电波透过性装饰膜以及使用该装饰膜的装饰部件

摘要

本发明提供一种电波透过性装饰膜以及使用该装饰膜的装饰部件，该电波透过性装饰膜具有电波透过性以及如镜面般的金属光泽，而所述金属光泽难以丧失，该电波透过性装饰膜延伸成型性优良且成本较低。上述装饰部件在基体的表面设置有装饰膜(1)，该装饰膜(1)具有：第1高分子膜(12)、第2高分子膜(16)、以及通过物理蒸镀硅和金属的合金而形成的存在于这些高分子膜之间的光反射层(14)。

说明书

技术领域

本发明涉及具有金属光泽的电波透过性装饰膜以及使用该装饰膜的 装饰部件。

本申请基于并要求2009年3月17日在日本提出的专利申请2009- 64568号的优先权，并将其内容引用于此。

背景技术

便携式电话的壳体、开关按钮，时钟的壳体，以及汽车的前格栅、保 险杠、面板等，从外观设计性方面，多使用金属色调的装饰部件，特别是 具有镜面那样的金属光泽的装饰部件。

而且，作为所述装饰部件，由于下述的理由等，需要透射电波(微波 等)且不对电波造成影响的装饰部件。

(i)在便携式电话的壳体内部配置有发送、接收电波的天线。

(ii)在带有接收标准电波并自动修正误差的功能的电波钟的壳体内 部，配置有接收电波的天线。

(iii)在搭载进行障碍物检测、车间距离的测定等的雷达装置的汽车 上，在前格栅或保险杠的附近配置有上述雷达装置的天线。

(iv)通信设备(蓝牙、UWB、ZigBee等无线PAN等)处理的电波 的频率从毫米波向微波和高频波段转移，电波容易受装饰部件影响，在上 述设备中容易产生功能障碍。

上述装饰部件能够通过在例如装饰部件的基体的表面设置具有电波 透过性的装饰膜来制造。作为上述装饰膜及装饰部件，提出有下述的方案。

(1)在透明树脂膜的背面具有铟或锡的蒸镀膜的装饰膜及便携设备 (专利文献1)。

(2)交替地层叠30层以上两种以上的树脂层，10nm以上且小于 220nm的层的数目比220nm～320nm的层的数目多的、包含可见光反射率 在30％以上的层叠膜的装饰膜(专利文献2)。

(1)的装饰膜因为下述理由而具有电波透过性且具有金属光泽。

在铟或锡的金属蒸镀膜中，所述金属作为微细的独立的“岛”存在， 目视下能识别为均质的金属层，而一个岛的大小比通过的电波的波长还充 分小，因此能够使电波通过，这是广为人知的。

(2)的装饰膜因为下述理由而具有电波透过性且具有金属光泽。

层叠多层折射率不同的薄树脂层而得的膜能够识别为金属色调，另 外，由于未使用金属导体，因此能够使电波通过。

然而，在(1)的装饰膜中，为了得到充分的金属光泽而增厚金属蒸 镀膜，或在制造装饰部件时的二次成型中岛彼此因加在所述金属蒸镀膜的 压力而部分地连接，则形成作为良导体的网络，因而根据电波的频率，会 发生反射或吸收。因此，使用(1)的装饰膜的产品，需要对其使用装饰 膜的全部产品进行以下检验：是否妨碍电波的直行性、或是否发生其他的 故障，而生产率低。另外，锡容易发生氧化、氯化等，故金属光泽随时间 而丧失。另一方面，铟由于稀少，是非常昂贵的金属。

至于(2)的装饰膜，层叠膜的生产效率低，成本变高。另外，加热 延伸成型性差，不能成型为期望的形状。而且，装饰膜的折射率及各层的 平衡因加热成型而改变，导致金属光泽丧失。

专利文献1：日本特开2007-285093号公报

专利文献2：日本特开2008-200861号公报

发明内容

本发明提供具有电波透过性以及如镜面般的金属光泽的电波透过性 装饰膜以及使用该装饰膜的装饰部件，该电波透过性装饰膜的上述金属光 泽难以丧失，并且延伸成型性优良且成本较低。

本发明的电波透过性装饰膜的特征在于，具有：第1高分子膜；第2 高分子膜；存在于上述第1高分子膜和上述第2高分子膜之间，通过硅和 金属的合金的物理性蒸镀而形成的光反射层。

优选上述金属具有的反射率大于硅的反射率。

优选上述金属是铝。

优选本发明的电波透过性装饰膜还具有存在于上述第1高分子膜或 上述第2高分子膜与上述光反射层之间的粘接促进层。

本发明的装饰部件的特征在于，本发明的电波透过性装饰膜设置于基 体的表面。

本发明的电波透过性装饰膜具有电波透过性以及如镜面般的金属光 泽，上述金属光泽难以丧失，该电波透过性装饰膜延伸成型性优良且成本 较低。

本发明的装饰部件具有电波透过性以及如镜面般的金属光泽，所述金 属光泽难以丧失，在角落部分等装饰膜延伸的部分中外观特性也优良，且 成本较低。

附图说明

图1是示出本发明的电波透过性装饰膜的一例的剖面图。

图2是光反射层的剖面的高分辨率透射型电子显微镜图像。

图3是示出本发明的电波透过性装饰膜的另一例的剖面图。

图4是示出本发明的电波透过性装饰膜的另一例的剖面图。

图5是示出本发明的电波透过性装饰膜的另一例的剖面图。

图6是示出本发明的电波透过性装饰膜的另一例的剖面图。

图7是示出本发明的电波透过性装饰膜的另一例的剖面图。

图8是示出本发明的装饰部件的一例的剖面图。

图9是示出本发明的装饰部件的另一例的剖面图。

图10是实施例1的装饰膜的电波透过衰减量(S21)以及反射衰减 量(S11)的图表。

图11是实施例1的装饰膜的可见光中的反射率的图表。

图12是实施例1的装饰膜的光反射层的表面的SEM图像。

图13是实施例4的装饰膜的光反射层的表面的SEM图像。

具体实施方式

本发明中的光意指可见光。

本发明中的电波意指频率为10MHz～1000GHz的电磁波(亚毫米 波～微波)。

本发明中的透明意指具有光透过性。

(第1实施方式)

图1是示出本发明的电波透过性装饰膜(以下简记为装饰膜)的一例 的剖面图。装饰膜1具有：第1高分子膜12、设置于第1高分子膜12的 表面的光反射层14以及设置于光反射层14的表面的第2高分子膜16。

(高分子膜)

第1高分子膜12及第2高分子膜16(以下也统称为高分子膜)是具 有电波透过性的膜。

需要第1高分子膜12以及第2高分子膜16的至少一个是透明的。优 选透明的高分子膜的可见光线透射率为80％以上。

从装饰膜1的成型性考虑，优选高分子膜的厚度为10μm～100μm。 优选装饰膜的厚度为20μm～150μm。

作为高分子膜的材料，例如能够例举：聚烯烃(聚乙烯、聚丙烯、乙 烯-丙烯共聚物、乙烯-醋酸乙烯共聚物等)、环状聚烯烃、改性聚烯烃、 聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚-(4-甲基-1-戊 烯)、离聚物、丙烯酸树脂(聚甲基丙烯酸甲酯等)、丙烯腈-丁二烯- 苯乙烯共聚物(ABS树脂)、丙烯腈-苯乙烯共聚物(AS树脂)、丁二 烯-苯乙烯共聚物、聚酯(聚乙烯对苯二甲酸乙二醇酯、聚丁烯对苯二甲 酸乙二醇酯、聚环己烷对苯二甲酸乙二醇酯等)、聚苯醚、改性聚苯醚、 聚砜、聚醚砜、聚偏二氟乙烯、不饱和聚酯、硅树脂、聚氨酯树脂等。

高分子膜的材料可单独使用一种，也可组合两种以上作为共聚物、混 合物、聚合物合金等而使用。

作为高分子膜的材料，从透明性、强度、湿度透过性方面来看，优选 聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、AS树脂、聚苯乙烯、环状聚烯烃类、聚 乙烯对苯二甲酸乙二醇酯、聚丁烯对苯二甲酸乙二醇酯及其改性物、共聚 物等。

作为高分子膜的材料，从和装饰部件的基体一体化方面来看，优选与 基体的材料相同种类的材料。另外，作为高分子膜，可使用对装饰部件的 基体具有粘合性的膜。

作为高分子膜，可以层叠多个高分子膜而成。在层叠时，可使用热固 化性粘合剂或热可塑性粘合剂。

高分子膜也可根据需要包含添加剂。作为添加剂，例如有增强材料、 抗氧化剂、紫外线吸收剂、润滑剂、去雾剂、抗雾剂、增塑剂、颜料、近 红外吸收剂、抗静电剂、着色剂等。

(光反射层)

光反射层14是通过物理性蒸镀硅和金属的合金而形成的层。

硅和金属的合金与单一的硅相比，反射率以及亮度高，因此能得到明 亮的光反射层14。另外，所述合金与单纯的硅相比较软，因此光反射层 14的内部应力下降，与第1高分子膜12的密合性提高，裂纹的产生得到 抑制。

硅与后述的金属不同，是半导体物质。硅具有下述的特征，与其他的 半导体物质相比是优选的。

(i)反射率高，因而明亮。

(ii)由于导电率低，能够增加合金中的金属的比例，以维持电波透 过性不变而更明亮，又能够降低光反射层的内部应力。

(iii)易于购入等。

只要能维持光反射层14的表面电阻率较高，硅也可包含不构成掺杂 剂的杂质。

优选硅尽量不含掺杂剂(硼、磷、砷、锑等)。优选掺杂剂的量在 1ppm以下，更加优选在10ppb以下。

作为金属，优选反射率在50％以上的金属。作为所述金属，可例举 金、银、铜、铝、铂、铁、镍、铬等，从反射率以及成本考虑，优选铝、 银，更加优选铝。

反射率是采用JIS Z8722的条件d(n-D)的包含正反射率的扩散反 射率，是短波长侧为360nm～400nm、长波长侧为760nm～830nm的可见 光线区域的平均值，使用积分球将光泽成份的正反射光包含在内加以测 定。

优选金属的比例在合金(100体积％)中为0.1～70体积％，更加优 选为40～70体积％。若金属的比例为0.1体积％以上，则光反射层14的 亮度提高，另外光反射层14的内部应力下降。若金属的比例在70体积％ 以下，则电波透过性进一步提高。

只要能维持光反射层14的表面电阻率及金属光泽较高，合金除了硅 及金属以外，还可包含杂质。

优选光反射层14的厚度为10nm～500nm，更加优选为50nm～ 200nm。若光反射层14的厚度在10nm以上，则光变得难以透过，能充分 获得金属光泽。若光反射层14的厚度在500nm以下，则导电性的上升得 到抑制，能够维持充分的电波透过性。另外，光反射层14的内部应力的 上升得到抑制，装饰部件的翻翘、变形、裂纹、剥离等得到抑制。

在光反射层14较薄的情况下，光会透过从而反射率降低，因此能够 得到暗金属光泽。因此，能够通过改变光反射层14的厚度来进行金属光 泽的亮度调整。

光反射层14的厚度能够从光反射层14的剖面的高分辨率显微镜图像 测定。

优选光反射层14的表面电阻率为10³Ω以上，更加优选为10⁶Ω以上。 若光反射层14的表面电阻率为10³Ω以上，则能够维持充分的电波透过性。

光反射层14的表面电阻率通过JIS K7194记载的四探针法测定。

优选光反射层14的平均表面粗糙度为0.05μm以下。若光反射层14 的平均表面粗糙度为0.05μm以下，则散射得到抑制，能得到充分的金属 光泽。光反射层14的平均表面粗糙度的下限设为能用研磨加工实现的 0.1nm。

光反射层14的平均表面粗糙度为JIS B0601-2001的算术平均粗糙 度Ra。具体而言，通过原子间力显微镜测定表面形状，沿平均线的方向 截取基准长度，总计从截取部分的平均线到粗糙度曲线为止的偏差的绝对 值，并求出平均值(算术平均粗糙度Ra)。

光反射层14的平均表面粗糙度受第1高分子膜12的平均表面粗糙度 影响。因此，优选第1高分子膜12的平均表面粗糙度为0.5μm以下，更 加优选在0.1μm以下。若平均表面粗糙度为0.5μm以下，则即使光反射 层14变薄，也会由于光反射层追随第1高分子膜12的表面，因此能充分 得到镜面般的金属光泽。

第1高分子膜12的平均表面粗糙度是JIS B0601-2001规定的算术 平均粗糙度Ra。

光反射层可以设置在第1高分子膜的两个表面。在该情况下，能够使 单侧的光反射层变薄从而提高挠性，另外，能够强化金属光泽色调。

光反射层14通过硅和金属的合金的物理蒸镀而形成。

物理蒸镀法是在真空化的容器中以某种方法使蒸发材料(合金)气化 并使得气化的蒸发材料堆积在放置在附近的基底上而形成薄膜的方法，根 据蒸发材料的气化方法的不同，可分为蒸发类和溅射类。作为蒸发类，可 例举EB蒸镀、离子电镀、脉冲激光蒸镀等，作为溅射类，可例举RF(高 频)溅射、磁控溅射、对向靶型磁控溅射、ECR溅射等。

EB蒸镀法虽然具有膜容易变得多孔、膜强度不足的倾向，但具有基 底的损伤较少的特征。依据离子电镀法能够得到附着力强的膜，因此是优 选的。磁控溅射中膜的生长速度快，对向靶型磁控溅射能够不给基底带来 等离子损伤地生成薄膜，而在RF溅射中能够选择电阻高的靶(蒸发材料)， 因而是优选的。

图2是通过使用硅-铝合金的DC磁控溅射形成的光反射层的剖面的 高分辨率透射型电子显微镜图像。与现有的使用铟、锡等的情况下所见的 独立的岛(微细的集群)的集合体不同，未形成不存在合金的间隙，成为 具有均匀的非晶结构的连续层。

(第2实施方式)

图3是示出本发明的电波透过性装饰膜的另一例的剖面图。装饰膜1 具有：第1高分子膜12、设置于第1高分子膜12的表面的粘接促进层20， 设置于粘接促进层20的表面的光反射层14以及设置于光反射层14的表 面的第2高分子膜16。

在第2实施方式中，对于与第1实施方式相同的结构，以相同符号标 记并省略说明。

(粘接促进层)

粘接促进层20是提高光反射层14和高分子膜的密合性的层。粘接促 进层20在形成光反射层14前预先在高分子膜的表面形成，或在形成光反 射层14后在光反射层14的表面形成。

作为粘接促进层20的材料，优选具有电波透过性或光透过性、对高 分子膜有粘合力且能够与光反射层形成共价键、配位键或氢键的材料。作 为所述材料，可例举粘接促进剂、无机物、粘接促进剂和无机物的复合材 料等。

作为粘接促进层20，可例举(a)由粘接促进剂构成的层、(b)由 无机物构成的层、(c)由粘接促进剂与无机物的复合材料构成的层、(d) 在高分子膜的表面实施物理或化学表面处理而形成的层等。

(a)作为粘接促进剂，可例举在主链或侧链具有带极性的键(酯键、 聚氨酯键、脲键、尿键、缩二脲键、酰胺键等)或带极性的基(羟基、羧 基、氨基、异氰酸酯基、恶唑啉基、巯基、环氧基等)的树脂(以下记为 极性树脂)。

作为极性树脂，可例举硝化棉、丙烯酸树脂、聚氨酯树脂、聚磷腈、 聚酰胺、环氧树脂等。

粘接促进剂还可包含硅烷偶联剂。作为硅烷偶联剂，可例举乙烯基三 乙氧基硅烷、乙烯基三(2-甲氧基乙氧基)硅烷、3-异丁烯酰氧基丙基三 甲氧基硅烷、3-环氧丙氧丙基三甲氧基硅烷、2-(3，4-环氧环己基)乙基 三甲氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-2-(氨 基乙基)3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、N- 苯基-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-巯基丙基三甲氧基硅烷、3-氯丙 基三甲氧基硅烷、氰基乙基三甲氧基硅烷、氰基丙基三甲氧基硅烷等。

也可向粘接促进剂混合染料、颜料等透明着色材料，使其兼有透明着 色层的功能。透明着色层调整金属光泽的亮度、彩度，能够产生期望的外 观设计性。

(b)作为无机物，可例举金属氧化物，优选氧化硅或氧化钛。优选 金属氧化物为粒子。优选金属氧化物的平均粒径为5nm～1000nm。

(c)作为粘接促进剂和无机物的复合材料，可例举(c1)在粘接促 进剂混合金属氧化物的材料，(c2)在粘接促进剂混合金属醇盐后，使其 脱醇缩合而将金属氧化物凝集于粘接促进剂中并析出的有机无机混合物、 (c3)使在侧链具有金属烷氧基的极性树脂(环氧树脂、丙烯酸树脂、聚 酰胺等)脱醇缩合而将金属氧化物凝集于极性树脂中并析出的有机无机混 合物等。从金属氧化物和作为粘接促进剂的极性树脂具有共价键考虑，优 选(c3)。从与光反射层14也能够形成共价键考虑，优选在形成光反射 层14后进行脱醇缩合。另外，预先对高分子膜的表面进行亲水化处理(采 用药品的化成处理、电晕放电处理、UV照射、氧等离子处理、ITRO处理 等)后，通过脱醇缩合使得金属氧化物凝集、析出，能够遍及高分子膜的 整个表面地配置金属氧化物，而能够提高粘附力及反射率。

优选复合材料中的金属氧化物的比例用固体含量换算为15～70体积 ％。

在粘接促进层20含有金属氧化物的情况下，具有下述的效果。

在高分子膜的表面通过物理蒸镀法形成光反射层14的情况下，构成 光反射层14的元素(硅、铝等)的离子从界面侵入高分子膜中并埋入， 因此高分子膜和光反射层14的界面变得不整齐，界面的面积变得非常大。 其结果是，从高分子膜侧的面向光反射层14入射的光的反射率比向高分 子膜的相反侧的光反射层14的面入射的光的反射率低。因此，通过在高 分子膜和光反射层14的界面配置透明且硬的金属氧化物，能够抑制离子 向高分子膜侵入或埋入。

(d)表面处理是使得高分子膜的表面粗糙化，或使得高分子膜的表 面积极地与氧气等气体反应，形成羟基、酮基等氧复合物、或胺基等反应 性高的极性基的处理。

作为表面处理，例如有喷射(blast)处理、化成处理、电晕放电处理、 紫外线处理、电子线处理、等离子处理等。

(第3实施方式)

图4是示出本发明的电波透过性装饰膜的另一例的剖面图。装饰膜1 具有第1高分子膜12、设置于第1高分子膜12的表面的光反射层14、设 置于光反射层14的表面的粘接促进层20、以及设置于粘接促进层20的表 面的第2高分子膜16。

在第3实施方式中，对与第1实施方式以及第2实施方式相同的结构， 标记相同符号并省略说明。

(第4实施方式)

图5是示出本发明的电波透过性装饰膜的另一例的剖面图。装饰膜1 具有第1高分子膜12、设置于第1高分子膜12的表面的粘接促进层20、 设置于粘接促进层20的表面的光反射层14、设置于光反射层14的表面的 粘接促进层20、以及设置于粘接促进层20的表面的第2高分子膜16。

在第4实施方式中，对与第1实施方式以及第2实施方式相同的结构， 标记相同符号并省略说明。

(第5实施方式)

图6是示出本发明的电波透过性装饰膜的另一例的剖面图。装饰膜1 具有第1高分子膜12、设置于第1高分子膜12的表面的粘接促进层20、 设置于粘接促进层20的表面的一部分的图样部18、设置于粘接促进层20 以及图样部18的表面的光反射层14、以及设置于光反射层14的表面的第 2高分子膜16。

在第5实施方式中，对与第1实施方式以及第2实施方式相同的结构， 标记相同符号并省略说明。

(图样部)

图样部18是将隐蔽性(光非透过性或光低透过性)的材料配置成期 望的图案状而形成的部分(文字、记号、图、图纹等)。从第1高分子膜 12一侧看装饰膜1时，以金属光泽为背景，描绘有文字(假名、英文字母、 数字等)、记号等。

图样部18能够通过使用公知的印刷油墨、涂料进行印刷等而形成。

(第6实施方式)

装饰膜1是平面状的，但在使用该装饰膜1的装饰部件的情况下，需 要附形于三维形状，而装饰膜1被部分地延伸。虽然依赖于装饰部件的形 状，但根据延伸度或延伸方向，在光反射层14产生能够目视确认程度的 未预期的裂纹，外观特性受到损害。

因此，在光反射层14、粘接促进层20或高分子膜中预先设置许多纳 米级的不规则点，通过在装饰膜1延伸时在设有所述不规则点的位置分割 光反射层14并细分化，而能够抑制可目视确认的程度的较大裂纹的产生， 抑制外观特性的劣化。

光反射层14的细分化的尺寸，是能够目视识别为光泽的大小，因此 在约为5μm以下。被细分化的光反射层14的间隔，随着延伸而扩大，在 目视下识别为反射率下降，而光反射层变薄。

作为不规则点，例如有下述的情况。

(α)硬质化光反射层14的一部分而形成的不规则点。

(β)在高分子膜或粘接促进层20形成的、比周围的粘合强度低的不 规则点。

(γ)在粘接促进层20形成的、比周围的弹性率低的不规则点。

(α)的不规则点是硬质且易碎的，因此能用所述不规则点分割、细 分化光反射层14。

在(β)的不规则点中，高分子膜和光反射层14的粘合强度弱，因此 在延伸装饰膜1时，光反射层14无法随其延伸，从而在所述不规则点光 反射层14被分割、细分化。

(γ)的不规则点中，粘接促进层20的弹性率低，因此在装饰膜1 延伸时，粘接促进层20也同时延伸，光反射层14无法随其延伸，从而能 在所述不规则点分割、细分化光反射层14。另一方面，在(γ)的不规则 点的周围，粘接促进层20的弹性率高，因此在装饰膜1延伸时，粘接促 进层20不延伸，从而光反射层14不被分割、细分化。

(α)的不规则点能够通过在纳米级硬质化光反射层14的硅以及金属 的一部分而形成。例如，在基底物理蒸镀硅和金属的合金时，通过使得含 有典型非金属元素的气体和硅及金属反应，而能够使得光反射层14的一 部分陶瓷化，形成不规则点。

作为典型非金属元素，可例举氮、碳、氧、硼、磷、硫，从气体的易 处理性、反应生成物的影响等考虑，优选氮、氧、碳。作为含有氮的气体， 可例举分子状氮，作为含有氧的气体，可例举分子状氧，作为含有碳的气 体，可例举烃。

优选陶瓷化的程度为光反射层14的0.01～10摩尔％。若陶瓷化的程 度不足0.01摩尔％，则不规则点的位置不足，易于产生能够目视确认的裂 纹。陶瓷化的程度超过10摩尔％时，则因陶瓷化导致的泛白、透明度增 强，金属光泽容易变得不充分。

陶瓷化的程度虽然随真空室的大小、蒸镀率而不同，但能够通过将典 型非金属气体的流量设置在0.1sccm～50sccm的范围来调整。

在物理蒸镀法中的接受等离子辅助的蒸镀法中，通过使得氧或氮流 动，能够在高分子膜的表面实施亲水化处理，因而从密合性考虑是优选的。

陶瓷化的分析(不规则点的确认)可通过X线衍射装置进行。

(β)及/或(γ)的不规则点例如能够如下述的(I)～(V)那样地 形成。

(I)使用(a)粘接促进剂形成粘接促进层20。在该情况下，能够用 以干燥处理为基本的方法形成微细的核。

例如，通过加热蒸镀具有极性基的单体、低聚物或多聚物，由具有极 性基的树脂构成的微细部分均匀地分布，形成(β)的不规则点。此时， 通过调整蒸镀量等调整分布密度。

另外，在高分子膜的表面实施大气等离子处理、电晕放电处理等表面 处理并导入极性基后，通过较薄地涂敷具有极性基的树脂的(水)溶液， 通过氢键等使得高分子膜的表面的极性基与具有极性基的树脂结合，从而 固定化具有极性基的树脂，使得由具有极性基的树脂构成的微细部分均匀 地分布，形成(β)的不规则点。

另外，在高分子膜的表面通过等离子聚合无极性基的甲烷等的烃形成 均匀分布的交联烯烃的微细部分后，通过以此为掩模涂敷之前的(水)溶 液，使得由具有极性基的树脂构成的微细部分均匀分布，形成(β)的不 规则点。

另外，在硅烷偶联剂的情况下，也在部分地通过等离子处理等进行亲 水化、或通过交联烯烃的化学蒸镀等进行亲油化后，通过涂敷硅烷偶联剂 水溶液，部分地使得亲和性高的微细部分均匀地分布，形成(β)的不规 则点。

(II)使用(b)无机物形成粘接促进层20。在该情况下，也能够用 以干燥处理为基本的方法形成微细的核。

例如，在对无机物进行物理蒸镀或化学蒸镀时，通过控制蒸镀量的密 度，使得由无机物构成的微细部分均匀地分布。然后，由于在无机物部分 (金属氧化物粒子等)与其周围(树脂等)产生粘接强度的差异，因此粘 接强度高的微细部分和粘接强度低的微细部分均匀地分布，形成(β)的 不规则点。另外，由于在无机物部分(金属氧化物粒子等)与其周围(树 脂等)产生弹性率的差异，因此弹性率高的微细部分和弹性率低的微细部 分均匀分布，而同时也形成(γ)的不规则点。

此时，优选无机物和高分子膜很好地粘接。作为提高无机物和高分子 膜的粘合力的方法，可举出在高分子膜的表面实施表面处理的方法；在用 物理蒸镀或化学蒸镀形成微细的无机物的情况下，设置偏置电压，用高能 量加速无机物并打入高分子膜的方法；在用化学聚合法形成微细的无机物 的情况下，通过PBII(等离子基离子注入)法等形成DLC(类金刚石碳) 或含有硅等的DLC等的方法等。在化学聚合法的情况下，能够通过聚合 条件的强弱改变附着密度，能够形成均匀分布的微细的无机物。

(III)使用(c)粘接促进剂和无机物的合成材料形成粘接促进层20。 在该情况下，能够用以干燥处理为基本的方法形成微细的核。具体而言， 能够与(II)或(III)同样地形成。

(IV)在高分子膜的表面具有弹性率不同的微细部分的层与通过 (III)形成的粘接促进层20具有同样的效果。例如使用以具有软链段和 硬链段的共聚物将硬链段部分微相分离成岛状的高分子膜。作为所述共聚 物，可例举聚酯类、聚烯烃类、聚酰胺类热可塑性弹性体，或硅-聚酰亚 胺共聚物等。

(V)在高分子膜的表面实施(d)表面处理而形成粘接促进层20时， 通过提高控制处理的强度，使得粘接强度高的微细部分和粘接强度低的微 细部分均匀分布，形成(β)的不规则点。

图7示意性地示出了在粘接促进层20中交替地形成的、粘接强度或 弹性率高的微细部分22以及粘接强度或弹性率低的微细部分24(不规则 点)的装饰膜1的剖面图。在装饰膜1延伸时，光反射层14被粘接强度 或弹性率低的微细部分24细分化。

(第7实施方式)

图8是示出本发明的装饰部件的一例的剖面图。装饰部件2是在具有 多个凸部的基体30的表面沿着基体30的形状一体地组合装饰膜1而成的。

(基体)

基体30是电波透过性材料的成型体。

作为电波透过性材料，可例举绝缘性的有机材料。绝缘性意味着表面 电阻率在10⁶Ω以上，优选表面电阻率在10⁸Ω以上。表面电阻率通过JIS K7194记载的四探针法测定。作为电波透过性材料，从成型加工性考虑， 优选绝缘性有机材料。

作为有机材料，可例举聚烯烃(聚乙烯、聚丙烯、乙烯-丙烯共聚物、 乙烯-醋酸乙烯共聚物等)、环状聚烯烃、改性聚烯烃、聚氯乙烯、聚偏 二氯乙烯、聚苯乙烯、聚酰胺(尼龙6、尼龙46、尼龙66、尼龙610、尼 龙612、尼龙11、尼龙12、尼龙6-12、尼龙6-66等)、聚酰亚胺、聚 酰胺酰亚胺、聚碳酸酯、聚-(4-甲基戊烯-1)、离聚物、丙烯酸树脂(聚 甲基丙烯酸甲酯等)、ABS树脂、AS树脂、丁二烯-苯乙烯共聚物、聚 氧亚甲基、聚乙烯乙醇、乙烯-乙烯乙醇共聚物、聚酯(聚乙烯对苯二甲 酸乙二醇酯、聚丁烯对苯二甲酸乙二醇酯、聚环己烷对苯二甲酸乙二醇酯 等)、聚醚、聚醚酮、聚醚醚酮、聚醚酰亚胺、聚甲醛、聚苯醚、改性聚 苯醚、聚砜、聚醚砜、聚苯硫醚、聚芳酯、芳香族聚酯(液晶多聚物)、 聚四氟乙烯、聚偏二氟乙烯、其他的氟类树脂、热可塑性弹性体(苯乙烯 类、聚烯烃类、聚氯乙烯类、聚氨酯类、聚酯类、聚酰胺类、聚丁二烯类、 反式聚异戊二烯类、氟橡胶类、氯化聚乙烯类等)、环氧树脂、苯酚树脂、 尿素树脂、密胺树脂、不饱和聚酯、硅树脂、聚氨酯树脂、聚封二甲苯树 脂、天然橡胶、聚丁二烯橡胶、聚异戊二烯橡胶、丙烯腈-丁二烯共聚物 橡胶、苯乙烯-丁二烯共聚物橡胶、苯乙烯-异戊二烯共聚物橡胶、苯乙 烯-丁二烯-异戊二烯共聚物橡胶、二烯类橡胶的氢添加物、饱和聚烯烃 橡胶(乙烯··丙烯共聚物等的乙烯··α-烯烃共聚物等)、乙烯-丙烯- 二烯共聚物、α-烯烃-二烯共聚物、聚氨酯橡胶、硅橡胶、聚醚类橡胶、 丙烯橡胶等。

有机材料可以单独使用1种，也可组合两种以上而作为共聚物、混合 物、聚合物合金、层叠体等使用。

有机材料也可根据需要含有添加剂。作为添加剂，可例举增强材料、 抗氧化剂、紫外线吸收剂、润滑剂、去雾剂、抗雾剂、增塑剂、颜料、近 红外吸收剂、抗静电剂、着色剂等。

装饰部件2能够通过在将装饰膜1成型为期望形状后，放入同样形状 的模具中，从模具的开口部注入液状的树脂而一体化来制造。装饰膜1的 基体30侧的高分子膜(未图示)使用和基体30相同的树脂，从而获得良 好粘接。

基体30的凸部的各角落部分特别地延伸，装饰膜1的内部的光反射 层用许多微细部分细分化(略去图示)。

(第8实施方式)

图9是示出本发明的装饰部件的另一例的剖面图。装饰部件2是在近 似甜甜圈(doughnut)状的基体30的表面，沿着基体30的形状一体地配 合装饰膜1而成的部件。

在预先赋形的基体30使用粘接性膜32一体化被加热的装饰膜1。

在第8实施方式中，对与第7实施方式相同的结构，标记相同符号并 省略说明。

基体30的凸部的角落部分特别地延伸，装饰膜1的内部的光反射层 用许多微细部分细分化(略去图示)。

在以上说明的本发明的装饰膜以及使用该装饰膜的装饰部件，由于具 有通过物理蒸镀硅和金属的合金而形成的、具有高反射率的明亮光反射 层，因此具有电波透过性，而具有与铬镀层相同的金属光泽。

另外，由于使用与铟、锡等相比化学性稳定的硅和金属的合金，因此 金属光泽难以随时间而丧失。另外，光反射层被高分子膜保护，因此金属 光泽难以丧失。

另外，使用与铟等稀有金属单质相比廉价的硅和金属的合金，因此成 本较低。另外，装饰膜中的层数少，因此成本较低。

另外，光反射层被2块高分子膜夹住，因此装饰膜延伸成型性优良， 使用该装饰膜的装饰部件，在角落部分等的外观特性优良。

另外，在光反射层、粘接促进层或高分子膜具有许多不规则点的情况 下，装饰膜的延伸成型性进一步提高，使用该装饰膜的装饰部件的角落部 分等的外观特性进一步提高。

另外，在光反射层中，导电性的金属元素通过半导体硅固定，不存在 在使用现有装饰膜的装饰部件中所常见的因成型时的压力等而导致铟等 的岛彼此部分地连接的现象，从而不需要检查电波透过性的性能，生产率 高。

含有硅那样的半导体物质的合金透过电波并具有金属光泽的理由，可 认为如下所述。

作为金属的特征的自由电子使得带有导电性。另外，电磁波(光、电 波)进入金属中时，自由电子运动并产生强电子极化，诱发出与进入的电 磁波的电场相反的电通量，因此电磁波难以进入金属中，电磁波被反射而 无法透射。另外，在可见光区域具有高反射率，因此能识别为金属光泽。

另一方面，在半导体物质的情况下，仅有少数的自由电子，与金属不 同，电波未被反射而是能够透射。至于金属光泽，可认为是，不是因自由 电子而是因区域间的直接迁移而引起的强吸收存在于可见光区域，因此产 生强电子极化，具有高折射率，从而具有高反射率。

另外，本发明中使用硅和金属的合金的理由如下。

硅虽然在可见光区域具有高反射率，但比金属的反射率低(例如银 98％、铝90％、在620nm、文献值、Hand book of Optical Constants of Solids， E.L.Palik，Academic Press.，(1985))，为36％(在620nm，文献值)。 因此，通过与反射率在50％以上的金属合金化，提高反射率，提高亮度， 而能够得到具有与明亮的铬镀层同等以上的金属光泽的光反射层。另外， 所述金属比硅要软，因而光反射层的内部应力下降，密合性提高，裂纹的 产生得到抑制。

[实施例]

(电波透过性)

使用同轴管型屏蔽效果测定系统(KEYCOM公司制造，S-39D，根 据ASTM D4935)，在外部机体(内径39mm)的同轴管内放置圆盘状的 平坦样品，通过与同轴管两端连接的向量网络分析仪(ANRITSU公司制 造，37247C)求出透过衰减量(S21)及反射衰减量(S11)。透射衰减量 越接近0dB则电波透过性越优良。

(反射率)

反射率是采用JIS Z8722的条件d(n-D)的包含正反射率的扩散反 射率，使用积分球测定包含光泽成份的正反射光。

具体而言，使用紫外可视近红外分光光度计(日本分光公司制造，V -570)，使用积分球测定包含光泽成份的正反射光的装饰部件的反射率。 求出从波长380nm到780nm的测定点401处的平均。

(透过率)

使用紫外可视近红外分光光度计(日本分光公司制造，V-570)， 使用积分球测定装饰部件的透过率。

(光反射层的厚度)

使用透射型电子显微镜(日本电子公司制造，JEM-4000EX)，观 察光反射层的剖面，测定5处的光反射层的厚度并求平均。

(平均表面粗糙度)

使用扫描型探头显微镜(SII纳米科技公司制造，SPA400)，用原子 间力显微镜DFM模式扫描样品的表面1μm²，生成表面形状的图像并求出 平均表面粗糙度(算术平均粗糙度Ra)。在形成光反射层后不久测定。

(表面电阻率)

使用电阻率计(DIA Instruments公司制造，LORESTA GP MCP-T600 型，基于JIS K7194)，将直列四探针探头(ASP)置于样品上测定样品 的表面电阻率。测定电压为10V。在形成光反射层后立即测定。

(弹性率)

如下地确认粘接促进层或高分子膜的表面的微细部分的弹性率的不 同。

使用扫描型探头显微镜(SII纳米科技公司制造，SPA400)的微粘弹 性测定模式，通过从传感杆的弯曲振动使得粘接促进层或高分子膜的表面 的粘弹性分布图像化，确认微细部分的弹性率的不同。

(SEM像)

使用扫描电子显微镜(日本电子公司制造，JSM6390LV)观察光反 射层的表面。由于未进行样品表面的导体化及接地处理，由于较大地延伸 装饰膜，而使得光反射层的电阻增大的位置无法图像化。

(实施例1)

在作为第1高分子膜12的厚度50μm的丙烯酸膜的表面，用DC溅 射装置，使用下述的靶进行物理蒸镀，形成光反射层14。

作为靶，使用掺硼的硅与铝的合金(铝的比例：60体积％、掺硼量： 约10^-7摩尔％)。铝单质的反射率为87.6％。

随后，将作为第2高分子膜16的厚度50μm的丙烯酸膜热层压在光 反射层14的表面，得到图1所示的装饰膜1。

对装饰膜1，测定光反射层14的厚度、1GHz及3GHz中的电波的透 射衰减量(S21)、从第1高分子膜12侧入射的可见光中的反射率、表面 电阻率、平均表面粗糙度。另外，观察装饰膜1的外观。此外，光反射层 14中的铝的比例与靶中的铝的比例相同。结果如表1所示。另外，图10 生成电波透过性装饰膜1的电波的透射衰减量(S21)及反射衰减量(S11) 的图表。另外，在图11示出装饰膜1的反射率的图表。进而将装饰膜1 向一个方向拉伸，观察回到原来的长度时的光反射层14的表面的SEM图 像(图12)。这样在拉伸方向细分成为约1μm宽度的光反射层。

(比较例1)

作为靶，除了使用硅单质以外，与实施例1同样地得到装饰膜。

对于所述装饰膜，测定光反射层的厚度、1GHz及3GHz中的透射衰 减量(S21)、反射率、表面电阻率、平均表面粗糙度。另外，观察装饰 膜的外观。结果在表1示出。

(实施例2)

在作为第1高分子膜12的厚度100μm的聚碳酸酯膜的表面，在DC 溅射装置内使用与实施例1相同的靶，在氮气0.5sccm流入下进行物理蒸 镀，形成一部分被陶瓷化的光反射层14。

随后，将在作为第2高分子膜16的厚度100μm的黑色ABS膜的表 面层叠氯化聚烯烃层而得的膜，以氯化聚烯烃层作为粘合剂粘贴在光反射 层14上，得到装饰膜1。

对装饰膜1测定光反射层14的厚度、1GHz及3GHz中的透射衰减量 (S21)、反射率、表面电阻率、平均表面粗糙度。另外，观察装饰膜1 的外观。结果在表1示出。

在模具内预成型装饰膜1后，向模具内喷射ABS树脂，得到如图8 所示的一体化的装饰膜1和基体30的装饰部件2。观察装饰部件2的外观、 特别是凸部的角落部分的金属光泽。结果在表1示出。

(实施例3)

作为第1高分子膜12，准备厚度25μm的聚酯共聚膜(东洋纺织公 司制造，商品名：SOFTSHINE)和厚度50μm的丙烯酸膜的层叠体。

在聚酯共聚膜侧的表面，在功率：500W、时间：2分钟、到达真空 度：6×10^-1Pa、氧流入量：15sccm的条件下实施氧等离子处理。

在被等离子处理的表面上，在DC溅射装置内将硅和铝的合金(铝的 比例：70体积％)作为靶进行物理蒸镀，形成光反射层14。

与实施例2同样地粘贴黑色ABS膜，得到装饰膜1。

对装饰膜1，测定光反射层14的厚度、1GHz及3GHz中的透射衰减 量(S21)、反射率、表面电阻率、平均表面粗糙度。另外，观察装饰膜 1的外观。结果在表1示出。

在模具内预成型装饰膜1后，向模具内喷射ABS树脂，得到图8所 示的一体化的装饰膜1和基体30的装饰部件2。观察装饰部件2的外观、 特别是凸部的角落部分的金属光泽。结果在表1中示出。

(实施例4)

作为第1高分子膜，准备厚度125μm的聚酯类热可塑性弹性体膜 (Toray公司制造，商品名：Hytrel，以芳香族聚酯为硬链段，以聚醚酯为 软链段)。测定所述膜的表面的弹性率，确认弹性率高的微细部分与弹性 率低的微细部分(不规则点)均匀分布。

在所述膜的表面与实施例3同样地实施氧等离子处理。

在被等离子处理的表面，在DC溅射装置状使用硅和铝的合金(铝的 比例：65体积％)作为靶进行物理蒸镀，形成光反射层14。

随后，将在作为第2高分子膜的厚度50μm的透明聚碳酸酯膜的表面 层叠透明氯化聚烯烃层而得的膜，以氯化聚烯烃层为粘合剂粘贴在光反射 层14，得到装饰膜1。进而将装饰膜1拉伸100％，观察回到原来的长度 时的光反射层14的表面的SEM图像(图13)。由此，在拉伸方向被细 分化为约1μm宽的光反射层。

对装饰膜1测定光反射层14的厚度、1GHz及3GHz中的透射衰减量 (S21)、反射率、表面电阻率、平均表面粗糙度。另外，观察装饰膜1 的外观。结果在表2中示出。

如图9所示的由聚丁烯对苯二甲酸乙二醇酯构成的基体30，将装饰 膜1以设置在装饰膜1的第1高分子膜12侧的氯化聚烯烃层为粘合剂通 过压空成型而一体化，得到装饰部件2。观察装饰部件2的外观、特别是 凸部的角落部分的金属光泽。结果在表2中示出。

(实施例5)

作为第1高分子膜，准备厚度25μm的聚酯共聚膜(东洋纺织公司制 造，商品名：SOFTSHINE)和厚度50μm的聚碳酸酯膜的层叠体。

在聚酯共聚膜侧的表面，以PBII装置(栗田制造所公司制造)使用 含有硅的DLC进行化学蒸镀，形成多个硬质的微细部分，形成粘接促进 层20。并且，在功率：250W、时间：1分钟、到达真空度：6×10^-1Pa、 氧流入量：15sccm的条件下，进行氧等离子处理。测定粘接促进层20的 表面的弹性率，确认弹性率高的微细部分和弹性率低的微细部分(不规则 点)均匀分布。

在被等离子处理的表面，在DC溅射装置中使用硅和铝的合金(铝的 比例：55体积％)作为靶进行物理蒸镀，形成光反射层14。

与实施例2相同地，粘贴黑色ABS膜，得到装饰膜1。

对装饰膜1测定光反射层14的厚度、1GHz及3GHz中的透射衰减量 (S21)、反射率、表面电阻率、平均表面粗糙度。另外，观察装饰膜1 的外观。结果在表2中示出。

在如图9所示的由ABS树脂构成的基体30上，将装饰膜1以设置在 装饰膜1的第1高分子膜12侧的氯化聚烯烃层为粘合剂通过压空成型而 一体化，得到装饰部件2。观察装饰部件2的外观，特别是凸部的角落部 分的金属光泽。结果在表2中示出。

表1

表2

工业上的可利用性

本发明用于便携式电话的壳体和开关按钮、时钟的壳体、汽车的前格 栅、保险杠、面板等的金属色调的装饰部件及其所用的装饰膜。

符号说明

1装饰膜；              2装饰部件；

12第1高分子膜；        14光反射层；

16第2高分子膜；        18图样部；

20粘接促进层；         22粘接强度或弹性率高的微细部分；

24粘接强度或弹性率低的微细部分(不规则点)；

30基体；               32粘接性膜。