用于Western印迹的纳米纤维膜及其制备方法

摘要

本发明涉及用于Western印迹的纳米纤维膜及其制备方法，例如，该用于Western印迹的纳米纤维膜的三维开放式孔通道结构的平均孔径为0.1μm至1.0μm且厚度为30μm至200μm，该用于Western印迹的膜通过使由电纺丝获得的平均纤维直径为50nm至1000nm的纳米纤维经过热板压延过程而制备。所述方法包括如下步骤：将疏水性材料溶解于溶剂中以制备纺丝溶液；使该纺丝溶液经过纺丝过程以获得疏水性聚合物纳米纤维网；以及压延获得的纳米纤维网以获得用于Western印迹的膜。