优化CMOS图像传感器版图的方法及刻蚀方法

摘要

一种优化CMOS图像传感器版图的方法及刻蚀方法，其中刻蚀方法包括：提供衬底，所述衬底表面形成有介质层；在所述介质层表面形成光刻胶图形；以所述光刻胶图形为掩膜，刻蚀所述介质层，直至去除部分厚度的所述介质层；对所述介质层执行释放电荷工艺；以所述光刻胶图形为掩膜，刻蚀剩余所述介质层。本发明的刻蚀方法能够有效的保护被刻蚀介质的边角，本发明的优化CMOS图像传感器版图的方法，能够提高CMOS图像传感器的填充因子，有效地提高CMOS图像传感器的图像质量。