感光层6的情况中，以下实施方式是优选 的。
即，基于保护层(最外表面层)5形成用组合物的总固含物，单层型感光层6中 的电荷产生材料的含量优选为5重量％～50重量％，优选为10重量％～40重量％， 特别优选为15重量％～35重量％。
作为形成单层型感光层6的方法，可以使用形成电荷产生层2或电荷输送层3 的方法。单层型感光层6的膜厚优选为5μm～50μm，更优选为10μm～40μm。
此外，在以上实施方式中描述了最外表面层是保护层5的实施方式，但是，在不 具有保护层5的层构成的情况中，层构成中位于最外表面的电荷输送层可以是最外表 面层。在最外表面层是电荷输送层的情况中，层的厚度优选为7μm～70μm，更优选 为10μm～60μm。
非反应性的粘合剂树脂
对于含有硫醇基的电荷输送材料也用在树脂中的情况，可以使用诸如聚酯树脂、 聚丙烯酸酯树脂、甲基丙烯酸树脂、丙烯酸树脂、聚氯乙烯树脂、聚偏二氯乙烯树脂、 聚苯乙烯树脂等已知的非反应性的粘合剂树脂。
基于用于形成膜的组合物的总固含物，所述非反应性的粘合剂树脂的总含量优 选为0重量％～60重量％，更优选为0重量％～55重量％，进而更优选为0重量％～ 50重量％。
·反应性化合物
在固化的情况中，在由通式(I)表示的含有硫醇基的电荷输送材料中还可以包含反 应性化合物，并且特别地，为改善强度，优选的是混合在同一分子中具有两个以上双 键的单体、低聚物或聚合物并使其固化。
作为反应性化合物的单官能单体的实例包括丙烯酸异丁酯、丙烯酸叔丁酯、丙烯 酸异辛酯、丙烯酸月桂酯、丙烯酸硬脂基酯、丙烯酸异冰片酯、丙烯酸环己酯、丙烯 酸2-甲氧基乙酯、丙烯酸甲氧基三乙二醇酯、丙烯酸2-乙氧基乙酯、丙烯酸四氢糠 基酯、丙烯酸苯甲酯、丙烯酸乙基卡必醇酯、丙烯酸苯氧基乙酯、2-羟基丙烯酸酯、 丙烯酸2-羟基丙酯、丙烯酸4-羟基丁酯、丙烯酸甲氧基聚乙二醇酯、甲基丙烯酸甲 氧基聚乙二醇酯、丙烯酸苯氧基聚乙二醇酯、甲基丙烯酸苯氧基聚乙二醇酯、丙烯酸 羟乙基邻苯基苯酚酯、丙烯酸邻苯基苯酚缩水甘油醚酯、苯乙烯等。
作为反应性化合物的双官能单体的实例包括二(甲基)丙烯酸二乙二醇酯、二(甲基) 丙烯酸聚乙二醇酯、二(甲基)丙烯酸聚丙二醇酯、二(甲基)丙烯酸新戊二醇酯、二(甲 基)丙烯酸1，6-己二醇酯、二乙烯基苯、邻苯二甲酸二烯丙酯等。
作为反应性化合物的三官能单体的实例包括三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三 (甲基)丙烯酸季戊四醇酯、脂肪族三(甲基)丙烯酸酯、三乙烯基环己烷等。
作为反应性化合物的四官能单体的实例包括四(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、双三羟 甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、脂肪族四(甲基)丙烯酸酯等。
作为反应性化合物的五官能以上的单体的实例五(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯、六 (甲基)丙烯酸二季戊四醇酯，以及具有聚酯骨架、氨基甲酸酯骨架或膦腈骨架的(甲基) 丙烯酸酯。
此外，作为反应性化合物的反应性聚合物的实例包括日本特开平5-216249号公 报、日本特开平5-323630号公报、日本特开平11-52603号公报、日本特开2000-264961 号公报和日本特开2005-2291号公报等公开的那些聚合物。
在使用反应性化合物的情况中，其可以单独使用或者以两种以上的混合物使用。 基于用于形成膜的组合物的总固含物，所述反应性化合物的用量优选为60重量％以 下，更优选为55重量％以下，进而更优选为50重量％以下。
聚合和固化
在使用其中溶解有含有硫醇基的电荷输送材料的溶解液，并且使溶解液中的各成 分经聚合以获得固化膜的情况中，在聚合的过程中使用热、光、辐射等。
在使用热和光进行聚合和固化的情况中，聚合引发剂不是必需的，但可以使用光 固化催化剂或热聚合引发剂。作为光固化催化剂和热聚合引发剂，使用已知的光固化 催化剂或热聚合引发剂。作为辐射，则优选电子束。
-电子束固化-
在使用电子束的情况中，加速电压优选为300kV以下，最好为150kV以下。另 外，辐射剂量优选为1Mrad～100Mrad，更优选为3Mrad～50Mrad。当将加速电 压设定为300kV以下时，抑制了电子束辐射对于感光体特性的损害。另外，当将辐 射剂量设定为1Mrad以上时，交联能够充分进行，而当辐射剂量设定为100Mrad以 下时，抑制了感光体的劣化。
辐射在氮气、氩气等惰性气氛中在1000ppm以下、优选为500ppm以下的氧浓 度下进行，在辐射的过程中或在辐射之后，可以在50℃～150℃进行加热。
-光固化-
作为光源，可以使用高压汞灯、低压汞灯、金属卤化物灯等，并且可以使用带 通滤光片等滤光片来选择优选的波长。可以自由选择辐射时间和光强度，例如，照 度(365nm)优选为300mW/cm2以上和100mW/cm2以下，并且例如，在用紫外光 以600mW/cm2进行辐射的情况中，辐射可以进行5秒～360秒。
辐射在氮气、氩气等惰性气氛中在1000ppm以下、优选为500ppm以下的氧浓 度下进行，在辐射的过程中或在辐射之后，可以在50℃～150℃进行加热。
分子内裂解型光固化催化剂的实例包括苯甲基缩酮类光固化催化剂、烷基苯基酮 类光固化催化剂、氨基烷基苯基酮类光固化催化剂、氧化膦类光固化催化剂、二茂钛 类光固化催化剂、肟类光固化催化剂等。
更具体而言，苯甲基缩酮类光固化催化剂的实例包括2，2-二甲氧基-1，2-二苯基乙 -1-酮。
另外，烷基苯基酮类光固化催化剂的实例包括1-羟基-环己基苯基酮、2-羟基-2- 甲基-1-苯基丙-1-酮、1-[4-(2-羟基乙氧基)苯基]-2-羟基-2-甲基-1-丙-1-酮、2-羟基 -1-{4-[4-(2-羟基-2-甲基丙酰基)苯甲基]苯基}-2-甲基丙烷-1-酮、苯乙酮和2-苯基-2-(对 甲苯磺酰氧基)苯乙酮。
氨基烷基苯基酮类光固化催化剂的实例包括对二甲基氨基苯乙酮、对二甲基氨基 苯丙酮、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉基丙-1-酮、2-苯甲基-2-二甲基氨基-1-(4-吗 啉代苯基)-丁酮-1，2-二甲基氨基-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-吗啉基)苯基]-1-丁酮 等。
氧化膦类光固化催化剂的实例包括2，4，6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦、双 (2，4，6-三甲基苯甲酰基)苯基氧化膦等。
二茂钛类光固化催化剂的实例包括双(η5-2，4-环戊二烯-1-基)-双(2，6-二氟-3-(1H- 吡咯-1-基)苯基)钛等。
肟类光固化催化剂的实例包括1，2-辛二酮、1-[4-(苯硫基)-2-(O-苯甲酰肟)]乙酮、 1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]-1-(O-乙酰肟)等。
吸氢型光固化催化剂的实例包括二苯甲酮类光固化催化剂、噻吨酮类光固化催化 剂、苯偶酰类光固化催化剂、米蚩酮(Michler’s ketone)类光固化催化剂等。
更具体而言，二苯甲酮类光固化催化剂的实例包括2-苯甲酰苯甲酸、2-氯二苯甲 酮、4，4’-二氯二苯甲酮、4-苯甲酰-4’-甲基二苯硫醚、p，p′-双二乙基氨基二苯甲酮等。
噻吨酮类光固化催化剂的实例包括2，4-二乙基噻吨-9-酮、2-氯噻吨酮、2-异丙基 噻吨酮等。
苯偶酰类光固化催化剂的实例包括苯偶酰、(±)-樟脑醌、对茴香偶酰等。
这些光聚合引发剂可以单独使用或者两种以上组合使用。
-热固化-
热聚合引发剂的实例包括V-30、V-40、V-59、V601、V65、V-70、VF-096、VE-73、 VAm-110和VAm-111(全部由Wako Pure Chemical Industries制造)，和诸如OTazo-15、 OTazo-30、AIBN、AMBN、ADVN和ACVA(全部由Otsuka Chemical Co.，Ltd.制 造)等偶氮类引发剂；以及PERTETRA A、PERHEXA HC、PERHEXA C、PERHEXA V、PERHEXA 22、PERHEXA MC、PERBUTYL H、PERCUMYL H、PERCUMYL P、 PERMENTA H、PEROCTA H、PERBUTYL C、PERBUTYL D、PERHEXYL D、 PEROYL IB、PEROYL 355、PEROYL L、PEROYL SA、NYPER BW、NYPER BMT-K40/M、PEROYL IPP、PEROYL NPP、PEROYL TCP、PEROYL OPP、PEROYL SBP、PERCUMYL ND、PEROCTA ND、PERHEXYL ND、PERBUTYL ND、 PERBUTYL NHP、PERHEXYL PV、PERBUTYL PV、PERHEXA 250、PEROCTA O、 PERHEXYL O、PERBUTYL O、PERBUTYL L、PERBUTYL 355、PERHEXYL I、 PERBUTYL I、PERBUTYL E、PERHEXA 25Z、PERBUTYL A、PERHEXYL Z、 PERBUTYL ZT和PERBUTYL Z(均由NOF Corporation制造)、KAYAKETAL AM-C55、TRIGONOX 36-C75、LAUROX、PERCADOXL-W75、PERCADOX CH-50L、 TRIGONOX TMBH、KAYACUMENE H、KAYABUTYL H-70、PERCADOX BC-FF、 KAYAHEXA AD、PERCADOX 14、KAYABUTYL C、KAYABUTYL D、KAYAHEXA YD-E85、PERCADOX 12-XL25、PERCADOX 12-EB20、TRIGONOX 22-N70、 TRIGONOX 22-70E、TRIGONOX D-T50、TRIGONOX 423-C70、KAYAESTER CND-C70、KAYAESTER CND-W50、TRIGONOX 23-C70、TRIGONOX 23-W50N、 TRIGONOX 257-C70、KAYAESTER P-70、KAYAESTER TMPO-70、TRIGONOX 121、 KAYAESTER O、KAYAESTER HTP-65W、KAYAESTER AN、TRIGONOX 42、 TRIGONOX F-C50、KAYABUTYL B、KAYACARBON EH-C70、KAYACARBON EH-W60、KAYACARBON I-20、KAYACARBON BIC-75、TRIGONOX 117和 KAYALENE 6-70(均由Kayaku Akzo Co.，Ltd.制造)、UPEROX 610、LUPEROX 188、 LUPEROX 844、LUPEROX 259、LUPEROX 10、LUPEROX 701、LUPEROX 11、 LUPEROX 26、LUPEROX 80、LUPEROX 7、LUPEROX 270、LUPEROX P、LUPEROX 546、LUPEROX 554、LUPEROX 575、LUPEROX TANPO、LUPEROX 555、LUPEROX 570、LUPEROX TAP、LUPEROX TBIC、LUPEROX TBEC、LUPEROX JW、LUPEROX TAIC、LUPEROX TAEC、LUPEROX DC、LUPEROX 101、LUPEROX F、LUPEROX DI、LUPEROX 130、LUPEROX 220、LUPEROX 230、LUPEROX 233和LUPEROX 531。
其中，如果偶氮类聚合引发剂的分子量为250以上，低温下反应也能够在不产生 不均匀性的情况下进行，由此促进了不均匀性受到抑制的高强度膜的形成。偶氮类聚 合引发剂的分子量优选为250以上，更优选为300以上。
加热在氮气、氩气等活性气氛下在优选为1000ppm以下，更优选为500ppm以 下的低氧浓度进行，温度优选为50℃～170℃，进而更优选为70℃～150℃，时间优 选为10分钟～120分钟，更优选为15分钟～100分钟。
相对于用于形成层的溶解液中的总固含物，光固化催化剂或热聚合引发剂的总含 量优选为0.1重量％～10重量％，更优选为0.1重量％～8重量％，特别优选为0.1重 量％～5重量％。
-导电性基体-
导电性基体4的实例包括使用诸如铝、铜、锌、不锈钢、铬、镍、钼、钒、铟、 金、铂或其合金等金属的金属板、金属鼓和金属带。导电性基体4的实例也包括其上 涂布、沉积或层压有以下物质的纸、塑料膜、带等：诸如导电性聚合物和氧化铟等导 电性化合物、诸如铝、钯和金等金属或者其合金。
此处，术语“导电性”是指体积电阻率小于1013Ω·cm。
当将电子照相感光体7A用在激光打印机中时，优选对导电性基体4的表面进行 粗糙化以使其具有0.04μm～0.5μm的中心线平均粗糙度Ra，从而防止当照射激光时 形成的干涉条纹。当使用非相干光作为光源时，防止干涉条纹的表面粗糙化不是必要 的。
使表面粗糙化的方法的优选实例包括通过将悬浮在水中的研磨剂喷射到支持体 上而进行的湿式珩磨、其中使支持体在压力下与旋转的磨石接触以进行连续研磨的无 心研磨、阳极氧化处理等。
此外，作为表面粗糙化的另一方法，还优选使用以下方法：在基体表面上形成树 脂层，所述树脂层中导电性或半导电性颗粒分散在树脂中，由此通过分散在层中的颗 粒来实现粗糙化，而不是使导电性基体4表面粗糙化。
此处，通过阳极氧化进行的表面粗糙化处理中，通过阳极氧化在铝表面上形成氧 化物膜，所述阳极氧化中对作为阳极的铝在电解质溶液中进行阳极化。电解质溶液的 实例包括硫酸溶液、草酸溶液等。然而，通过阳极氧化形成的多孔阳极氧化物膜未经 修饰时具有化学活性，容易被污染，并且电阻随环境变化大。因此，优选的是进行密 封处理，所述密封处理中，通过在加压水蒸汽或沸水(其中可添加诸如镍盐等金属盐) 中的水合反应将阳极氧化物转化成更稳定的水合氧化物，引起体积膨胀，而密封阳极 氧化物膜的细孔。
阳极氧化物膜的厚度优选是0.3μm～15μm。
此外，可以对导电性基体4进行酸性水溶液处理或勃姆石处理。使用包括磷酸、 铬酸和氢氟酸的酸性处理液的处理如下进行：
首先，混合磷酸、铬酸和氢氟酸以制备酸性处理液，混合比优选是10重量％～ 11重量％的磷酸、3重量％～5重量％的铬酸和0.5重量％～2重量％的氢氟酸。总的 酸成分的浓度优选是13.5重量％～18重量％。处理温度优选是42℃～48℃，通过保 持较高的处理温度，可以更快地形成更厚的膜。膜的厚度优选是0.3μm～15μm。
勃姆石处理优选如下进行：将基体在温度为90℃～100℃的纯水中浸渍5分钟～ 60分钟，或者通过使基体与90℃～120℃的加热水蒸汽接触5分钟～60分钟。膜厚 度优选是0.1μm～5μm。可以使用具有较低膜溶解性的电解质溶液对膜进一步进行 阳极氧化处理，所述电解质溶液例如己二酸、硼酸、硼酸盐、磷酸盐、邻苯二甲酸盐、 马来酸盐、苯甲酸盐、酒石酸盐、柠檬酸盐等。
-底涂层-
底涂层1例如由含有无机颗粒的粘合剂树脂构成。
无机颗粒优选具有的粉末电阻率(体积电阻率)为约102Ω·cm～1011Ω·cm。
具有以上电阻值的无机颗粒的优选实例包括氧化锡、氧化钛、氧化锌、氧化锆等 无机颗粒，并且优选使用氧化锌。
此外，无机颗粒可以是进行了表面处理的无机颗粒。可以将进行不同表面处理的 颗粒或具有不同粒径的颗粒以两种以上组合使用。
无机颗粒的比表面积通过BET分析测定优选为10m2/g以上。
无机颗粒的体均粒径理想的是50nm～2000nm(优选为60nm～1000nm)。
此外，优选同时包含受体化合物和所述无机颗粒。
所述无机颗粒不受特别限制，只要其提供所需特性即可，其优选例包括电子输送 性物质，例如诸如氯醌、溴醌等醌类化合物，四氰基醌二甲烷类化合物，诸如2，4，7- 三硝基芴酮、2，4，5，7-四硝基-9-芴酮等芴酮类化合物，诸如2-(4-联苯基)-5-(4-叔丁基 苯基)-1，3，4-二唑、2，5-双(4-萘基)-1，3，4-二唑、2，5-双(4-萘基)-1，3，4-二唑等二 唑类化合物，呫吨酮类化合物，噻吩化合物和诸如3，3’，5，5’-四叔丁基联苯醌等联苯醌 化合物，并且特别优选的实例包括具有蒽醌结构的化合物。进而更优选的实例包括具 有蒽醌结构的受体化合物，例如羟基蒽醌类化合物、氨基蒽醌类化合物、氨基羟基蒽 醌类化合物，并且其具体实例包括蒽醌、茜素、醌茜、蒽绛酚、红紫素等。
受体化合物的含量不受限制，只要在能够获得所需性质的范围内即可，但是优选 是基于无机颗粒的0.01重量％～20重量％，更优选是0.05重量％～10重量％。
可以简单地将受体化合物加入底涂层形成用涂布液中，或可以将其预先附着到无 机颗粒的表面。
将受体化合物附着到无机颗粒的表面的方法的实例包括湿法和干法。
当根据干法进行表面处理时，在使用具有大剪切力的搅拌器搅拌无机颗粒的同 时，将受体性化合物直接逐滴添加到无机颗粒中或与干燥空气和氮气一起喷射入其 中，或者以受体性化合物溶解在有机溶剂中的溶液的形式滴入或与干燥空气和氮气喷 射入其中。添加或喷射优选在溶剂的沸点以下的温度进行。添加或喷射受体化合物之 后，在100℃以上的温度下进一步烘焙无机颗粒。烘焙可以在任意温度和时间的范围 进行。
此外，在湿法中，利用搅拌、超声波、砂磨机、磨光器、球磨机等将无机颗粒分 散在溶剂中，然后加入受体化合物，并对混合物进行进一步搅拌或分散，随后除去溶 剂，由此对颗粒进行均匀处理。通过过滤或蒸馏除去溶剂。除掉溶剂后，可在100℃ 以上的温度进行烘焙。只要可以获得所需的电子照相特性，则可以在任意温度和时间 的范围内焙烧。在湿法中，在添加表面处理剂之前可除去无机颗粒中含有的水分，例 如，可以通过在表面处理用溶剂中搅拌加热颗粒以除去水分，或通过与所述溶剂共沸 除去来除去水分。
此外，在加入受体化合物之前，可以对无机颗粒进行表面处理。表面处理剂可以 是通过其能够获得所需特性的任何试剂，并且可选自已知材料。所述试剂的实例包括 硅烷偶联剂、钛酸酯(盐)类偶联剂、铝类偶联剂、表面活性剂等。其中，优选使用硅 烷偶联剂，因为该试剂可提供良好的电子照相特性。另外，期望的是使用具有氨基的 硅烷偶联剂。
具有氨基的硅烷偶联剂可以是任何化合物，只要能够获得所需的电子照相感光 体性质即可，并且其具体实例包括但不限于γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-β-(氨基乙 基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、N，N- 双(β-羟乙基)-γ-氨基丙基三乙氧基硅烷等。
此外，硅烷偶联剂可以以两种以上的混合物使用。可与具有氨基的硅烷偶联剂组 合使用的硅烷偶联剂的实例包括但不限于乙烯基三甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙 基-三(β-甲氧基乙氧基)硅烷、β-(3，4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基 丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、γ-巯基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基 三乙氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙 基甲基二甲氧基硅烷、N，N-双(β-羟乙基)-γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、γ-氯丙基三甲氧 基硅烷等。
此外，使用这些表面处理剂进行的表面处理方法可以是任何已知方法，并且可以 使用干法或湿法。可以同时进行受体化合物的添加和使用偶联剂等进行的表面处理。
硅烷偶联剂相对于底涂层1中包含的无机颗粒的量不受限制，只要其是可以获得 所需的电子照相特性的量即可，但相对于所述无机颗粒所述硅烷偶联剂的量优选为约 0.5重量％～10重量％。
此外，底涂层1可以含有粘合剂树脂。
作为底涂层1中含有的粘合剂树脂，可以使用能够形成良好的膜并实现所需性质 的任何已知树脂，并且其实例包括已知的聚合物树脂化合物，例如，诸如聚乙烯醇缩 丁醛等缩醛树脂；聚乙烯醇树脂、酪蛋白、聚酰胺树脂、纤维素树脂、明胶、聚氨酯 树脂、聚酯树脂、甲基丙烯酸树脂、丙烯酸树脂、聚氯乙烯树脂、聚乙酸乙烯酯树脂、 氯乙烯-乙酸乙烯酯-马来酸酐树脂、有机硅树脂、有机硅-醇酸树脂、酚树脂、酚醛树 脂、三聚氰胺树脂、氨基甲酸酯树脂等；和锆螯合物、钛螯合物、铝螯合物、钛醇盐 化合物、有机钛化合物、硅烷偶联剂等。
另外，作为底涂层1中含有的粘合剂树脂，可以使用具有电荷输送性基团的电荷 输送性树脂；和聚苯胺等导电性树脂。其中，优选使用不溶于上层用涂布溶剂的树脂， 并且特别优选使用酚树脂、酚醛树脂、三聚氰胺树脂、基甲酸乙酯树脂、环氧树脂等。 在组合使用这些树脂的情况中，可以按需要确定混合比。
在底涂层形成用涂布液中，其表面上添加有受体化合物的无机颗粒(赋予受体性 质的金属氧化物)与粘合剂树脂之比，或者无机颗粒与粘合剂树脂之比可以在 能够获得所需的电子照相感光体特性的范围内适当确定。
此外，底涂层1中可以使用各种添加剂。
添加剂的实例包括已知材料，所述已知材料包括：诸如缩合多环电子输送颜料或 偶氮类电子输送颜料等电子输送性颜料、锆螯合物、钛螯合物、铝螯合物、钛醇盐化 合物、有机钛化合物、硅烷偶联剂等。如上所述，硅烷偶联剂可用于对无机颗粒进行 表面处理，但是该试剂也可以作为添加剂进一步添加到底涂层形成用涂布液中。
作为添加剂的硅烷偶联剂的具体实例包括乙烯基三甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧 基丙基-三(β-甲氧基乙氧基)硅烷、β-(3，4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、γ-缩水甘油 氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、γ-巯基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基 丙基三乙氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨 基丙基甲基二甲氧基硅烷、N，N-双(β-羟乙基)-γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、γ-氯丙基三 甲氧基硅烷等。
另外，锆螯合物的实例包括丁醇锆、乙酰乙酸乙酯合锆、三乙醇胺锆、乙酰丙酮 酸丁醇锆、乙酰乙酸乙酯合丁醇锆、乙酸锆、草酸锆、乳酸锆、膦酸锆、辛酸锆、环 烷酸锆、月桂酸锆、硬脂酸锆、异硬脂酸锆、甲基丙烯酸丁醇锆、硬脂酸丁醇锆、异 硬脂酸丁醇锆等。
钛螯合物的实例包括钛酸四异丙酯、钛酸四正丁酯、钛酸丁酯二聚体、钛酸四(2- 乙基己基)酯、乙酰丙酮化钛、聚乙酰丙酮化钛、乙醇酸亚辛基酯合钛、乳酸钛的铵 盐、乳酸钛、乳酸钛乙酯、三乙醇胺合钛、多羟基硬脂酸钛等。
铝螯合物的实例包括异丙酸铝、二异丙酸单丁氧基铝、丁酸铝、二异丙酸二乙基 乙酰乙酸铝、三(乙基乙酰乙酸)铝等。
这些化合物可以单独使用或者作为多种化合物的混合物或缩聚物使用。
用于制备底涂层形成用涂布液的溶剂可以合适地选自已知有机溶剂，例如醇类 溶剂、芳香类溶剂、卤代烃类溶剂、酮类溶剂、酮醇类溶剂、醚类溶剂、酯类溶剂 等。
作为溶剂，具体而言，例如，使用常用有机溶剂，例如甲醇、乙醇、正丙醇、异 丙醇、正丁醇、苯甲醇、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、丙酮、甲基乙基酮、环己酮、乙 酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸正丁酯、二烷、四氢呋喃、二氯甲烷、氯仿、氯苯、甲苯 等。
此外，这些溶剂可以单独使用或作为两种以上的混合物使用。当两种以上溶剂混 合时，能够溶解粘合剂树脂的任何混合溶剂可以用作待用溶剂。
作为在制备底涂层形成用涂布液时分散无机颗粒的方法，可以使用诸如辊磨、 球磨、振动球磨、磨光器、砂磨、胶体磨、涂料振荡机等任何已知方法。
另外，作为用于制备底涂层1的涂布方法，使用诸如刮涂法、线棒涂布法、喷涂 法、浸涂法、珠涂法、气刀涂布法、幕涂法等任何种常用方法。
然后，使用这样获得的底涂层形成用涂布液在导电性基体上形成底涂层1。
此外，底涂层1的维氏硬度(Vickers hardness)优选是35以上。
另外，可以将底涂层1的厚度设定为任何厚度，只要能够获得所需性质即可，但 是厚度优选是15μm以上，更优选为15μm～50μm。
此外，将底涂层1的表面粗糙度(10点平均粗糙度)优选调整为激光波长λ的(1/4)n (其中n表示上层的折射率)～(1/2)λ。
还可以向底涂层中添加树脂等颗粒以调整其表面粗糙度。使用的树脂颗粒包括有 机硅树脂颗粒、交联聚甲基丙烯酸甲酯树脂颗粒等。
另外，可以对底涂层的表面进行研磨，以调整其表面粗糙度。作为研磨方法，可 以使用抛光(buffing)、喷砂处理、湿式珩磨、研磨处理等。在使用诸如LED、有机 EL图像阵列等非相干光源时，可以使用平滑表面。
可以通过对涂布在导电性基体4上的底涂层形成用涂布液进行干燥获得底涂层 1，但干燥通常通过在可以形成膜的温度下蒸发溶剂而进行。
-电荷产生层-
电荷产生层2是含有电荷产生材料和粘合剂树脂的层。另外，电荷生成层2可以 作为不含粘合剂树脂的沉积膜形成。特别地，当使用诸如LED、有机EL图像阵列等 非相干光源时，其是优选的。
电荷产生材料的实例包括诸如双偶氮或三偶氮颜料等偶氮颜料、诸如二溴蒽嵌蒽 醌等稠合芳香族颜料、二萘嵌苯颜料、吡咯并吡咯颜料、酞菁颜料、氧化锌和三方硒。 其中，为了对应近红外区中的激光曝光，金属酞菁颜料和非金属酞菁颜料优选用作电 荷产生材料。特别是，优选日本特开平5-263007号公报和日本特开平5-279591号公 报等中等开的镓羟基酞菁、日本特开平5-98181号公报等中公开的镓氯酞菁、日本特 开平5-11172号公报和日本特开平5-11173号公报等中公开的二氯锡酞菁以及日本特 开平4-189873号公报中公开的钛氧基酞菁。此外，对于近紫外区中的激光曝光，更 优选使用诸如二溴蒽嵌蒽醌等稠合芳香族颜料、硫靛类颜料、紫菜嗪化合物、氧化锌、 三方硒、日本特开2004-78147号公报和日本特开2005-181992号公报中公开的双偶 氮颜料。此外，在使用具有450nm～780nm的发光中心波长的LED、有机EL图像 阵列等非相干光源时，可以使用电荷产生材料，不过从分辨率的观点出发，在感光层 用作厚度为20μm以下的薄膜的情况中，感光层中的场强较高，并易于发生由于电荷 从基体注入而导致的带电低下，也就是，称为黑点的图像缺陷。这在使用诸如三方硒、 酞菁颜料等p型半导体的易于产生暗电流的电荷产生材料的情况中变得显著。相反， 在使用诸如稠合芳香族颜料、二萘嵌苯颜料、偶氮颜料等n型半导体的情况中，几乎 不生成暗电流，即使是很薄的膜也能够抑制称为黑点的图像缺陷。已经发现，通过使 用具有450nm～780nm的发光中心波长的LED、有机EL图像阵列等非相干光源形 成平滑基体和底涂层，并进一步使用n型电荷产生材料，可以获得这样的图像：即使 当感光层制成为20μm以下的薄膜时该图像也不会引起图像缺陷，而且长时间内具有 较高的分辨率。n型电荷产生材料的具体实例包括但不限于以下物质。另外，使用通 常使用的飞行时间法由流动的光电流的极性来进行n型的判断，其中作为载流子电子 的流动比空穴更为容易的类型则视为n型。
以上图中Structural Formula表示结构式
电荷产生层2中使用的粘合剂树脂可以选自宽范围的绝缘性树脂，或者选自有机 光导电性聚合物，例如聚-N-乙烯基咔唑、聚乙烯基蒽、聚乙烯基芘、聚硅烷等。粘 合剂树脂的优选例包括聚乙烯醇缩丁醛树脂、聚芳酯树脂(双酚与芳香族二元羧酸的 缩聚物等)、聚碳酸酯树脂、聚酯树脂、苯氧树脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、聚酰 胺树脂、丙烯酸树脂、聚丙烯酰胺树脂、聚乙烯基吡啶树脂、纤维素树脂、氨基甲酸 酯树脂、环氧树脂、酪蛋白、聚乙烯醇树脂、聚乙烯基吡咯烷酮树脂等。这些树脂可 以单独使用或两种以上组合使用。电荷产生材料与粘合剂树脂的混合比 优选是10∶1～1∶10。术语“绝缘性”此处是指体积电阻率为1013Ω·cm以上。
电荷产生层2可以使用电荷产生层形成用涂布液而形成，在所述涂布液中电荷产 生材料和粘合剂树脂分散在给定溶剂中。此外，电荷产生层也可以作为不包含粘合剂 树脂的沉积膜形成，并且特别是，稠合芳香族颜料和二萘嵌苯颜料可优选用于该沉积 膜。
用于分散的溶剂的实例包括甲醇、乙醇、正丙醇、正丁醇、苯甲醇、甲基溶纤剂、 乙基溶纤剂、丙酮、甲基乙基酮、环己酮、乙酸甲酯、乙酸正丁酯、二烷、四氢呋 喃、二氯甲烷、氯仿、氯苯、甲苯等。这些溶剂可以单独使用，也可以两种以上组合 使用。
另外，作为在溶剂中分散电荷产生材料和粘合剂树脂的方法，使用诸如球磨分散 法、磨光器分散法、砂磨分散法等常用方法。通过这些分散方法，可以防止电荷生成 材料的晶型因分散而发生改变。
另外，有效的是，待分散的电荷产生材料的平均粒径为0.5μm以下，优选为0.3μm 以下，更优选为0.15μm以下。
此外，为形成电荷产生层2，使用常用涂布方法，例如刮涂法、迈耶棒(Meyer bar) 涂布法、喷涂法、浸涂法、珠涂法、气刀涂布法、幕涂法等。
如此获得的电荷产生层2的膜厚优选是0.1μm～5.0μm，更优选是0.2μm～2.0μm。
-电荷输送层-
图1中所示的电荷输送层3通过含有电荷输送材料和粘合剂树脂或含有电荷输送 性聚合物材料而形成。
电荷输送材料的实例包括诸如醌类化合物(例如，对苯醌、氯醌、溴醌、蒽醌等)； 四氰基苯醌二甲烷类化合物、芴酮化合物(例如，2，4，7-三硝基芴酮)、呫吨酮类化合物、 二苯甲酮类化合物、氰基乙烯基化合物、乙烯类化合物等电子输送化合物；和诸如三 芳基胺类化合物、联苯胺类化合物、芳基烷烃类化合物、具有芳基取代基的乙烯类化 合物、芪类化合物、蒽类化合物、腙类化合物等空穴输送性化合物。这些电荷输送性 材料可以单独使用，或两种以上组合使用，但并不限于此。
从电荷迁移率的观点出发，电荷输送材料优选为由下式(a-1)表示的三芳基胺衍生 物和由以下式(a-2)表示的联苯胺衍生物。
结构式(a-1)中，R9表示氢原子、甲基、-C(R10)＝C(R11)(R12)或 -CH＝CH-CH＝C(R13)(R14)。l表示1或2。Ar6和Ar7各自独立地表示具有取代基或不 具有取代基的芳基、-C6H4-C(R10)＝C(R11)(R12)或者-C6H4-CH＝CH-CH＝C(R13)R14，并且 R10、R11、R12、R13和R14各自独立地表示氢原子、具有取代基或不具有取代基的烷 基或者具有取代基或不具有取代基的芳基。
此处，各上述基团的取代基的实例包括卤素原子、具有1～5个碳原子的烷基、 具有1～5个碳原子的烷氧基和取代有具有1～3个碳原子的烷基的具有取代基的氨 基。
结构式(a-2)中，R15和R15’各自独立地表示氢原子、卤素原子、具有1～5个碳原 子的烷基或者具有1～5个碳原子的烷氧基。R16、R16’、R17和R17’各自独立地表示氢 原子、卤素原子、具有1～5个碳原子的烷基、具有1～5个碳原子的烷氧基、取代有 具有1或2个碳原子的烷基的氨基、具有取代基或不具取代基的芳基、 -C(R18)＝C(R19)(R20)或者-CH＝CH-CH＝C(R21)(R22)，并且R18、R19、R20、R21和R22各 自独立地表示氢原子、具有取代基或不具取代基的烷基，或者具有取代基或不具取代 基的芳基；并且m和n各自独立地表示0～2的整数。
在由式(a-1)表示的三芳基胺衍生物和由式(a-2)表示的联苯胺衍生物中，优选具有 “-C6H4-CH＝CH-CH＝C(R13)(R14)”的三芳基胺衍生物和具有“-CH＝CH-CH＝C(R21)(R22)” 的联苯胺衍生物，因为它们在电荷迁移率、对保护层的粘附性和防止因早前图像的痕 迹引起的残余图像(下文也称作“重影(ghosting)”)方面优良。
用于电荷输送层3的粘合剂树脂的实例包括聚碳酸酯树脂、聚酯树脂、聚芳酯树 脂、甲基丙烯酸树脂、丙烯酸树脂、聚氯乙烯树脂、聚偏二氯乙烯、聚苯乙烯树脂、 聚乙酸乙烯酯树脂、苯乙烯-丁二烯共聚物、偏二氯乙烯-丙烯腈共聚物、氯乙烯-乙酸 乙烯酯共聚物、氯乙烯-乙酸乙烯酯-马来酸酐共聚物、有机硅树脂、有机硅醇酸树脂、 酚醛树脂、苯乙烯-醇酸树脂、聚-N-乙烯基咔唑、聚硅烷等。可以使用在日本特开平 8-176293号公报和8-208820号公报中描述的聚酯类高分子电荷输送性材料等。其中， 优选聚碳酸酯树脂和聚芳酯树脂。
这些粘合剂树脂可以单独使用或者两种以上组合使用。电荷输送材料与粘合剂树 脂的混合比优选为10∶1～1∶5。
特别是，为了在电荷输送层3上提供包含由含有反应性电荷输送材料和聚碳酸酯 树脂的组合物制得的固化膜的保护层(最外表面层)，优选使电荷输送层3中使用的 粘合剂树脂具有的粘均分子量是50,000以上，更优选是55,000以上。
另外，电荷输送层3中使用的粘合剂树脂的粘均分子量的上限优选是100,000以 下。
此处，本示例性实施方式中粘合剂树脂的粘均分子量是使用毛细管粘度计测量获 得的值。
此外，在最外表面层是电荷输送层的情况中，底涂层中含有的粘合剂树脂的粘均 分子量优选在上述范围内。
此外，作为电荷输送材料，还可以使用高分子电荷输送材料。作为高分子电荷输 送材料，可以使用具有电荷输送性的已知材料，例如聚-N-乙烯基咔唑、聚硅烷等。 特别优选的是日本特开平8-176293号公报和8-208820号公报等公开的聚酯类高分子 电荷输送材料。高分子电荷输送材料可以独立成膜，但是也可以与上述粘合剂树脂混 合从而形成膜。
电荷输送层3可以使用含有上述成分的涂布液来形成。
用于电荷输送层形成用涂布液的溶剂的实例包括常用有机溶剂，例如，诸如苯、 甲苯、二甲苯、氯苯等芳香烃，诸如丙酮、2-丁酮等酮，诸如二氯甲烷、氯仿、二氯 乙烷等卤代脂肪烃，诸如四氢呋喃、乙醚等环醚或直链醚。这些溶剂可以单独使用或 以两种以上组合使用。可以使用已知的方法来使上述成分分散。
为了将电荷输送层形成用涂布液涂布在电荷产生层2上，可以使用常用的涂布方 法，如刮涂法、迈耶棒涂布法、喷涂法、浸涂法、珠涂法、气刀涂布法、幕涂法等。
电荷输送层3的膜厚优选是5μm～50μm，更优选是10μm～30μm。
作为电荷输送层，可以使用本示例性实施方式的表面层材料。
<处理盒和图像形成设备>
下面将描述其中使用了本示例性实施方式的电子照相感光体的处理盒和图像形 成设备。
本示例性实施方式的处理盒配置为能够从图像形成设备上拆卸并且至少包括以 上描述的本示例性实施方式的电子照相感光体作为潜像保持部件，所述图像形成设备 将通过显影位于潜像保持部件表面上的静电潜像而获得的色调剂图像转印至记录介 质从而在记录介质上形成图像。
此外，本示例性实施方式的图像形成设备配置为包括本示例性实施方式的电子照 相感光体、对电子照相感光体进行充电的充电装置、使经充电的电子照相感光体的表 面曝光从而在表面上形成静电潜像的曝光装置、使用显影剂使静电潜像显影以形成色 调剂图像的显影装置和将色调剂图像转移至记录介质的转印装置。另外，本示例性实 施方式的图像形成设备可以是具有多个对应于每种颜色的色调剂的感光体的串联型， 在该情况中，优选的是所有的感光体均为本示例性实施方式的电子照相感光体。另外， 可以使用采用中间转印介质的中间转印方式来转印色调剂图像。
图4是显示本示例性实施方式的图像形成设备的结构示意图。如图4所示，图像 形成设备100包括配备有电子照相感光体7的处理盒300、曝光装置9、转印装置40 和中间转印介质50。另外，在图像形成设备100中，曝光装置9设置成通过处理盒 300的开口照射电子照相感光体7，转印装置40设置成经由中间转印介质50与电子 照相感光体7相对，并且中间转印介质50设置成与电子照相感光体7部分地接触。
图4中的处理盒300一体化地支持处于壳体中的电子照相感光体7、充电装置8、 显影装置11和清洁装置13。清洁装置13具有清洁刮刀(待清洁部件)。清洁刮刀 131被设置成与电子照相感光体7的表面接触。
此外，显示了清洁装置13的实例，该清洁装置13配备有向感光体7的表面上提 供润滑剂14的纤维部件132(辊形)，并且使用了纤维部件133(扁平刷形)以辅助清洁， 不过这些部件可以使用，也可以不使用。
作为充电装置8，例如，可以使用采用导电性或半导电性充电辊、充电刷、充电 膜、充电橡胶刮刀、充电管等的接触型充电装置。还可以使用已知的非接触型充电装 置，例如非接触型辊式充电装置、利用电晕放电的栅极式电晕管(scorotron)或电晕管 充电装置。
此外，虽然未示出，为改善图像的稳定性，可以在电子照相感光体7的周围设置 感光体加热部件，由此增加电子照相感光体7的温度并降低相对湿度。
曝光装置9的实例包括能够使用光对感光体7的表面曝光以形成所需图像的光学 仪器，所述光例如半导体激光、LED光、液晶光阀光等。待使用的光源的波长在感 光体的光谱敏感性区的范围内。作为半导体激光，主要使用在780nm附近具有振荡 波长的近红外光。但是，光源的波长不限于上述波长，还可以使用振荡波长为600nm 量级的激光和振荡波长在400nm～450nm附近的蓝色激光。此外，能够进行多束输 出的面发射型激光光源在形成彩色图像时是有效的。特别是，发光中心波长为450nm～ 780nm的非相干曝光光源对于获得高品质图像而言是优选的。
此外，电子照相感光体中的感光层的总膜厚为20μm以下，曝光装置9优选具有 非相干曝光光源。另外，在更为优选的示例性实施方式中，利用非相干曝光光源曝光 的电子照相感光体表面的曝光光斑的面积为1000μm2以下，非相干曝光光源的发光 中心波长为450nm～780nm。
接下来，描述曝光头。
图10是显示曝光头的图示，图11是显示用曝光头对感光体进行曝光时的状态的 图示。如图10和11所示，各曝光头例如包括有机EL器件阵列(发光元件阵列60B) 和摄像单元(透镜70)。
发光元件阵列60B例如包括由有机EL元件(发光元件60A)构成的发光单元和 其上安装有有机EL元件的安装基板(对应于图10中的发光元件阵列基板61)。
有机EL元件阵列(发光元件阵列60B)和摄像单元(透镜70)通过保持部件保 持为隔开以使发光单元(发光元件60A)与摄像单元的光入射表面70A之间的光学 距离为摄像单元的工作距离。
此处，摄像单元的工作距离是指摄像单元中使用的透镜70的焦点至摄像单元的 入射面70A之间的距离。
另外，在摄像单元中，发光单元发出的光从光入射表面70A入射，并同时从光 发射表面70B输出，从而在预定的位置摄像。也就是，通过在感光体30上拾取发光 元件60A发射的光，感光体30曝光以形成潜像(图11)。
此处，描述有机EL元件阵列(发光元件阵列60B)。
有机EL元件阵列例如可以是所谓的底部发射型，即，将发光单元发射的光引至 安装基板(发光元件阵列基板61)一侧，不过顶部发射型也是可以使用的。
发光单元例如由一组单一的发光元件60A构成。发光单元60A沿着安装基板(发 光单元阵列基板61)的纵向呈线状(串联式)排列或呈Z字形排列，从而构成发光 单元。由一组发光元件60A构成的发光单元至少与感光体30的图像形成区域一样长。
接下来，描述摄像单元(透镜70)。
摄像单元例如由多个透镜的阵列构成，其中排列有复数个棒透镜。作为透镜阵列， 具体而言，例如，最优选使用称为SELFOC透镜阵列(SLA：SELFOC是Nippon Sheet Glass Co.，Ltd.的注册商标)的分布的折光率分散型透镜阵列，不过也可以使用圆柱透 镜的组合。另外，微型透镜可以连接至单个的光源用有机EL元件。
作为显影装置11，可以使用例如其中与磁性或非磁性单组份显影剂或者双成分 显影剂接触或不接触以用于形成图像的常用显影装置。所述显影装置不受特别限制， 只要其具有上述功能即可，并且可根据指定用途进行适当的选择。其实例包括其中使 用刷或辊等将单组份显影剂或双成分显影剂涂抹到感光体7上的已知显影装置。其 中，优选使用使显影剂保持在其表面上的显影辊的显影装置。
下文中，描述显影装置11中使用的色调剂。
本示例性实施方式的图像形成设备中使用的色调剂具有的平均形状系数((ML2/A×π/4×100，其中ML表示颗粒的最大长度，并且A表示颗粒的投影面积)是100～ 150，优选是105～145，更优选是110～140。此外，色调剂的体均粒径优选是3μm～ 12μm，更优选是3.5μm～9μm。
制备色调剂的方法不受具体限制，不过可以使用例如通过以下方法制备的色调 剂：捏合粉碎法，其中混合并捏合粘合剂树脂、着色剂、防粘剂和可选的电荷控制剂 等，并进行粉碎和分级；通过机械冲击力或热能来改变由捏合粉碎法获得的颗粒的形 状的方法；乳液聚合聚集法，其中将通过乳化聚合粘合剂树脂的聚合性单体而得到的 分散液与含有着色剂、防粘剂和可选的电荷控制剂及其他试剂的分散液混合，然后进 行聚集、加热并熔合以获得色调剂颗粒；悬浮聚合法，其中将用于获得粘合剂树脂的 聚合性单体与含有着色剂、防粘剂和可选的电荷控制剂及其他试剂的溶液悬浮在水性 溶剂中并进行聚合；溶解悬浮法，其中使粘合剂树脂和含有着色剂、防粘剂和可选的 电荷控制剂及其他试剂的溶液悬浮在水性溶液中以形成颗粒，等等。
此外，可以使用诸如制备具有核-壳结构的色调剂的方法等已知方法，所述方法 中使用通过上述方法获得的色调剂颗粒作为核，使聚集颗粒进一步附着其，然后进行 加热和融合。此外，作为色调剂颗粒的制备方法，从控制形状和粒径分布的观点出发， 优选在水性溶剂中进行的悬浮聚合法、乳液聚合聚集法和溶解悬浮法，并且特别优选 乳液聚合聚集法。
色调剂母粒优选含有粘合剂树脂、着色剂和防粘剂，并且必要时，还含有二氧化 硅和电荷控制剂。
色调剂母粒中使用的粘合剂树脂的实例包括以下化合物的单聚物或共聚物：诸如 苯乙烯、氯苯乙烯等苯乙烯类；诸如乙烯、丙烯、丁烯、异戊二烯等单烯烃；诸如乙 酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、苯甲酸乙烯酯、丁酸乙烯酯等乙烯酯；诸如丙烯酸甲酯、丙 烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸十二烷基酯、丙烯酸辛酯、丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸 甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸十二烷基酯等α-亚甲基脂肪族 单羧酸酯；诸如乙烯基甲基醚、乙烯基乙基醚、乙烯基丁基醚等乙烯基醚；以及诸如 乙烯基甲基酮、乙烯基己基酮、乙烯基异丙烯基酮等乙烯基酮；和通过将二羧酸与二 醇进行共聚而合成的聚酯树脂。
通常的粘合剂树脂的实例包括聚苯乙烯、苯乙烯-丙烯酸烷基酯共聚物、苯乙烯- 甲基丙烯酸烷基酯共聚物、苯乙烯-丙烯腈共聚物、苯乙烯-丁二烯共聚物、苯乙烯- 马来酸酐共聚物、聚乙烯、聚丙烯、聚酯树脂等。其它实例包括聚氨酯、环氧树脂、 有机硅树脂、聚酰胺、改性松香、石蜡等。
作为色调剂母粒中使用的结晶性树脂，特别优选结晶性聚酯树脂，考虑其熔点时 优选脂肪族结晶性树脂。因为脂肪族结晶性树脂具有的分子间的凝聚力较小，所以还 需要使用防粘剂的防粘效果，这将应用于为进一步提供高光泽图像而降低核层中包含 的粘合剂树脂的粘度的情况。
-粘合剂树脂：(结晶性)聚酯树脂-
色调剂中使用的结晶性聚酯树脂和所有其他的聚酯树脂由多元羧酸成分和多元 醇成分合成。此外，在本示例性实施方式中，作为聚酯树脂，可以使用市售产品，或 者也可以使用合成产品。
多元羧酸成分的实例包括脂肪族二羧酸，如草酸、琥珀酸、戊二酸、己二酸、辛 二酸、壬二酸、癸二酸、1，9-壬烷二羧酸、1，10-癸烷二羧酸、1，12-十二烷二羧酸、1，14- 十四烷二羧酸、1，18-十八烷二羧酸等；二元酸的芳香族二羧酸，如邻苯二甲酸、间苯 二甲酸、对苯二甲酸、萘-2，6-二羧酸、丙二酸、中康酸等等，以及它们的酸酐或低级 烷基酯，不过并不限于此。
三元羧酸或三元以上的羧酸的实例包括1，2，4-苯三羧酸、1，2，5-苯三羧酸、1，2，4- 萘三羧酸及其酸酐和低级烷基酯。这些材料可以单独使用，或两种以上联合使用。
此外，作为酸成分，除了以上的脂肪族二羧酸或芳香族二羧酸之外，还优选包括 具有磺酸基的二羧酸成分。具有磺酸基团的二羧酸成分在使诸如颜料等着色材料能够 更好地分散方面是有效的。此外，当通过在水中将全部树脂乳化或悬浮来制备颗粒时， 磺酸基的存在能够在如下文所述的不使用表面活性剂时进行乳化或悬浮。
具有磺酸基的二羧酸的实例包括2-磺基对苯二甲酸钠、5-磺基间苯二甲酸钠、磺 基琥珀酸钠等，但并不限于此。其他实例还包括其低级烷基酯和酸酐等。基于构成聚 酯的全部羧酸成分，具有磺酸基团的二元或二元以上的羧酸成分的含量为1摩尔％～ 15摩尔％，优选为2摩尔％～10摩尔％。如果含量为1摩尔％以上，获得了乳化颗粒 随时间的稳定性，而如果含量为15摩尔％以下，抑制了聚酯树脂的结晶性的降低以 及在凝集后颗粒的熔合过程中，易于调节色调剂的直径。
此外，更优选的是，除了上述脂肪族二羧酸或芳香族二羧酸之外还包含具有双键 的二羧酸成分。由于可以通过利用其双键进行自由基交联，因此优选使用具有双键的 二羧酸来防止定影步骤时的热污损。该二羧酸的实例包括但不限于富马酸、马来酸、 3-己烯二酸、3-辛烯二酸等。其他实例包括其低级酯及酸酐等。其中，考虑到成本可 以提到包括富马酸、马来酸等。
作为多元醇成分，脂肪族二醇是优选的，并且包含具有7～20个碳原子的链的直 链型脂肪族二醇是更优选的。当脂肪族二醇是直链型时，聚酯树脂的结晶度的下降受 到抑制，且熔点的降低也受到抑制，因此进一步改善了色调剂的抗结块性、图像保存 性及低温定影性。当碳数大于7时，在与芳香族二羧酸缩聚时熔点不会升得过高，因 此获得了低温定影性，而当碳数为20以上时，易于得到该材料。更优选碳原子数为 14以下。
优选在色调剂中使用的结晶聚酯树脂的合成中使用的脂肪族二醇的实例包括，但 不限于乙二醇、1，3-丙二醇、1，4-丁二醇、1，5-戊二醇、1，6-己二醇、1，7-庚二醇、1，8- 辛二醇、1，9-壬二醇、1，10-癸二醇、1，11-十一烷基二醇、1，12-十二烷基二醇、1，13- 十三烷基二醇、1，14-十四烷基二醇及1，18-十八烷基二醇、1，14-二十碳癸烷二醇等。 其中，当考虑易得性时，1，8-辛二醇、1，9-壬二醇及1，10-癸二醇是优选的。
三元醇或三元以上的多元醇的实例包括丙三醇、三羟甲基乙烷、三羟乙基丙烷、 季戊四醇等。这些材料可以单独使用，或两种以上联合使用。
在多元醇成分中，脂肪族二醇成分的含量优选为80摩尔％以上，更优选为90摩 尔％以上。如果脂肪族二醇成分的含量为80摩尔％以上，聚酯树脂结晶性的下降受 到抑制，且熔点的降低也受到抑制。因此，色调剂的抗结块性、图像保存性、低温定 影性得到进一步改善。
另外，必要时为了调整酸值、羟基值等，还可以使用诸如乙酸、苯甲酸等一元酸 和诸如环己醇、苯甲醇等一元醇。
此外，色调剂中使用的结晶性聚酯树脂优选具有的如式(7)所确定的酯浓度为 0.01～0.12：
M＝K/A (7)
式(7)中，M表示酯浓度，K表示结晶性聚酯中的酯基的数目，A表示构成结晶 性聚酯的聚合物链的原子数。
通过将结晶性聚酯的酯浓度抑制为0.01～0.12，能够进一步改善色调剂的抗结块 性、图像保存性和低温定影性，还能够改善带电性。
如果结晶性聚酯的酯浓度为0.01以上，则带电性良好，而且结晶性聚酯的熔点 不会变的过高，抑制低温定影性下降的酯浓度的下限更优选为0.04以上。
此外，如果酯浓度为0.12以下，抑制了带电性的下降，因此，结晶性聚酯的熔 点不致变得过低，并且抑制了定影图像稳定性以及粉末抗结块性的降低。酯浓度的上 限优选为0.10以下。
此外，“酯浓度”是指示结晶性聚酯树脂的聚合物中的酯基的含量比率的一个指 标。换言之，上式中由K表示的“聚合物中的酯基的数目”是指全部聚合物中包含的酯 键的个数。
式(7)中的A表示的“构成聚合物的聚合物链的原子数”是构成聚合物的聚合物链 的原子的总数，这包括参与酯键的所有原子的数目，但不包括其他构成部位的支化部 分的原子数。
也就是说，将来自参与酯键的羧基和醇基的碳原子和氧原子(一个酯键中的氧原 子数为2)，和例如在芳香环中，构成聚合物链的六个碳原子计数以用于计算原子数， 而例如在芳香环或烷基中，构成聚合物链的氢原子或其取代基中的原子或原子群则不 进行计数以用于计算。
-粘合剂树脂：非结晶性聚合物-
用于色调剂的非结晶性聚合物树脂的实例包括传统已知的热塑性粘合剂树脂等， 其具体实例包括诸如对氯苯乙烯、α-甲基苯乙烯等苯乙烯或其衍生物的均聚物或共聚 物(苯乙烯类树脂)；诸如丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸正丙酯、丙烯酸正丁酯、 丙烯酸十二烷基酯、丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙 烯酸正丙酯、甲基丙烯酸十二烷基酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯等具有乙烯基的酯的均 聚物或共聚物(乙烯基类树脂)；诸如丙烯腈、甲基丙烯腈等乙烯基腈类的均聚物或 共聚物(乙烯基类树脂)；诸如乙烯基甲基醚、乙烯基异丁基醚等乙烯基醚类的均聚 物或共聚物(乙烯基类树脂)；诸如乙烯基甲基酮、乙烯基乙基酮、乙烯基异丙烯基 酮等乙烯基酮类的均聚物或共聚物(乙烯基类树脂)；诸如乙烯、丙烯、丁二烯、异 戊二烯等烯烃类的均聚物或共聚物(烯烃类树脂)；和诸如环氧树脂、聚酯树脂、聚 氨酯树脂、聚酰胺树脂、纤维素树脂和聚醚树脂等非乙烯基缩合树脂、这些非乙烯基 缩合树脂与乙烯基类单体的接枝聚合物等。这些树脂可以单独使用或两种以上组合使 用。在这些树脂中，特别优选乙烯基类树脂和聚酯树脂。
在乙烯基类树脂的情况中，使用离子型表面活性剂等进行乳液聚合或晶种聚合， 由此容易制备树脂颗粒分散液，因此这是有利的。乙烯基类单体的实例包括乙烯基类 高分子酸如丙烯酸、甲基丙烯酸、马来酸、肉桂酸、富马酸、乙烯基磺酸、乙撑亚胺、 乙烯基吡啶和乙烯基胺，以及用作乙烯基类高分子碱的原料的单体。
此外，以上的树脂颗粒中优选包含乙烯基类单体作为单体成分。在这些乙烯基类 单体中，为了容易地进行反应以形成乙烯基类树脂优选乙烯基类高分子酸，具体而言， 为了调节聚合度和玻璃化转变点特别优选诸如丙烯酸、甲基丙烯酸、马来酸、肉桂酸 和富马酸等具有羧基作为分离性基团的分离性乙烯基类单体。
此外，通常的着色剂的实例包括诸如磁铁矿和铁氧体等磁性粉末、炭黑、苯胺蓝、 茜油蓝(chalcoyl blue)、铬黄、群青蓝、杜邦油红、喹啉黄、氯化亚甲基蓝、酞菁蓝、 孔雀石绿草酸盐、灯黑、玫瑰红、C.I.颜料红48:1 C.I.颜料红122、C.I.颜料红57:1、 C.I.颜料黄97、C.I.颜料黄17、C.I.颜料蓝15:1、C.I.颜料蓝15:3等。
通常的防粘剂的实例包括低分子量聚乙烯、低分子量聚丙烯、费托蜡、褐煤蜡、 巴西棕榈蜡、米糠蜡、小烛树蜡等。
另外，作为电荷控制剂，可以使用任何已知的试剂，例如偶氮类金属络合物、水 杨酸的金属络合物和具有极性基团的树脂型电荷控制剂。当通过湿法制备法来制备色 调剂时，考虑到控制离子强度和减轻废水污染，可以使用不易溶于水的材料。另外， 色调剂可以是含有磁性材料的磁性色调剂，或不含磁性材料的非磁性色调剂。
通过使用亨舍尔混合机、V型混合器等将上述色调剂母粒和外添剂混合，可制备 显影装置11中使用的色调剂。当通过湿法制备色调剂母粒时，可以通过湿法添加外 添剂。
显影装置11中使用的色调剂可以包含具有氟元素的颗粒。
具有氟元素的颗粒的实例包括氟与石墨结合的氟化碳、聚四氟乙烯树脂(PTFE)、 全氟烷氧基-氟树脂(PFA)、四氟乙烯-六氟丙烯共聚物(FEP)、乙烯-四氟乙烯共聚物 (ETFE)、聚氯三氟乙烯(PCTFE)、聚偏二氟乙烯(PVDF)和聚氟乙烯(PVF)，平均粒径 优选是0.1μm～4μm。此外，可以将具有上述化学结构的颗粒研磨成具有相同粒径 的颗粒。色调剂的添加量优选是0.05重量％～2.0重量％，更优选是0.1重量％～1.5重 量％。如果添加量为0.05重量％以上，摩擦系数不会过高，抑制了重影的产生，而如 果含量为2.0重量％以下时，抑制了极性相反的色调剂的产生。
另外，可以加入润滑剂颗粒。润滑基颗粒的实例包括诸如石墨、二硫化钼、滑石、 脂族酸、脂族酸的金属盐等固体润滑剂，诸如聚丙烯、聚乙烯和聚丁烯等低分子量聚 烯烃，诸如PTEF和PFA等含氟颗粒，加热时具有软化点的有机硅，诸如油酸酰胺、 芥酸酰胺、蓖麻油酸酰胺和硬脂酸酰胺等脂肪族酰胺；诸如巴西棕榈蜡、米糠蜡、小 烛树蜡、日本蜡和霍霍巴油等植物类蜡，诸如蜂蜡等动物类蜡；诸如褐煤蜡、地蜡、 纯白地蜡(ceresine)、石蜡、微晶蜡和费托蜡等矿物和石油类蜡；以及这些材料的改性 产物。它们可以单独使用，也可以两种以上组合使用。润滑剂颗粒的平均粒径优选是 0.1μm～10μm，可以将具有上述化学结构的颗粒研磨成具有相同粒径的颗粒。所述 颗粒在色调剂中的含量优选是0.05重量％～2.0重量％，更优选是0.1重量％～1.5重 量％。
可以向显影装置11中使用的色调剂中加入无机颗粒、有机颗粒、无机颗粒附着 在有机颗粒上的复合颗粒等，以从电子照相感光体的表面除去沉积物或劣化物。
作为无机颗粒，优选使用各种无机氧化物、氮化物、碳化物等，如二氧化硅、氧 化铝、氧化钛、氧化锆、钛酸钡、钛酸铝、钛酸锶、钛酸镁、氧化锌、氧化铬、氧化 铈、氧化锑、氧化钨、氧化锡、氧化碲、氧化锰、氧化硼、碳化硅、碳化硼、碳化钛、 氮化硅、氮化钛、氮化硼等。
此外，可以使用下述物质处理上述无机颗粒：诸如钛酸四丁酯、钛酸四辛酯、异 丙基三异硬脂酰基钛酸酯、异丙基十三烷基苯磺酰基钛酸酯、双(二辛基焦磷酸酯)氧 乙酸酯钛酸酯等钛偶联剂；诸如γ-(2-氨基乙基)氨基丙基三甲氧基硅烷、γ-(2-氨基乙 基)氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、N-β-(N-乙烯 基苯甲基氨基乙基)γ-氨基丙基三甲氧基硅烷盐酸盐、六甲基二硅氮烷、甲基三甲氧基 硅烷、丁基三甲氧基硅烷、异丁基三甲氧基硅烷、己基三甲氧基硅烷、辛基三甲氧基 硅烷、癸基三甲氧基硅烷、十二烷基三甲氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、邻甲基苯基 三甲氧基硅烷、对甲基苯基三甲氧基硅烷等硅烷偶联剂。另外，还优选使用利用有机 硅油、诸如硬脂酸铝、硬脂酸锌和硬脂酸钙等高级脂族酸的金属盐进行疏水化处理的 无机颗粒。
有机颗粒的实例包括苯乙烯树脂颗粒、苯乙烯丙烯酸树脂颗粒、聚酯树脂颗粒、 氨基甲酸酯树脂颗粒等。
以数均粒径计的颗粒直径优选是5nm～1000nm，更优选是5nm～800nm，还更 优选是5nm～700nm。当平均粒径不低于下限值时，颗粒倾向于具有优异的研磨性。 另一方面，当平均粒径不超过上限值时，颗粒倾向于抑制电子照相感光体的表面被擦 伤。上述颗粒和润滑剂颗粒的总含量优选是0.6重量％以上。
作为向色调剂颗粒中添加的其它无机氧化物，考虑到粉末流动性和电荷控制，优 选使用一次粒径为40nm以下的小无机氧化物颗粒，并且考虑到降低粘附性和电荷控 制，优选添加粒径大于所述小无机氧化物的无机氧化物。可以使用已知的无机氧化物 颗粒，但是为了精确的电荷控制，优选组合使用二氧化硅和氧化钛颗粒。
此外，对小无机颗粒进行表面处理增大了分散性并增强了粉末流动性的效果。另 外，还优选添加诸如碳酸钙、碳酸镁等碳酸盐和诸如水滑石和氧化铈等无机矿物以除 去放电产物。
此外，电子照相用彩色色调剂可以与载体组合使用。载体的实例包括铁粉、玻璃 珠、铁氧体粉末、镍粉和表面涂布有树脂的载体。另外，可以适当地确定色调剂与载 体的混合比。
作为清洁残留在感光体上的色调剂的方法，使用利用橡胶刮刀的清洁刮刀法，因 为这能够制造小型化装置。
为改善清洁刮刀的耐磨性，要增添除去放电产物的单元，或者可以增加载体收集 单元以收集伴随着BCO的发生将导致因图像承载部件表面的附着造成的边缘破碎的 微粒载体。BCO是指Bead Carry Over，是指由于静电引力导致部分载体转移至感光 体(图像保持部件)表面的现象。
另外，为了改善清洁刮刀的耐磨性，可以使用高硬度或高模量材料作为与图像保 持部件接触的部分的材料。该高模量材料可以用作单层橡胶刮刀，但一般而言，在某 些情况中耐磨性得到改善但是弹性降低。弹性降低表明由于橡胶状性质丧失，因此伸 长变得困难。因为伸长困难，伴随着BCO的发生，嵌埋在图像保持部件表面中的诸 如载体碎片等异物通过清洁刮刀的边缘与图像保持部件表面之间的接触部分时，异物 追从材料使边缘变形的力，因而在一些情况中为了防止边缘端不能变形，刮刀边缘容 易破碎。
另外，由于高模量(高硬度)材料具有较高的永久伸长，在一些情况中永久应变 (永久变形)可能恶化。因此，如果永久应变的量增大，则不能维持接触压力，结果 在一些情况中可能引起清洁不良。
为防止以上的清洁刮刀的边缘破碎，当异物通过清洁刮刀的边缘与图像保持部件 表面之间的接触部分时，边缘端由允许该边缘端变形(伸长)的低硬度材料构成，这 是有利的。另外，从防止以上的永久应变的观点出发，低硬度材料也是有利的。
然而，由于采用这些低硬度材料会使耐磨性劣化，不能长时间维持清洁性能。
因此，清洁刮刀由与感光体表面接触的第一层和不与感光体表面接触的背面层构 成，并且第一层的材料优选满足下式(1)～(3)：
式(1)3.92≤M≤29.42
式(2)0＜α≤0.294
式(3)S≥250
(式(1)～(3)中，M表示100％模量(MPa)，α表示在应力-应变曲线上，从100％ 应变至200％应变，应力的变化(Δ应力)与应变量的变化(Δ应变量)的比率{Δ应力/Δ应 变量＝(应变量为200％时的应力-应变量为100％时的应力)/(200-100)}(MPa/％)，S表示 根据JIS K6251(使用哑铃型#3试验片)测定的断裂伸长率(％))。
此处，清洁刮刀可具有将作为背面层的第二层设置在与待清洁部件的表面接触的 第一层的背侧上的双层构成，或包括诸如第二层、第三层等多层的背面层设置在第一 层的背侧的构成。另外，下文中，还将详细描述具有包括第一层和作为背面层的第二 层的双层构成的清洁刮刀。
-第一层-
由于与待清洁部件表面接触的第一层的材料满足式(1)，因此刮刀显示良好的清 洁性能并且具有优异的耐磨性。
如果100％模量M为3.92MPa(40kgf/cm2)以上，则获得耐磨性，以及维持长期 的良好的清洁性能。另一方面，如果100％模量M为29.42MPa(300kgf/cm2)以下， 则第一层的材料不致过硬，清洁刮刀具有相对于待清洁部件随动的性能，并发挥了良 好的清洁性。另外，抑制了待清洁部件表面的受损。
此外，100％模量M优选为5MPa～20MPa，更优选为6.5MPa～15MPa。
此外，由于第一层的材料满足式(2)和(3)，因此抗破裂性优异。
如果式(2)中所示的α为0.294以下，则获得了第一层材料的挠性。因此，当BCO 发生时，诸如嵌入、固着在图像保持部件表面上的异物等存在于待清洁部件表面上的 异物，特别是嵌入、固着在图像保持部件表面上的异物，反复通过待清洁部件与清洁 刮刀之间的接触部分，因而即使当对清洁刮刀第一层的边缘端反复施加经受较高应 力，该应力也能够以有效地分散的方式变形，因而在相对较短的时间内抑制了边缘破 碎。因此，由于抑制了早期破碎，从而长期维持了优异的清洁性能。
另外，α优选为0.2以下，更优选为0.1以下，α优选更接近于作为物理下限值的 0。
当式(3)中所示的断裂伸长率S为250％以上时，即使待清洁部件表面上的异物以 强力碰撞第一层的边缘端时，也能够抑制在相对较短时间内的边缘破碎。因而，由于 抑制了在相对较短时间内的边缘破碎，从而长期维持了优异的清洁性能。
另外，断裂伸长率S优选为300％以上，更优选为350％以上。考虑到边缘破碎， 优选较大的断裂伸长率S。然而，当断裂伸长率S为500％以下时，对带清洁部件表 面的追从性(粘附性)不致过大，并且抑制了与待清洁部件的摩擦力的增大，从而抑制 了第一层边缘端的磨耗(边缘磨耗)。因而，考虑到边缘磨耗，断裂伸长率S优选为 500％以下，更优选为450％以下，进一步更优选为400％以下。
此外，图像形成设备的清洁刮刀周围的周边温度，即，使用时的环境温度适宜地 约为10℃～60℃。因而，当与待清洁部件表面接触的第一层的材料的玻璃化转变温 度Tg不高于使用时的环境温度时，清洁刮刀保持其橡胶状性质，由此维持了清洁刮 刀的接触压力。因而，第一层的材料的玻璃化转变温度Tg优选为不超过使用时的环 境温度的下限值(10℃)。
另外，当与待清洁部件表面接触的第一层的材料的玻璃化转变温度Tg为10℃以 下时，由于玻璃化转变温度Tg较低，所述材料的回弹性R减小。因此，如果回弹性 R为10％以上，第一层边缘端的粘着和滑动行为不致过缓，抑制了在与表面接触时维 持一定的变形状态的同时摩擦待清洁部件表面的部分的出现。
当经变形的形状被粘着和滑动行为解除时，在维持第一层的边缘端形状的同时边 缘端不摩擦表面，由此抑制了出现局部的塑性变形。当抑制该局部的塑性变形的产生 时，第一层的边缘端与待清洁部件的表面之间的粘附性的降低受到抑制，从而抑制了 清洁不良的发生。为了抑制该局部的塑性变形，优选粘着和滑动行为总是在第一层的 边缘端出现。为了使粘着和滑动行为总是在第一层的边缘端出现，在温度为10℃(该 温度基本为使用时环境温度的下限值)以上的环境中，回弹性R优选为10％以上，更 优选为15％以上，进一步更优选为20％以上。
另外，回弹性R根据上述的JIS K6255(1996)测定。
此外，式(1)中所示的模量M根据JIS K6251(1993)用哑铃型#3试验片在500mm/min 的拉伸速度下测定并由100％应变时的应力得到。作为测量装置，使用由Toyo Seiki Seisakusho，Ltd.制造的STROGRAPH AE ELASTOMER。
另外，式(2)中所示的α值由应力-应变曲线获得。应变量和应力通过下述步骤和 方法得到。即，根据JIS K6251(1993)，用哑铃型#3试验片在500mm/min的拉伸速度 下进行测量，α由100％应变和200％应变时的应力得到。作为测量装置，使用由Toyo Seiki Seisakusho，Ltd.制造的STROGRAPH AE ELASTOMER。
此外，在本发明的一个方面中，与待清洁部件表面接触的第一层的材料的玻璃化 转变温度和后述的软链段材料及硬链段材料的玻璃化转变温度在使用粘弹计测定温 度分散之后，作为tanδ(损耗角正切)的峰值温度而确定。
此处，tanδ的值由下述的存储弹性模量及损耗弹性模量得到。当将作为平稳振动 的正弦波应变施加于线性弹性体时，应力由式(4)表示。
|E*|称为复合弹性模量。此外，根据流变学理论，弹性体成分和粘性体成分分别 以式(5)和式(6)表示。在所述式中，E’表示存储弹性模量且E”表示损耗弹性模量。δ 表示应力与应变之间的相位差角，并称为“力学损耗角”。
tanδ的值由式(7)中所示的E”/E’表示，并称为“损耗角正切”。当损耗角正切较高 时，线性弹性部件具有接近于橡胶弹性的性质。
式(4)σ＝|E*|γcos(ωt)
式(5)E’＝|E*|cosδ
式(6)E”＝|E*|sinδ
式(7)tanδ＝E”/E’。
tanδ的值在-60℃～100℃的温度范围内在5％的静应变和10Hz的正弦波拉伸振 动下用RHEOPECTROLER DVE-V4(由Rheology Co.，Ltd.制造)测定。
如上所述，清洁刮刀中所使用的第一层的材料同时具有优异的耐磨性和耐破碎 性，并维持了良好的清洁性能。
因此，当发生BCO时，也不必为了对诸如嵌入、固着在图像保持部件表面上的 异物等存在于待清洁部件表面上的异物，特别是嵌入和固着在该表面上的异物，作出 响应而在图像形成设备内布置的用于改善耐磨性或耐破碎性的单独装置，因而，能够 避免装置的大型化及成本的增加。
另外，由于清洁刮刀的使用寿命增加，因此易于实现配备有清洁刮刀的处理盒或 清洁装置的较长使用寿命，并易于实现维持成本的下降。特别是，如果配备有具有改 善的表面耐磨性的图像保持部件和清洁刮刀二者的处理盒或清洁装置，上述优点能够 得到进一步增强。
满足式(1)～(3)的材料不受特别限制，只要其是弹性体材料即可。不过，具体而 言该材料可以是包含硬链段和软链段的弹性体材料。当弹性体材料同时包含硬链段和 软链段时，弹性体材料易于满足式(1)～(3)所定义的物理性质，并能够同时以高水平 实现较高的耐磨性和较高的耐破碎性。
此外，“硬链段”和“软链段”是指构成前者的材料比构成后者的材料相对更硬和构 成后者的材料比构成前者的材料相对更软。
包含硬链段和软链段的弹性体材料的玻璃化转变温度优选为-50℃～30℃，更优 选为-30℃～10℃。如果玻璃化转变温度为30℃以下，则在一些情况中在实际使用清 洁刮刀的温度范围内能够防止清洁刮刀易碎。而如果玻璃化转变温度为-50℃以上， 则在实际使用的温度范围内获得足够的硬度和应力。
因而，为了实现上述玻璃化转变温度，构成弹性体材料的硬链段的材料(下文中 有时称为“硬链段材料”)的玻璃化转变温度优选为30℃～100℃，更优选为35℃～ 60℃，构成弹性体材料的软链段的材料(下文中有时称为“软链段材料”)的玻璃化转变 温度优选为-100℃～-50℃，更优选为-90℃～-60℃。
此外，在使用具有所述玻璃化转变温度的硬链段材料和软链段材料的情况中，硬 链段材料与硬链段材料和软链段材料的总重量的重量比(以下有时称为“硬链段材料 比”)优选为46重量％～96重量％，更优选为50重量％～90重量％，进一步更优选为 60重量％～85重量％。
如果硬链段材料比为46重量％以上，则确保了第一层边缘端的耐磨性，并抑制 了磨耗的发生，因而，在一些情况中能够长期维持良好的清洁性能。如果硬链段材料 比为96重量％以下，则第一层的边缘端不致过硬，且获得了挠性和可伸长性，并且 进而抑制了破碎的发生，因此能够长期维持良好的清洁性能。
硬链段材料和软链段材料的组合不受特别限制，材料可以选自常规已知的树脂材 料以使一种材料比另一种材料相对更硬，不过优选下列组合。
也就是说，作为硬链段材料，优选使用聚氨酯树脂。在该情况中，聚氨酯树脂的 重均分子量优选为1,000～4,000，更优选为1,500～3,500。
在重均分子量为1,000以上的情况中，由于构成硬链段的聚氨酯树脂的弹性减小， 在低温环境下使用清洁刮刀时抑制了清洁不良。另一方面，在重均分子量为4,000以 下的情况中，构成硬链段的聚氨酯树脂的永久应变不致变得过高，第一层的边缘端能 够维持对待清洁部件的接触压力。结果，抑制了清洁不良。
此外，将用作硬链段材料的聚氨酯树脂的实例包括由Daicel Chemical Industries， Ltd.制造的PLACCEL 205和PLACCEL 240等。
另外，清洁刮刀施加的压力优选设定为1.7gf/mm～6.5gf/mm，更优选为2.0gf/mm～ 6.0gf/mm。如果压力在下限值以上，则即使使用高硬度刮刀也能够抑制色调剂的清 洁不良，而若压力为上限值以下，则与感光体的摩擦不会过于严重，因此抑制了扭矩 的增大、感光体的磨耗、因刮刀边缘的破碎造成的条纹的生成、与感光体的摩擦导致 的重影的产生等。
转印装置40的实例包括已知的转印充电器，例如，使用带、辊、膜、橡胶刮刀 等的接触式转印充电器，和利用电晕放电的栅极式电晕管转印充电器、电晕管转印充 电器等。
作为中间转印介质50，使用被赋予半导电性的诸如聚酰亚胺、聚酰胺酰亚胺、 聚碳酸酯、聚芳酯、聚酯、橡胶等带状物。另外，除了带的形式之外，中间转印介质 50还可以采取鼓的形式。
除了上述的装置之外，图像形成设备100还可以配备有例如对感光体7进行光- 除电的光除电装置。
图5是显示使用本示例性实施方式的电子照相感光体的处理盒的串联型图像形 成设备120的示例性实施方式的示意性截面图。
图5是显示本示例性实施方式的图像形成设备的另一示例性实施方式的图(示意 性截面图)。图像形成设备120是配备有四个处理盒300的串联型全色图像形成设备。 在图像形成设备120中，四个处理盒300在中间转印装置50上彼此平行地配置，一 个电子照相感光体可用于一种色彩。此外，图像形成设备120除了是串联型之外，具 有与图像形成设备100相同的构成。
当将本示例性实施方式的电子照相感光体用于串联型图像形成设备时，四个感光 体的电性质是稳定的，这可以长期提供具有优良色平衡的高图像品质。
此外，在本示例性实施方式的图像形成设备(处理盒)中，显影装置(显影单元) 优选包括作为显影剂保持体的显影辊，其在与电子照相感光体的行进方向(旋转方向) 相反的方向移动(旋转)。例如，显影辊具有用于将显影剂保持在其表面上的圆柱状 显影套管，而且显影装置还具有控制部件用以控制供给至显影套管的显影剂的量。当 显影装置的显影辊沿着与电子照相感光体的旋转方向相反的方向移动(旋转)时，电 子照相感光体的表面被显影套管和电子照相感光体之间持有的色调剂摩擦。
另外，在本示例性实施方式的图像形成设备(处理盒)中，从长期防止放电产物 沉积的观点考虑，显影套管与感光体之间的间隔优选为200μm～600μm，更优选为 300μm～500μm。此外，显影套管与控制刮刀(用于控制显影剂的量的控制部件) 之间的间隔优选为300μm～1000μm，更优选为400μm～750μm。
此外，显影辊表面的绝对移动速度(处理速度)优选为感光体表面的移动速度的1.5 倍～2.5倍，更优选为1.7倍～2.0倍。
另外，在本示例性实施方式的图像形成设备(处理盒)中，显影装置(显影单元) 包括具有磁性物质的显影剂保持体，并优选用含有磁性载体和色调剂的双组分显影剂 来显影静电潜像。
[有机EL器件]
接下来，描述有机EL器件。
本示例性实施方式的有机EL器件具有通过使用其中溶解有由通式(1)’表示的含 有硫醇基的电荷输送材料的溶解液而形成的膜。
在用作有机EL器件或太阳能电池时，可以以单层或多层中使用，而且可用于任 何层中。
作为有机EL器件的一个例子，将参考附图详细描述有机电致发光元件。
图7～9是显示本示例性实施方式的有机电致发光元件的实施方式的示意性截面 图，其中21表示基板，22表示阳极，23表示空穴注入层，24表示空穴输送层，25 表示发光层，26表示电子输送层，并且27表示阴极，但是，元件的构造不限于此。
基板21是有机电致发光元件的支持体，并且使用石英、玻璃板、金属板、金属 箔、塑料膜、片材等。特别地，优选玻璃板或诸如聚酯、聚甲基丙烯酸酯、聚碳酸酯、 聚砜等透明合成树脂基板。
在使用合成树脂板的情况下，需要注意气体阻隔性。为此，其中在合成树脂基板 的一侧或两侧设置致密的二氧化硅膜的方法也是优选方法之一。
阳极22设置在基板21上。阳极22起将空穴注入空穴注入层23的作用。该阳极 22通常由诸如铝、金、银、镍、钯、铂等金属、铟和/或锡的氧化物等金属氧化物、 水、诸如碘化亚铜等金属卤化物或炭黑等形成。在许多情况下阳极22的形成通常通 过溅射法或真空沉积法等形成。另外，将诸如银等金属颗粒、碘化亚铜等的颗粒、炭 黑或导电性金属氧化物的颗粒等合适地分散于粘合剂树脂溶液中，并涂布在基板21 上以形成阳极22。阳极22还可通过其他材料的层压形成。
阳极22的厚度根据所需的透明性而不同，不过通常更优选更高的透明性，因此 可见光的透射率通常是60％以上，优选是80％以上，此时厚度通常是10nm～1000nm， 优选是20nm～500nm。
在阳极不透明的情况中，例如，阳极可以设置有金属沉积膜等以用于例如来自一 端的激光振荡或在两个电极之间反射的目的，或者基板21也可以用在阳极22中。另 外，其他的导电性材料也可以层压在阳极22上。
在图7～9的元件结构中，正如本示例性实施方式通常所例示的，在阳极22上设 置空穴注入层23。
在本示例性实施方式中，通过使用由通式(1)’表示的含有硫醇基的电荷输送材料 而形成的层通过真空沉积法或涂布法形成，而且在固化的情况中，优选涂布法。例如， 将描述使该层作为空穴注入层而形成的情况作为实例。
向预定量的由通式(1)’表示的含有硫醇基的电荷输送材料中，必要时可以加入不 用作空穴陷阱的粘合剂树脂、涂布性改良剂、链聚合性单体、低聚物等。也优选使用 在末端具有烷氧基甲硅烷基的电荷输送材料，并且出于各种目的，可以添加其它硅烷 偶联剂、铝偶联剂、钛酸盐(酯)偶联剂等。制备其中溶解有这些化合物的涂布液，通 过诸如旋涂法和浸涂法等将涂布液涂布在阳极22上，并且进行干燥以形成空穴注入 层23。
由此形成的空穴注入层23的厚度通常是5nm～3000nm，优选是10nm～2000nm。
在空穴注入层23上设置发光层25。发光层25中，从在提供有电致发光的电极 之间的阴极27注入的电子和传输自空穴注入层23的空穴以高效地再结合，并进一步 由通过再结合而有效的发光材料形成发光层25。满足该条件的材料的实例包括8-羟 基喹啉的铝络合物(日本特开昭59-194393号公报)、10-羟基苯并[h]喹啉的金属络合物 (日本特开平6-322362号公报)、双苯乙烯基苯衍生物(日本特开平1-245087号公报和 日本特开平2-222484号公报)，双苯乙烯基亚芳基衍生物(日本特开平2-247278号公 报)、(2-羟基苯基)苯并噻唑的金属络合物(日本特开平8-315983号公报)、噻咯衍生物 等。
这些有机发光层材料通常通过真空沉积法或涂布法层压在空穴注入层23上。在 使用涂布法的情况中，优选使用基本上不溶解空穴注入层23的溶剂，但是在本示例 性实施方式中，在底涂层为三维交联的情况中，对溶剂的耐受性高，因此可以从广泛 范围选择溶剂。
出于提高元件的发光效率并同时改变所发出光的颜色，使装置以8-羟基喹啉的铝 络合物作为主体材料，并例如掺杂有诸如香豆素等激光荧光染料(J.Appl.Phys.，第 65卷，第3610页，(1989))。
例如，主体材料可以是诸如8-羟基喹啉的铝络合物等金属络合物，并基于该主体 材料掺杂0.1重量％～10重量％的诸如红荧烯等萘并萘衍生物(日本特开平4-335087 号公报)、喹吖啶酮衍生物(日本特开平5-70773号公报)、诸如二萘嵌苯等稠合多环芳 香环(日本特开平5-198377号公报)。以萘并萘衍生物、喹吖啶酮衍生物、或诸如二萘 嵌苯等荧光染料掺杂发光层的主体材料的方法包括共沉积法和事先以预定浓度混合 沉积源的方法。
如上所述，聚合性发光层材料的实例包括诸如聚(对苯乙烯撑)、聚[2-甲氧基-5-(2- 乙基己氧基)-1，4-苯乙烯撑]、聚(3-烷基噻吩)等聚合物材料、以及通过使发光材料和电 子转移材料与诸如聚乙烯咔唑等聚合物混合而得到的系统。
与空穴注入层23相似，通过诸如旋涂法和浸涂法等方法将这些材料涂布在空穴 注入层上以形成薄膜，并且在使用涂布法的情况中，优选使用基本上不溶解空穴注入 层23的溶剂，但是在示例性实施方式中，在底涂层为三维交联的时，对溶剂的耐受 性高，因此溶剂可以广泛选择。
由此形成的发光层25的膜厚是10nm～200nm，优选是30nm～100nm。
进行功能分离型操作时，例如，如图8所示，空穴输送层24设置在空穴注入层 23和发光层25之间，或者如图9所示，电子输送层26设置在发光层25和阴极27 之间。在图8和9的功能分离型元件中，作为用于空穴输送层24的材料，优选具有 来自空穴注入层23的高空穴注入效率以及能够有效的输送所注入的空穴的材料。空 穴输送材料的实例包括例如是连接有1，1-双(4-二-对甲苯基氨基苯基)环己烷等的叔芳 香胺的芳香族二胺化合物(日本特开昭59-194393号公报)、含有至少两个叔胺的具有 取代有至少两个稠合芳香环的氮原子的并以4，4′-双[N-(1-萘基)-N-苯基氨基]联苯为代 表的芳香族胺(日本特开平5-234681号公报)、为三苯基苯衍生物并具有星爆结构的芳 香族三胺(美国专利第4,923,774号)、诸如N，N′-二苯基-N，N′-双(3-甲基苯基)联苯基 -4，4′-二胺等芳香族二胺(美国专利第4,764,625号)、作为整个分子而言空间上不对称 的三苯基胺衍生物(日本特开平4-129271号公报)、在芘基上取代有多个芳香二氨基的 化合物(日本特开平4-175395号公报)、具有通过亚乙基连接的叔芳香胺单元的芳香族 二胺(日本特开平4-264189号公报)、诸如N，N′-二苯基-N，N′-双(3-甲基苯基)联苯基 -4，4′-二胺等在芘基上取代有多个芳香族二氨基团的化合物、具有苯乙烯基结构的芳香 族二胺(日本特开平4-290851号公报)、具有其中通过噻吩基连接的芳香叔胺单元的苯 乙烯基结构的芳香族二胺(日本特开平4-304466号公报)、星爆型芳香族三胺(日本特 开平4-308688号公报)、苄基苯基化合物(日本特开平4-364153号公报)、由通过芴基 连接的叔胺构成的化合物(日本特开平5-25473号公报)、三胺化合物(日本特开平 5-239455号公报)、双联吡啶基氨基联苯(日本特开平5-320634号公报)、N，N，N-三苯 基胺衍生物(日本特开平6-1972号公报)、具有吩嗪结构的芳香族二胺(日本特开平 7-138562号公报)、二氨基苯基菲啶衍生物(日本特开平7-252474号公报)、硅氮烷化 合物(美国专利第4,950,950号)、二甲硅基二甲胺(silanamine)衍生物(日本特开平 6-49079号公报)、膦胺衍生物(日本特开平6-25659号公报)等。按照需要，这些化合 物可以单独使用或以两种以上的混合物使用。除了上述的化合物之外，用于空穴输送 层24的材料的实例还包括聚乙烯咔唑或聚硅烷、聚磷腈 (日本特开平5-310949号公报)、聚酰胺(日本特开平5-310949号公报)、聚乙烯基三苯 基胺(日本特开平7-53953号公报)、具有三苯基胺骨架的聚合物(日本特开平4-133065 号公报)和含有芳香族胺的聚甲基丙烯酸酯等聚合物材料。
通过气相沉积法或涂布法将空穴输送材料层压在空穴注入层23上以形成空穴输 送层24。在涂布法的情况中，必要时可以将粘合剂树脂、和诸如涂布性改良剂等添 加剂加入到一种或两种以上的空穴输送材料中，溶解以制备涂布液，然后通过诸如旋 涂法等方法涂布在空穴注入层23上，并进行干燥以形成空穴输送层24。在使用涂布 法的情况中，优选使用基本上不溶解空穴注入层23的溶剂，不过在本示例性实施方 式中，在底涂层是三维交联的情况中，对溶剂的耐受性高，因此溶剂可以从广泛范围 中选择。
此处，粘合剂树脂的实例包括聚碳酸酯、聚芳酯、聚酯等。因此，粘合剂树脂的 添加量通常优选为50重量％以下。
在使用真空沉积法情况中，将空穴输送材料放入设置在真空容器中的坩埚内。用 合适的泵将真空容器抽至约10-4Pa的压力。然后对坩埚进行加热，使空穴输送材料 蒸发，从而在与坩埚相对设置的基板21上形成空穴输送层24，所述基板21具有阳 极22和形成在其上的空穴注入层23。由此形成的空穴输送层24的膜厚是10nm～ 300nm，优选是30nm～100nm。
一般而言，通常使用真空沉积法。
此外，对用于电子输送层26的化合物的要求是电子容易从阴极27注入，因此具 有较高的电子输送能力。电子输送材料的实例如上文作为发光材料所描述，包括括 8-羟基喹啉的铝络合物、二唑衍生物(Appl.Phys.Lett.，第55卷，第1489页，1989)、 分散于诸如聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)等树脂中的系统、菲咯啉衍生物(日本特开平 5-331459号公报)、2-叔丁基-9，10-N，N′-二氰基蒽醌二亚胺、n-型氢化非晶碳化硅、n- 型硫化锌、n-型硒化锌等。
电子输送层26的膜厚通常是5nm～200nm，优选是10nm～100nm。
阴极27起将电子注入发光层25的功能。作为用作阴极27的材料，使用用于阳 极22的材料。但是，为了有效的注入电子，优选具有较小功函的金属，可以使用的 合适金属例如是锡、镁、铟、钙、铝、银等或其合金。其具体实例包括具有诸如镁银 合金、镁铟合金、铝锂合金等低功函合金的电极。
阴极27的膜厚通常在如以上描述阳极22时所提及的范围内。
出于保护由低功函金属形成的阴极27的目的，有效的是层压具有较高功函并且 在大气中稳定的金属层。为此目的，使用诸如铝、银、铜、镍、铬、金、铂等金属。 此外，以下方法也是有效的：向发光层25或电子输送层26与阴极27之间的界面处 插入由LiF、MgF2或Li2O等制成的超薄绝缘膜(0.1nm～5nm)(Appl.Phys.Lett.，第70 卷，第152页，1977；日本特开平10-74586号公报；IEEE Trans.Electron.Devices， 第44卷，第1245页，1997)。
图7～9各自是本示例性实施方式中采用的元件结构的一个实例，但本示例性实 施方式不限于这些描述中的任一种。例如，可以使用与图7相反的结构，即，在基板 21上依次层压阴极27、发光层25、空穴注入层23和阳极22，并且如上所述，在两 个基板(其中一个更为透明)之间可以设置本示例性实施方式的有机电致发光元件。 此外，使用图8和9中所示的那些，各构成层还可以按照相反的结构进行层压。形成 其中用诸如树脂、金属等材料进行密封并保护免受大气或水腐蚀的密封层也是有效 的，或提供能够使元件本身在真空系统中工作的结构也是有效的。
实施例
下文中，将描述实施例和比较例，不过本发明并不限于以下实例。此外，除非另 作说明，以下的“份”基于重量份。
[实施例I-1：化合物(13)的合成]
向500ml烧瓶中，装入20g由以下结构式(A)表示的化合物、15g 3-巯基丙酸、 0.5g对甲苯磺酸和200ml甲苯，随后用氮气置换空气，然后，在用迪安-斯脱克分水 器(Dean-Stark trap)除去生成的水的同时加热回流10小时。反应后，残留物用碳酸钾 水溶液洗涤、用蒸馏水洗涤、再用硅胶柱色谱进行纯化，由此获得23g为油状物的 化合物(13)。
图12中显示了所得的化合物(13)的IR光谱。
[实施例I-2：化合物(29)的合成]
向500ml烧瓶中，装入20g由以下结构式(B)表示的化合物、15g 3-巯基丙酸、 0.5g对甲苯磺酸和200ml甲苯，随后用氮气置换空气，然后，在用迪安-斯脱克分水 器除去生成的水的同时加热回流10小时。反应后，残留物用碳酸钾水溶液洗涤、用 蒸馏水洗涤、再用硅胶柱色谱进行纯化，由此获得20g为油状物的化合物(29)。
图13中显示了所得的化合物(29)的IR光谱。
[实施例I-3：化合物(14)的合成]
向500ml烧瓶中，装入20g由结构式(A)表示的化合物、15g 2-巯基丙酸、0.5g 对甲苯磺酸和200ml甲苯，随后用氮气置换空气，然后，在用迪安-斯脱克分水器除 去生成的水的同时加热回流10小时。反应后，残留物用碳酸钾水溶液洗涤、用蒸馏 水洗涤、再用硅胶柱色谱进行纯化，由此获得26g为油状物的化合物(14)。
图14中显示了所得的化合物(14)的IR光谱。
[实施例I-4]
<感光体的制备>
(底涂层的制备)
将100份氧化锌(平均粒径70nm：由Tayca Corporation制造：比表面积值为15 m2/g)与500份四氢呋喃搅拌混合，向其添加1.3份硅烷偶联剂(KBM503，由Shin-Etsu Chemical Co.，Ltd.制造)，然后搅拌2小时。然后，将甲苯减压蒸馏出，在120℃烘 焙3小时，从而获得用硅烷偶联剂表面处理过的氧化锌。
将110份经表面处理的氧化锌与500份四氢呋喃搅拌混合，向其添加通过将1.0 份茜素溶解在50份四氢呋喃中而获得的溶液，然后在50℃搅拌5小时。然后，通过 减压过滤分离添加有茜素的氧化锌，并在60℃减压干燥，从而获得添加有茜素的氧 化锌。
将38份通过将60份添加有茜素的氧化锌、13.5份固化剂(封端异氰酸酯，Sumidur 3175，由Sumitomo-Bayer Urethane Co.，Ltd.制造)和15份丁缩醛树脂(S-LEC BM-1， 由Sekisui Chemical Co.，Ltd.制造)溶解在85份甲基乙基酮中而制备的溶液与25份甲 基乙基酮混合，随后通过使用利用1mmφ玻璃珠的砂磨机进行分散2小时以获得分散 液。
向得到的分散液中添加作为催化剂的0.005份的二月桂酸二辛基锡和45份有机 硅树脂颗粒(Tospal 145，由GE Toshiba Silicone Co.，Ltd.制造)以获得底涂层用涂布液。 通过浸涂法将该涂布液涂布在直径为30mm、长度为340mm、厚度为1mm的铝基 材上，并在170℃的温度干燥固化40分钟而获得厚度为18μm的底涂层。
(电荷产生层的制备)
使用利用1mmφ玻璃珠的砂磨机，将包括15份的作为电荷产生物质的在CukαX 射线的X射线衍射谱中至少在为7.3°、16.0°、24.9°和28.0°的布拉格角(2θ±0.2°)处具 有衍射峰的羟基镓酞菁、10份作为粘合剂树脂的氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物树脂 (VMCH，由Nippon Unicar Co.，Ltd.制造)和200份乙酸正丁酯的混合物分散4小时。 向所获得的分散液中添加175份乙酸正丁酯和180份甲基乙基酮，然后搅拌以获得电 荷产生层用涂布液。将该电荷产生层用涂布液涂浸涂到底涂层，并在常温(20℃)干 燥，以形成膜厚为0.2μm的电荷产生层。
(电荷输送层的制备)
将40份N，N′-二苯基-N，N′-双(3-甲基苯基)-[1，1′]联苯基-4，4′-二胺(TPD)、10份N，N- 双(3，4-二甲基苯基)联苯基-4-胺和55份双酚Z聚碳酸酯树脂(PC(Z)：粘均分子量为 60,000)溶解在800份氯苯中，以获得电荷输送层用涂布液。将该涂布液涂布在电荷 产生层上，然后在130℃的温度干燥45分钟，以形成膜厚为15μm的电荷输送层。
(表面层的制备)
将10份化合物(13)、10份三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(A-TMPT，由Shinnakamura Chemical Co.，Ltd.制造)和0.2份OTazo-15(由Otsuka Chemical Co.，Ltd.，制造，分子量 为354.4)溶解在30份环戊醇中，然后通过喷涂涂布在电荷输送层上。使该涂层在室 温(20℃)风干30分钟，在氧浓度为200ppm的氮气下以10℃/分钟的速率由室温加 热至150℃，加热处理在150℃进行1小时以进行固化，由此形成膜厚为10μm的保 护层，由此制得实施例I-4的电子照相感光体。
<图像品质的评价>
将根据以上描述制造的电子照相感光体安装在富士施乐株式会社制造的 ApeosPort-III C4400上，并在低温低湿(8℃，20％RH)和高温高湿(30℃，85％RH)连续 进行以下评价。
首先，在低温低湿环境(8℃，20％RH)下对10000页普通纸(纸P，由富士施乐株 式会社制造(A4大小，横向给纸))进行图像形成测试，并评价第10000页纸的图像品 质(以下的重影、雾化、条纹和图像劣化)。评价在低温低湿环境(8℃，20％RH)下 放置24小时后的第一页纸的图像品质。结果显示在表I-2中。
在评价了低温低湿环境下的图像品质之后，在高温高湿环境(30℃，85％RH)下对 10000页纸进行图像形成测试，并评价第10000页纸的图像品质。然后，评价在高温 高湿环境(30℃，85％RH)下放置24小时后的第一页纸的图像品质。结果显示在表I-3 中。
(重影的评价)
如图6(A)中所示，打印字母G的图案和图像浓度为50％的灰色区域的图表，通 过目视观察评价字母G在50％的灰色区域中出现的状态。
A：程度为从良好至略微可见，如图6(A)所示。
B：略微可见，如图6(B)所示。
C：清晰可见，如图6(C)所示。
(雾化的评价)
使用与重影评价相同的样品，通过目视观察评价色调剂与白色区域的粘附程度。
A：良好。
B：显现了轻微雾化。
C：显现了对图像品质具有破坏效果的雾化。
(条纹的评价)
使用与重影评价相同的样品，通过目视观察评价条纹。
A：良好。
B：显现了部分条纹。
C：显现了对图像品质具有破坏效果的条纹。
(图像劣化的评价)
使用与重影评价相同的样品，目视观察评价图像劣化。
A：良好。
B：在连续打印测试过程中未发生问题，但是将样品放置一天(24小时)后显现了 图像劣化。
C：连续打印测试过程中显现了图像劣化。
<残留电势的评价>
通过以下方法测定残留电势，并评价打印测试前后的残留电势的增量。将电势传 感器安装在富士施乐株式会社制造的ApeosPort-III C4400上，并且测量在低温低湿 (8℃，20％RH)下进行打印测试前的电子照相感光体表面上的残留电势。接下来，在 低温低湿(8℃，20％RH)下进行10000页的打印测试之后立即测量低温低湿(8℃， 20％RH)下的电子照相感光体表面上的残留电势。初期的残留电势与10000页打印测 试之后的残留电势的差(10000页打印测试后的残留电势-初期的残留电势)视为增量。
<保护层的粘附性评价>
使用切刀将图像形成测试后的感光体切割成2mm见方的5×5块，将3M胶接带 贴附到块状物上并将其剥离，并计数残留块的数量，由此评价保护层的粘附性。
结果显示在表I-2中。
A：残留块为21个以上。
B：残留块为11～20个。
C：残留块为10个以下。
<保护层的磨耗量的评价>
利用涡流测定装置(FISCHERSCOPE MMS)测量初期的感光体膜厚以及在低温低 湿(8℃，20％RH)环境下和高温高湿(30℃，85％RH)环境下完成图像形成测试之后的 膜厚，并且评价磨耗量。
[实施例I-5]
直到电荷输送层为止的制备过程以与实施例I-4描述的相同的方式进行。
(表面层的制备)
将10份化合物(13)、10份三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(A-TMPT，由Shin Nakamura Chemical Co.，Ltd.制造)和0.5份1-羟基环己基苯基酮(Irgacure 184，由Ciba Specialty Chemicals Inc.制造)溶解在30份环戊醇中，然后通过喷涂涂布在电荷输送层上。涂层 在室温(20℃)风干30分钟，然后在氧浓度为200ppm的氮气下进行光照射，条件 如下：金属卤化物灯160W/cm，照射距离120mm，照射强度500mW/cm2，照射时 间60秒，由此固化该涂布膜。所述膜在130℃进一步干燥20分钟以形成膜厚为5μm 的表面层，由此制备实施例I-5的感光体。通过实施例I-4中描述的方法对其进行评 价。
[实施例I-6]
直到电荷输送层为止的制备过程以与实施例I-4描述的相同的方式进行。
(表面层的制备)
将10份化合物(13)和10份三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(A-TMPT，由Shin Nakamura Chemical Co.，Ltd.制造)溶解在30份环戊醇中，然后通过喷涂涂布在电荷输送层上。 涂层在室温(20℃)风干30分钟，然后在氧浓度为20ppm的氮气下以300rpm的速 度旋转感光体的同时进行电子束照射，条件如下：照射距离为30mm，电子束加速电 压为90kV，电子束电流为2mA，电子束照射时间为1.0秒。照射之后立即在氧浓度 为20ppm的氮气下于150℃进行加热并保持这些条件10分钟的同时完成固化反应， 以形成膜厚为5μm的表面层，由此制备实施例I-6的感光体。通过实施例I-4中描述 的方法对其进行评价。
[实施例I-7～I-18]
除了将实施例I-4中的化合物(13)变成表I-1中所示的那些化合物之外，以与实施 例I-4中所述的相同的方法制备感光体，并对其进行评价。
[比较例I-1]
将实施例I-4中的电荷输送层的厚度变为25μm，并且不形成表面层，由此获得 比较例1的感光体，并且通过实施例I-4中描述的方法对其进行评价。
[比较例I-2]
除了将实施例I-4中的化合物(13)变成具有以下结构式的化合物(C)之外，以与实 施例I-4中所述的相同的方法制备感光体，并对其进行评价。
表I-1
如表I-2和I-3中所示，采用实施例的电子照相感光体，抑制了在长期反复使用 后的图像品质的降低。
[实施例I-19]
<有机EL器件的制备>
使用等离子体洗涤机(由SAMCO International，Inc.制造，BP1)利用氧等离子体洗 涤设置有膜厚为150nm的ITO膜的玻璃基板30秒。
将通过使10份化合物(13)、5份三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(A-TMPT，由Shin Nakamura Chemical Co.，Ltd.制造)和0.2份OTazo-15(由Otsuka Chemical Co.，Ltd.，制 造，分子量为354.4)溶解在50份氯甲烷中获得的溶液以300rpm的转速旋涂，然后在 氧浓度为150ppm的氮气下于160℃加热1小时以进行固化，由此形成厚膜为600nm (通过触针型膜厚测定设备测定)的空穴注入层。
接下来，将作为发光层用材料的三(8-羟基喹啉)铝(Alq)真空沉积在空穴注入层上 至厚度为50nm，然后在其上沉积镁/银合金阴极至厚度为200nm，以制备有机EL 器件。
<评价>
使用有机EL元件的ITO电极作为阳极，镁-银合金电极作为阴极，施加7V直 流电，通过以下方法确定电流密度。同时，通过以下方法测量亮度。另外，通过以下 方法测量工作1000小时后的亮度，结果显示在表I-4中。
此外，使用有机EL发光效率测定装置(由Tokyo Instruments，Inc.制造)在调节 至25℃的测量条件下测量电流密度、电压和亮度。
此外，当用于显示器或激光时，有机EL元件需要高电流注入，因而电流密度和 亮度在7V的施加电压下测量，另外在以7V的施加电压驱动1000小时后测量亮度。
[实施例I-20～I-28]
除了将化合物(13)变成表I-4中所示的那些化合物之外，以与实施例I-19中所述 的相同的方法测定有机EL元件，并对其进行评价。结果显示在表I-4中。
[比较例I-3]
除了应用其中真空沉积N，N′-二苯基-N，N′-双(3-甲基苯基)-[1，1′]联苯基-4，4′-二胺 (TPD)至600nm膜厚的空穴注入层代替实施例I-19中使用化合物(13)形成的空穴注入 层之外，以与实施例I-19中描述的相同的方法测定有机EL元件，并对其进行评价。 结果显示在表I-4中。
表I-4
如表I-4中所示，由实施例的有机EL元件获得了长期具有稳定性的发光特性。
<感光体的制备>
随后描述用于制备感光体中的各层的方法。
(底涂层的制备)
[底涂层1]
将100份氧化锌(平均粒径70nm：由Tayca Corporation制造：比表面积15m2/g) 与500份四氢呋喃搅拌混合，向其添加1.3份硅烷偶联剂(KBM503，由Shin-Etsu Chemical Co.，Ltd.制造)，然后搅拌2小时。然后，将甲苯减压蒸馏出，在120℃烘焙 3小时，从而获得用硅烷偶联剂表面处理过的氧化锌。
将110份经表面处理的氧化锌与500份四氢呋喃搅拌混合，向其添加通过将1.0 份茜素溶解在50份四氢呋喃中而获得的溶液，然后在50℃搅拌5小时。然后，通过 减压过滤分离添加有茜素的氧化锌，并在60℃减压干燥，从而获得添加有茜素的氧 化锌。
将38份通过将60份添加有茜素的氧化锌、13.5份固化剂(封端异氰酸酯，Sumidur 3175，由Sumitomo-Bayer Urethane Co.，Ltd.制造)和15份丁缩醛树脂(S-Lec BM-1， 由Sekisui Chemical Co.，Ltd.制造)溶解在85份甲基乙基酮中而制备的溶液与25份甲 基乙基酮混合，随后通过使用利用1mmφ玻璃珠的砂磨机进行分散2小时以获得分散 液。
向得到的分散液中添加作为催化剂的0.005份的二月桂酸二辛基锡和45份有机 硅树脂颗粒(Tospal 145，由GE Toshiba Silicone Co.，Ltd.制造)以获得底涂层用涂布液。 通过浸涂法将该涂布液涂布在直径为30mm、长度为340mm、厚度为1mm的铝基 材上，并在170℃的温度干燥固化40分钟而获得厚度为18μm的底涂层。形成的底 涂层的外表面的表面粗糙度(中心线平均粗糙度)Ra是0.3μm。
[底涂层2]
除了不添加45份有机硅树脂颗粒(Tospal 145，由GE Toshiba Silicone Co.，Ltd.制 造)外，以与底涂层1中描述的相同的方法形成底涂层2。形成的底涂层的外表面的表 面粗糙度(中心线平均粗糙度)Ra是0.1μm。
[底涂层3]
将由10份有机锆化合物(商品名：Organotex ZC540，由Matsumoto Fine Chemical Co.，Ltd.制造)、2份硅烷偶联剂(商品名：A1110，由Nippon Unicar Co.，Ltd.制造)、 30份异丙醇和30份正丁醇所形成的涂布液通过浸涂法涂布在直径为30mm、长度为 340mm、厚度为1mm的铝基材上，并在150℃干燥固化5分钟以形成膜厚为0.1μm 的底涂层。形成的底涂层的外表面的表面粗糙度(中心线平均粗糙度)Ra是0.05μm。
(电荷产生层的制备)
[电荷产生层1]
使用利用1mmφ玻璃珠的砂磨机，将包括15份的作为电荷产生物质的在CukαX 射线的X射线衍射谱中至少在为7.3°、16.0°、24.9°和28.0°的布拉格角(2θ+0.2°)处具 有衍射峰的羟基镓酞菁、10份作为粘合剂树脂的氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物树脂 (VMCH，由Nippon Unicar Co.，Ltd.制造)和200份乙酸正丁酯的混合物分散4小时。 向所获得的分散液中添加175份乙酸正丁酯和180份甲基乙基酮，然后搅拌以获得电 荷产生层用涂布液。将该电荷产生层用涂布液浸涂到底涂层，并在100℃干燥5分钟， 以形成膜厚为0.2μm的电荷产生层。
[电荷产生层2]
将45g经升华提纯的二溴蒽嵌蒽醌颜料(CG-25，由Clariant GmbH制造，n型有 机颜料)连同12个20-mmφ的玛瑙球一起装入容量为0.25L的由玛瑙制成的容器中， 并以行星式球磨机(Fritsch P-5)进行研磨。在圆盘旋转速度(转数)为235rpm和罐的 旋转速度(转数)为50rpm的研磨条件下进行研磨8小时。将10份二溴蒽嵌蒽醌颜 料、5份氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物树脂(VMCH，由Nippon Unicar Co.，Ltd.制造)与100 份环己酮混合，并使用利用1-mmφ玻璃珠的砂磨机分散4小时。将300份环己酮添 加至得到的分散液中，随后进行搅拌，以获得电荷产生层用涂布液。将该电荷产生层 用涂布液浸涂至底涂层，在100℃干燥5分钟以形成膜厚为0.5μm的电荷产生层。
[电荷产生层3]
通过Varian Model 3117型真空涂布机将经升华提纯的二溴蒽嵌蒽醌颜料(CG-25， 由Clariant GmbH制造，n型有机颜料)沉积成厚度为0.1μm的膜，以在底涂层上形成 电荷产生层。此外，在钽舟中以350℃加热CG-25，并使真空涂布机的压力降至10-3Pas。 另外，将基板放置在距舟16cm的位置，并以使光激发层以6埃/秒的速率附着。
[电荷产生层4]
将二苯并咪唑二萘嵌苯颜料(CG-19，由富士施乐株式会社，制造，n型有机颜料) 进行升华提纯。使用行星式球磨机(使用44个20mmφ玛瑙球，和3个25-mmφ玛瑙球， 玛瑙罐的内径为10mmφ)研磨10g升华提纯后的二苯并咪唑二萘嵌苯颜料27小时。 得到的微粉化的二苯并咪唑二萘嵌苯颜料在X射线衍射光谱中的6.2°、12.3°和27.0° 处显示了强峰，并且粒径为0.04μm×0.08μm～0.05μm×0.1μm。将10份二苯并咪 唑二萘嵌苯颜料、5份氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物树脂(VMCH，由Nippon Unicar Co.， Ltd.制造)与100份环己酮混合，使用利用1-mmφ玻璃珠的砂磨机分散4小时。将300 份环己酮添加至得到的分散液中，随后进行搅拌，以获得电荷产生层用涂布液。将该 电荷产生层用涂布液浸涂至底涂层，在100℃干燥5分钟以形成膜厚为0.5μm的电荷 产生层。
[电荷产生层5]
通过Varian Model 3117型真空涂布机将经升华提纯的二苯并咪唑二萘嵌苯颜料 (CG-19，由富士施乐株式会社，制造，n型有机颜料)沉积成厚度为0.1μm的膜，以在 底涂层上形成电荷产生层。此外，在钽舟中以350℃加热CG-19，并使真空涂布机的 压力降至10-3Pas。另外，将基板放置在距舟16cm的位置，并以使光激发层以4埃/ 秒的速率附着。
[电荷产生层6]
使10份双偶氮颜料(CG-4，由富士施乐株式会社，制造，n型有机颜料)、5份氯 乙烯-乙酸乙烯酯共聚物树脂(VMCH，由Nippon Unicar Co.，Ltd.制造)与100份环己酮 混合，使用利用1-mmφ玻璃珠的砂磨机分散4小时。将300份环己酮添加至得到的 分散液中，随后进行搅拌，以获得电荷产生层用涂布液。将该电荷产生层用涂布液浸 涂至底涂层，在100℃干燥5分钟以形成膜厚为0.5μm的电荷产生层。
[电荷产生层7]
使10份双偶氮颜料(CG-8，由富士施乐株式会社，制造，n型有机颜料)、5份氯 乙烯-乙酸乙烯酯共聚物树脂(VMCH，由Nippon Unicar Co.，Ltd.制造)与100份环己酮 混合，使用利用1-mmφ玻璃珠的砂磨机分散4小时。将300份环己酮添加至得到的 分散液中，随后进行搅拌，以获得电荷产生层用涂布液。将该电荷产生层用涂布液浸 涂至底涂层，在100℃干燥5分钟以形成膜厚为0.5μm的电荷产生层。
[电荷产生层8]
使10份双偶氮颜料(CG-11，由富士施乐株式会社，制造，n型有机颜料)、5份氯 乙烯-乙酸乙烯酯共聚物树脂(VMCH，由Nippon Unicar Co.，Ltd.制造)与100份环己酮 混合，使用利用1-mmφ玻璃珠的砂磨机分散4小时。将300份环己酮添加至得到的 分散液中，随后进行搅拌，以获得电荷产生层用涂布液。将该电荷产生层用涂布液浸 涂至底涂层，在100℃干燥5分钟以形成膜厚为0.5μm的电荷产生层。
(电荷输送层的制备)
[电荷输送层1]
将40份N，N′-二苯基-N，N′-双(3-甲基苯基)-[1，1′]联苯基-4，4′-二胺(TPD)、10份N，N- 双(3，4-二甲基苯基)联苯基-4-胺和55份双酚Z聚碳酸酯树脂(PC(Z)：粘均分子量为 60,000)添加至800份氯苯中并在其中溶解，以获得电荷输送层用涂布液。将该涂布 液涂布在电荷产生层上，然后在130℃干燥45分钟，以形成膜厚为15μm的电荷输 送层。
[电荷输送层2]
除了将N，N′-二苯基-N，N′-双(3-甲基苯基)-[1，1′]联苯基-4，4′-二胺(TPD)的量设为25 份，并将以下结构式(C)的电荷输送材料的量设为20份之外，以与电荷输送层1描述 的相同的方法形成电荷输送层2。
(表面层的制备)
[固化方法：热固化]
将10份化合物(13)(含有硫醇基的电荷输送材料)、12份三羟甲基丙烷三丙烯酸 酯(A-TMPT，由Shinnakamura Chemical Co.，Ltd.制造，具有不饱和键的化合物)和0.2 份OTazo-15(由Otsuka Chemical Co.，Ltd.，制造，分子量为354.4，聚合引发剂)溶解在 30份环戊醇中，然后通过喷涂涂布在电荷输送层上。涂布层在室温(20℃)风干30 分钟，在氧浓度为200ppm的氮气下以10℃/分钟的速率由室温(20℃)加热至150℃， 然后在150℃进行加热处理1小时以进行固化，由此形成膜厚为5μm的保护层。
另外，在热固化的情况中，将材料的类型和比例变为表II-1～II-5中所示的数值， 然后在这些条件下进行固化。
[固化方法：光固化]
将10份化合物(13)(含有硫醇基的电荷输送材料)、12份三羟甲基丙烷三丙烯酸 酯(A-TMPT，由Shinnakamura Chemical Co.，Ltd.制造，具有不饱和键的化合物)和0.5 份1-羟基环己基苯基酮(Irgacure 184，由Ciba Specialty Chemicals Inc.制造，聚合引发 剂)溶解在30份环戊醇中，然后通过喷涂涂布在电荷输送层上。涂层在室温(20℃) 风干30分钟，然后在氧浓度为200ppm的氮气下进行光照射，条件如下：金属卤化 物灯160W/cm，照射距离120mm，照射强度500mW/cm2，照射时间60秒，从而 固化该涂布膜。所述膜在130℃进一步干燥20分钟以形成膜厚为5μm的表面层。另 外，在光固化的情况中，将材料的类型和比例变为表II-1中所示的数值，然后在这些 条件下进行固化。
[固化方法：电子束固化]
将10份化合物(13)(含有硫醇基的电荷输送材料)和12份三羟甲基丙烷三丙烯 酸酯(A-TMPT，由Shinnakamura Chemical Co.，Ltd.制造，具有不饱和键的化合物)溶 解在30份环戊醇中，然后通过Tsukiage涂布法涂布在电荷输送层上。涂布层在室温 (20℃)风干30分钟，然后在氧浓度为20ppm的氮气下以300rpm的速度旋转感光 体的同时进行电子束照射，条件如下：照射距离为30mm，电子束加速电压为90kV， 电子束电流为2mA，电子束照射时间为1.0秒。照射之后即刻在氧浓度为20ppm的 氮气下于150℃进行加热并保持这些条件10分钟的同时完成固化反应，以形成膜厚 为5μm的表面层。
另外，在电子束固化的情况中，将材料的类型和比例变为表II-1和II-2中所示的 数值，然后在这些条件下进行固化。
[感光体1～35的制备]
通过使用表II-1和II-2中描述的适用的底涂层、电荷产生层和电荷输送层，并进 一步使用表I-1和II-2中描述的表面层形成用材料(含有硫醇基的电荷输送材料、具 有不饱和键的化合物、添加剂和聚合引发剂)的种类和比例以及表面层的固化方法， 制备感光体1～35。
[感光体36～57的制备]
通过使用表II-3中描述的适用的底涂层和电荷产生层，而不形成电荷输送层，并 进一步使用表II-3中描述的表面层形成用材料(含有硫醇基的电荷输送材料、具有不 饱和键的化合物、添加剂和聚合引发剂)的种类和比例以及表面层的固化方法，制备 感光体36～57。
此外，表面层的膜厚为18μm。
[比较用感光体1～13的制备]
通过使用表II-4中描述的适用的底涂层、电荷产生层和电荷输送层，并进一步使 用表II-4中描述的表面层形成用材料(具有不饱和键的化合物、添加剂和聚合引发剂) 的种类和比例以及表面层的固化方法，制备比较用感光体1～13。
[比较用感光体14～26的制备]
通过使用表II-5中描述的适用的底涂层和电荷产生层，而不形成电荷输送层，并 进一步使用表II-5中描述的表面层形成用材料(具有不饱和键的化合物、添加剂和聚 合引发剂)的种类和比例以及表面层的固化方法，制备比较用感光体14～26。
此外，在以上的表中，缩写如下：
·A-TMPT：三羟甲基丙烷三丙酸酯，由Shin Nakamura Chemical Co.，Ltd制造
·OTazo-15：由Otsuka Chemical Co.，Ltd.，制造，分子量为354.4
·Irgacure 184：1-羟基环己基苯基酮，由Ciba Specialty Chemicals Inc.制造
·PTFE：Lubron L2，由Daikin Industries Ltd.制造
<图像品质的评价>
将根据以上描述制造的电子照相感光体安装在富士施乐株式会社制造的 ApeosPort-III C4400(最初的曝光装置发光波长：780nm的红外激光，曝光光斑：65μm ×55μm，面积：3600μm2(定义为对应峰值的1/e2的宽度))改造机上，然后在低温 低湿(8℃，20％RH)和在高温高湿(30℃，85％RH)下连续进行下列评价。
[评价装置-1]
不改变曝光装置，使用平均粒径为3.8μm的色调剂作为显影剂。
[评价装置-2]
使用发光波长为780nm的LED图像棒和面积为30μm×50μm，以及1500μm2(定义为对应峰值的1/e2的宽度))，根据图像的分辨率来调节曝光装置，从而制备驱 动电路。作为显影剂，使用平均粒径为3.8μm的色调剂。
[评价装置-3]
使用发光波长为580nm的有机EL图像棒、曝光光斑为20μm×20μm，面积： 400μm2(定义为对应峰值的1/e2的宽度))，根据图像的分辨率来调节曝光装置，从 而制备驱动电路。作为显影剂，使用平均粒径为3.8μm的色调剂。
有机EL图像棒如下制备。如图10所示，在作为基板的玻璃基板上形成其上使 ITO(铟锡氧化物)以20μm宽和20μm间距图案而图案化的阳极。接下来，通过旋涂 法将作为空穴注入层的PEDOT/PSS(聚乙烯二氧噻吩/聚磺苯乙烯)涂布至厚度为10nm。 另外，通过旋涂法将通过使MEH-PPV以1重量％溶解在单氯苯中得到的涂布液涂布 在发光层上，以制备厚度为80nm的膜。最后，使用开口宽度为20μm的掩模，依 次沉积作为阴极的Ca和作为反射层的Al，从而与曝光光源用阳极垂直。由此形成了 沿着主要扫描方向X配置的多个曝光用有机EL元件。在玻璃基板(实施基板)的制 备有发光元件阵列的一侧，SLA与玻璃基板(实施基板)隔开，并通过SLA保持部 件实现，以使有机电致发光元件(发光单元)与SLA的光入射面之间的光学距离为 摄像单元的工作距离。
由此，制备了感光体中的录写光斑的尺寸为20μm且曝光中心波长为580nm的 曝光头。
[实施例II-1]
使用感光体-1和评价装置-1，进行以下打印测试。
首先，在低温低湿(8℃，20％RH)环境下进行10000页纸的图像形成测试，并评 价第10000页纸的图像品质(以下的重影、雾化、对感光体表面的附着和图像劣化)。 然后，评价在低温低湿(8℃，20％RH)环境下放置24小时后的第一页纸的图像品质。
结果显示在表II-6～II-8中。
在评价了低温低湿环境下的图像品质之后，在高温高湿环境(30℃，85％RH)下进 行10000页纸的图像形成测试，并评价第10000页纸的图像品质。然后，评价在高温 高湿环境(30℃，85％RH)下放置24小时后的第一页纸的图像品质。
结果显示在表II-9～II-11中。
(重影的评价)
如图6A中所示，打印字母G的图案和图像浓度为50％的灰色区域的图表，通过 目视观察评价字母G在50％的灰色区域中出现的状态。
A：程度为从良好至略微可见，如图6A所示。
B：略微可见，如图6B所示。
C：清晰可见，如图6C所示。
(雾化的评价)
使用与重影评价相同的样品，通过目视观察评价色调剂与白色区域的粘附程度。
A：良好。
B：显现了轻微雾化。
C：显现了对图像品质具有破坏效果的雾化。
(对感光体表面的附着的评价)
使用与重影评价相同的样品，通过目视观察评价对感光体表面的附着。
A：良好。
B：图像上显现出部分条纹，用已经浸透异丙醇的布轻轻擦拭感光体的表面可以 修复。
C：显现了对图像品质具有破坏效果的条纹，因此即使用已经浸透异丙醇的布轻 轻擦拭感光体的表面也无法修复。
(图像劣化的评价)
使用与重影评价相同的样品，通过目视观察评价图像劣化。
A：良好。
B：在连续打印测试时未发生问题，但是将样品放置一天(24小时)后观察到图像 劣化。
C：连续打印测试时显现出图像劣化。
<显影电势稳定性的评价>
通过以下方法测量显影电势，并对其进行评价。
拆下ApeosPort-III C4400的显影单元，并在其中安装静电计。然后，将低温低湿 (8℃，20％RH)下的打印测试的初期的显影电势设定为250V。之后，在低温低湿(8℃， 20％RH)以及高温高湿(30℃，85％RH)下完成打印测试之后，再次拆下显影单元，并 在其中安装静电计。然后，测量在低温低湿(8℃，20％RH)下的显影电势。
<保护层的粘附性评价>
使用切刀将图像形成测试后的感光体切割成2mm见方的5×5块，将3M胶接带 贴附到块状物上并将其剥离，并计数残留块的数量，由此评价保护层的粘附性。
结果显示在表II-6～II-8中。
A：残留块为21个以上。
B：残留块为11～20个。
C：残留块为10个以下。
<磨耗量的评价>
利用涡流测定装置(Fischerscope MMS)测量初期的感光体的膜厚以及在低温低湿 (8℃，20％RH)环境下和高温高湿(30℃，85％RH)环境下完成图像形成测试之后的膜 厚，由此评价磨耗量。
[实施例II-2～II-59]
使用表II-6～II-8中描述的感光体和评价装置的组合，以与实施例II-1相同的方 法进行评价。结果显示在表II-6～II-11中。
特别是，使用评价装置-3的那些，光斑尺寸很小，获得了极为精细的图像品质。 另外，由于对于干涉条纹的控制不是必需的，因此即使感光层较薄也不易发生雾化， 而且能够长期获得稳定的图像。
[比较例II-1～II-26]
使用表II-12和II-13中描述的比较用感光体和评价装置的组合，以与实施例II-1 相同的方法进行评价。结果显示在表II-12～II-15中。
[参考例II-1和II-2]
使用感光体7和感光体9与评价装置1的组合，以与实施例II-1相同的方法进行 评价。结果显示在表II-16和II-17中。此外，除了表II-16和II-17中显示的评价项目 之外，还观察到干涉条纹的发生。
如以上表中所示，采用实施例的电子照相感光体，抑制了长期反复使用后的图像 品质的降低。
提供对本发明示例性实施方式的前述描述是为了说明和描述的目的。并非试图穷 尽本发明所披露的精确形式或将本发明限制于所披露的精确形式。显然，许多改进和 变化对于本领域技术人员是显而易见的。选择并描述所述实施方式是为了能够最好地 解释本发明的原理及其实际用途，由此使得本领域的其他技术人员能够理解适用于预 计的特定用途的本发明的各种实施方式和各种改进方案。本发明的范围由下述权利要 求及其等同物所限定。
机译： 含硫醇基的电荷输送材料，含硫醇基的电荷输送材料溶解溶液，光电转换装置，电子照相感光体，图像形成装置和处理盒
机译： 化合物，电荷输送膜，光电转换装置和使用该化合物的电子照相感光体，电子照相感光体的制造方法，处理盒和图像形成装置
机译： 化合物，电荷输送膜，光电转换装置，电子照相感光体，处理盒和图像形成设备
