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光学用聚乙烯醇基膜、偏光膜和起偏振片

摘要

本发明旨在提供光学用聚乙烯醇基膜,所述聚乙烯醇基膜具有优异的拉伸性能,并且可用于制备在整个可见光波长范围内、具体地在460nm附近显示出优异的偏光性能的偏光膜。即,本发明涉及包含聚乙烯醇基树脂的光学用聚乙烯醇基膜,其中所述聚乙烯醇基树脂仅由在侧链上含有1,2-二醇键的聚乙烯醇基树脂(A)组成,在侧链上的1,2-二醇键的含量等于0.01~6摩尔%。

著录项

  • 公开/公告号CN101528817B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-11-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 日本合成化学工业株式会社;

    申请/专利号CN200680055507.0

  • 申请日2006-07-27

  • 分类号C08J5/18(20060101);C08L29/04(20060101);G02B5/30(20060101);

  • 代理机构11219 中原信达知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人陈海涛;樊卫民

  • 地址 日本大阪府

  • 入库时间 2022-08-23 09:12:00

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-07-16

    专利权的转移 IPC(主分类):C08J 5/18 登记生效日:20190626 变更前: 变更后: 申请日:20060727

    专利申请权、专利权的转移

  • 2012-11-28

    授权

    授权

  • 2012-11-28

    授权

    授权

  • 2009-11-04

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-11-04

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-09-09

    公开

    公开

  • 2009-09-09

    公开

    公开

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