公开/公告号CN102347214A
专利类型发明专利
公开/公告日2012-02-08
原文格式PDF
申请/专利权人 德泓(福建)光电科技有限公司;
申请/专利号CN201110188544.1
申请日2011-07-06
分类号H01L21/02;H01L21/205;
代理机构上海泰能知识产权代理事务所;
代理人黄志达
地址 364101 福建省永定县莲花工业区一号
入库时间 2023-12-18 04:21:34
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-07-24
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L21/02 授权公告日:20131016 终止日期:20170706 申请日:20110706
专利权的终止
2013-10-16
授权
授权
2012-03-21
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/02 申请日:20110706
实质审查的生效
2012-02-08
公开
公开
技术领域
本发明属生长GaN材料的模板领域,特别是涉及一种用于生长厚膜GaN材料的图形 化模板的制备方法。
背景技术
GaN基蓝色和紫外发光二极管及激光器等光电器件具有广阔的应用前景,因此吸引力 人们浓厚的兴趣。然而,由于很难获得高质量及成本合理的GaN衬底,现在许多GaN基 光电器件是异质外延生长在蓝宝石等异质衬底上,这些异质衬底与GaN材料之间的晶格常 数和热膨胀系数失配将在GaN膜的生长过程中引入位错,在冷却过程中产生裂纹,从而影 响外延膜的质量,进而影响器件的性能。因此,制备GaN同质衬底是进一步发展GaN基 器件的关键。
国内外研究人员已经采用了一些方法来降低GaN同质衬底中的位错密度,减少材料中 的应力,提高GaN膜质量,其中包括横向外延过生长(ELOG)技术、生长中断技术等, 但这些工作大多数都是针对生长在蓝宝石衬底厚膜GaN开展的,而Si衬底虽然容易去除, 但是Si和GaN之间的晶格失配非常大,同时Si与Ga之间容易发生互熔从而影响生长, 因此目前还没有成功用于GaN同质衬底的制备。。
如何在提高GaN外延材料质量的同时又能够很容易实现GaN膜与衬底之间的剥离是 获取GaN同质衬底的关键。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种用于生长厚膜GaN材料的图形化模板的制备 方法,该方法简单,充分利用Si衬底尺寸大的优势,可以用于大尺寸GaN同质衬底的制 备,适合于工业化生产;空气桥结构的外延生长方法,大大释放了GaN外延层中的应力, 避免了由于GaN和Si之间的大失配而造成厚膜GaN碎裂。
本发明的一种用于生长厚膜GaN材料的图形化模板的制备方法,包括:
(1)选择表面生长了GaN外延层的Si衬底作为模板;
(2)在步骤(1)中所述的模板上,沉积一层SiO2或SiNx介质薄层;
(3)在上述SiO2或SiNx介质薄层上通过光刻、沉积金属和剥离的方法获得图形化的金属薄 层;
(4)采用干法刻蚀技术对上述步骤(3)的结构进行刻蚀,刻蚀一直深入到Si衬底,得到图形 化的金属层/介质层/GaN/Si衬底结构;
(5)去除金属层/介质层/GaN/Si衬底结构残留的金属;
(6)通过氧化或氮化处理,使得步骤(4)中露出的Si的表面覆盖SiO2或SiNx层,即得图形化 的介质层/GaN/Si衬底模板。
所述步骤(1)在Si衬底上,采用氢化物气相外延生长(HVPE)、金属有机化学气相沉 积(MOCVD)、分子束外延(MBE)方法中的任意一种生长作为模板的GaN外延层,生 长的GaN外延层厚度为0.1-50μm。在GaN外延层和Si衬底之间可以含有AlGaN、AlN 等成核层或者插入层结构。
所述步骤(2)在GaN外延层上沉积的SiO2或SiNx介质薄膜的厚度为10nm-10μm。
所述步骤(4)中的干法刻蚀技术为反应离子刻蚀和诱导藕合等离子体刻蚀。
更进一步所述步骤(4)中的干法刻蚀技术为诱导藕合等离子体(ICP)方法刻蚀掉GaN, 然后再用反应离子刻蚀(RIE)方法刻蚀衬底Si,而SiO2或SiNx介质的刻蚀可以采用干法刻 蚀或者碱性溶液去除。
所述步骤(5)使用酸或碱溶液去除金属层/介质层/GaN/Si衬底结构残留的金属。
该方法适用于生长GaN厚膜(5μm以上)材料。
将本发明的图形化的介质层/GaN/Si衬底模板置于MOCVD或者HVPE设备中生长厚膜 GaN。生长时,由于GaN外延层表面有SiO2或SiNx层,因此GaN将选择生长在的GaN 外延层的侧壁上,经过横向外延生长过程连接成完整的GaN膜,进而再次选择外延生长并 形成厚膜GaN,而在Si表面由于有SiO2或SiNx层能够有效抑制GaN的结晶而不能实现生 长,从而在GaN膜的下方形成孔隙,实现了空气桥方式的生长。
有益效果
(1)本发明的方法简单,充分利用Si衬底尺寸大的优势,实现大尺寸(根据硅片尺寸)GaN 同质衬底的制备,适合于工业化生产;
(2)本发明采用介质层/GaN/Si衬底图形化模板,实现了材料的两次横向外延过生长,减少 了位错密度,提高了晶体质量;
(3)由于本发明的空气桥结构的外延生长方法,大大释放了GaN外延层中的应力,避免了 由于GaN和Si之间的大失配而造成厚膜GaN碎裂。
附图说明
图1为本发明提供的图形化介质层/GaN/Si衬底模板上生长厚膜GaN的结构示意图,其中: 1.Si;2.SiO2或SiNx;3.孔洞;4.GaN外延层5.介质层;6.外延生长的厚膜GaN;
图2为实施例1所得的图形化的SiO2/GaN/Si衬底模板上生长的GaN膜的横截面扫描电镜 图;其中:6.厚膜GaN,5.SiO23.孔洞,1.Si。
具体实施方式
下面结合具体实施例,进一步阐述本发明。应理解,这些实施例仅用于说明本发明而 不用于限制本发明的范围。此外应理解,在阅读了本发明讲授的内容之后,本领域技术人 员可以对本发明作各种改动或修改,这些等价形式同样落于本申请所附权利要求书所限定 的范围。
实施例1
(1)在Si衬底上采用MOCVD方法生长一层约1.5μm厚的GaN外延层作为模板;
(2)在GaN外延层上,PECVD方法沉积一层约200nm的SiO2介质薄层;
(3)在SiO2介质薄层上通过光刻工艺获得图形化的光刻胶掩膜;在光刻图形上用电子束 蒸发金属和剥离的方法获得7μm金属条和3μm缝隙相间的图形化的金属薄层,金属的 层总厚度为200nm;
(4)利用金属条作为掩膜,先用ICP方法刻蚀掉窗口处的SiO2介质和GaN,然后再用RIE 方法刻蚀衬底Si,得到的金属层/介质层/GaN/Si衬底结构;通过刻蚀使部分的GaN外延层 处于悬空状态;
(5)用盐酸去除SiO2层上残留的金属;
(6)通过氧化处理,使得沟槽处露出的Si的表面覆盖SiO2层,以避免Si表面的成核以及 Ga、Si互熔,从而得到图形化的SiO2/GaN/Si衬底模板;
(7)经清洗后,将模板放入MOCVD反应室,进行生长,得到平整的厚膜GaN(如图2 所示)。
机译: 用于GaN基半导体的晶体生长的多晶氮化铝基材料以及使用该材料制造GaN基半导体的方法
机译: 用于GaN基半导体的晶体生长的多晶铝氮化物基材料以及使用该材料制造GaN基半导体的方法
机译: 用于GaN基半导体的晶体生长的多晶铝氮化物基材料以及使用该材料制造GaN基半导体的方法