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利用抛光渣和污泥渣制备的釉面砖坯体及其制备方法

摘要

一种利用抛光渣和污泥渣制备的釉面砖坯体,其主要由抛光渣、污泥渣、塑性原料、熔剂和脊性原料制备而成,其中抛光渣和污泥渣分别占坯体原料总重量的百分比为10-15。优选的,本发明的一种利用抛光渣和污泥渣制备的釉面砖坯体,其主要由以下重量百分比原料制备而成:抛光渣10-15、污泥渣10-15、塑性原料20-25、熔剂15-20、脊性原料25-35,釉面砖坯体成型的素烧温度为:1100-1138℃。本发明将污泥渣和抛光渣大量投用于坯料中,生产高档釉面砖,促进釉面砖坯体的白度和强度,并达到节能降耗的作用。本发明还涉及一种利用抛光渣和污泥渣制备的釉面砖坯体的制备方法。

著录项

  • 公开/公告号CN102320811A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-01-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 霍镰泉;

    申请/专利号CN201110127894.7

  • 发明设计人 陈树明;

    申请日2011-05-16

  • 分类号C04B33/00(20060101);C04B33/132(20060101);

  • 代理机构11253 北京中北知识产权代理有限公司;

  • 代理人段秋玲

  • 地址 528061 广东省佛山市禅城区南庄镇上元新社村127号

  • 入库时间 2023-12-18 04:17:16

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-01-22

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C04B33/00 申请公布日:20120118 申请日:20110516

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2012-03-14

    实质审查的生效 IPC(主分类):C04B33/00 申请日:20110516

    实质审查的生效

  • 2012-01-18

    公开

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