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永悬浮钻石研磨液

摘要

本发明公开了一种永悬浮钻石研磨液,其特征在于是由以下组分及配比的物质混合而成:烷烃80~90%、分散触变剂1~5%、表面活性剂10%、pH调节剂1~3%、金刚石微分0.1~1%;制备方法为:将上述比例的烷烃、分散触变剂、表面活性剂充分搅拌溶合,将金刚石微分加入上述溶合后的溶液中,采用超声分散,结束后用pH调节剂调至中性。用于LED芯片、LED显示屏、光学晶体、硅片、化合物晶体、液晶面板、宝石、陶瓷、锗片、金属工件等的研磨抛光,可长期保持均匀悬浮状态,不会产生任何沉淀、分层和失效现象。

著录项

  • 公开/公告号CN102268225A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-12-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海百兰朵电子科技有限公司;

    申请/专利号CN201110143348.2

  • 发明设计人 朱孟奎;

    申请日2011-05-30

  • 分类号C09G1/02(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 200433 上海市杨浦区翔殷路751号123室

  • 入库时间 2023-12-18 03:51:41

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-07-21

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C09G1/02 授权公告日:20140326 终止日期:20160530 申请日:20110530

    专利权的终止

  • 2016-08-24

    文件的公告送达 IPC(主分类):C09G1/02 收件人:上海百兰朵电子科技有限公司 文件名称:缴费通知书 申请日:20110530

    文件的公告送达

  • 2014-03-26

    授权

    授权

  • 2012-12-26

    实质审查的生效 IPC(主分类):C09G1/02 申请日:20110530

    实质审查的生效

  • 2011-12-07

    公开

    公开

说明书

技术领域

本发明涉及一种研磨液,属于化学机械的抛光技术领域,特别涉 及一种永悬浮钻石研磨液。

背景技术

在半导体加工过程中,最初的半导体基片需要进行抛光,抛光过 程通常采用研磨液进行。研磨液通常的成分是金刚石微分、航空汽油、 煤油、变压器油,各种植物油、动物油和烃类,再配以若干乳化剂混 合制成,这种研磨液在使用时可以达到悬浮状,从而达到使磨料悬浮 的效果,但是对于颗粒较大的磨料,需要悬浮性更高的研磨液,上述 研磨液通常是在使用时悬浮,即在使用前摇匀,使用时一直处于搅拌 状态,浪费人力物力,并且对于大颗粒悬浮效果不佳。

如中国专利申请号是02138718.4,名称是“高悬浮力水溶性防 锈研磨液”,其制备方法对温度和真空度要求较高,提高了成本。

对于现有技术,市场上需要一种永悬浮研磨液,在制备完成后即 可保证悬浮状态,达到一种“永悬浮”状态,可以使其在使用时抛光 效果更好,节省工时,提高工作效率,并且保存方便。

发明内容

为解决上述技术问题,本发明提供一种永悬浮钻石研磨液,制备 完成即可达到悬浮状态,方便保存,使用时无需一直处于搅拌状态, 提高效率,降低成本。

本发明是通过以下的技术方案实现的:

一种永悬浮钻石研磨液,是由以下组分及配比的物质混合而成:

烷烃80~90%;

分散触变剂1~5%;

表面活性剂10%;

pH调节剂1~3%;

金刚石微分0.1~1%。

所述永悬浮钻石研磨液的最优组分及配比为:

烷烃87%;

分散触变剂1%;

表面活性剂10%;

pH调节剂1%;

金刚石微分1%。

所述烷烃为直链的十一烷、十二烷或十三烷中的一种或几种混合 物。

所述分散触变剂为聚乙烯醇、乙烯醚或壬基酚聚氧中的一种或几 种混合物。

所述表面活性剂为聚氧乙烯乙基酚醚或环氧丙烃中的一种或两 种混合物。

所述pH调节剂是乙醇胺、三乙醇胺、盐酸或磷酸中的一种。

所述金刚石微粉是粒径为1~10μm的金刚石微粉。

本发明的制备工艺为:将上述比例的烷烃、分散触变剂、表面活 性剂充分搅拌溶合,将金刚石微分加入上述溶合后的溶液中,采用超 声分散,超声分散采用500瓦,分散时间为10~20min,结束后用pH 调节剂调至中性,至6~8即可。

本发明的有益效果为:

用于LED芯片,LED显示屏,光学晶体、硅片、化合物晶体、液 晶面板、宝石、陶瓷、锗片、金属工件等的研磨抛光。该研磨液可长 期保持均匀悬浮状态,不会产生任何沉淀、分层和失效现象;该产品 为稳定的永悬浮状,使用前及使用过程中不需要任何的搅拌装置同时 可以有效的保证产品的稳定使用。

具体实施方式

以下结合实施例,对本发明做进一步说明。

实施例1

研磨液配方选择:

十一烷87%;

分散触变剂(聚乙烯醇)1%;

表面活性剂(聚氧乙烯乙基酚醚)10%;

pH调节剂(乙醇胺和三乙醇胺的混合物)1%;

金刚石微分1%。

制备方法:将上述比例的烷烃、分散触变剂、表面活性剂充分搅 拌溶合,将粒径是1~10μm的金刚石微分加入上述溶合后的溶液中, 采用超声分散,超声分散采用500瓦,分散时间为10min,结束后用 乙醇胺和三乙醇胺的混合物调pH至7.8。

使用上述配好的抛光液在专用抛光机上抛光2英寸5片蓝宝石 片,抛光前表面粗超度在0.05μm左右,抛光压力为40公斤,抛光 盘转速为80rpm,抛光液流量为2ml/min,抛光时间为10min,抛光 后蓝宝石片表面粗超度变为0.008μm。抛光表面无明显划痕,抛光 速率为2.2μm/min。

实施例2

研磨液配方选择:

十二烷85%;

分散触变剂(壬基酚聚氧)3%;

表面活性剂(环氧丙烷)10%;

pH调节剂(盐酸)2%;

金刚石微分1%。

制备方法:将上述比例的烷烃、分散触变剂、表面活性剂充分搅 拌溶合,将粒径是1~10μm的金刚石微分加入上述溶合后的溶液中, 采用超声分散,超声分散采用500瓦,分散时间为15min,结束后用 乙醇胺和三乙醇胺的混合物调pH至6.8。

使用上述配好的抛光液在专用抛光机上抛光2英寸5片蓝宝石 片,抛光前表面粗超度在0.05μm左右,抛光压力为40公斤,抛光 盘转速为80rpm,抛光液流量为2ml/min,抛光时间为10min,抛光 后蓝宝石片表面粗超度变为0.009μm。抛光表面无明显划痕,抛光 速率为2.6μm/min。

实施例3

研磨液配方选择:

十三烷82%;

分散触变剂(乙烯醚和壬基酚聚氧混合物)5%;

表面活性剂(环氧丙烷)10%;

pH调节剂(磷酸与乙醇胺混合物)2%;

金刚石微分1%。

制备方法:将上述比例的烷烃、分散触变剂、表面活性剂充分搅 拌溶合,将粒径是1~10μm的金刚石微分加入上述溶合后的溶液中, 采用超声分散,超声分散采用500瓦,分散时间为20min,结束后用 乙醇胺和三乙醇胺的混合物调pH至7.2。

使用上述配好的抛光液在专用抛光机上抛光2英寸5片蓝宝石 片,抛光前表面粗超度在0.05μm左右,抛光压力为40公斤,抛光 盘转速为80rpm,抛光液流量为2ml/min,抛光时间为10min,抛光 后蓝宝石片表面粗超度变为0.008μm。抛光表面无明显划痕,抛光 速率为1.8μm/min。

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