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绝缘膜形成用涂布液、使用该涂布液的绝缘膜及该涂布液中使用的化合物的制造方法

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本发明提供在水蒸气中的焙烧工序中的收缩小、不易发生二氧化硅覆膜的龟裂或与半导体基板的剥离的绝缘膜形成用涂布液、使用该涂布液的绝缘膜及该涂布液中使用的化合物的制造方法。该绝缘膜形成用涂布液具有无机聚硅氮烷和有机溶剂，在所述无机聚硅氮烷的

著录项

公开/公告号CN102575013A

专利类型发明专利
公开/公告日2012-07-11

原文格式PDF
申请/专利权人株式会社ADEKA;
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申请/专利号CN201080044829.1
发明设计人原宪司;小林纯;横田洋大;森田博;斋藤诚一;
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申请日2010-10-01
分类号
代理机构北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人刘新宇
地址日本东京都
入库时间 2023-12-18 06:00:04

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2014-05-14

发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C08G77/62 申请公布日:20120711 申请日:20101001

发明专利申请公布后的视为撤回
2012-11-07

实质审查的生效 IPC(主分类):C08G77/62 申请日:20101001

实质审查的生效
2012-07-11

公开

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