首页> 中国专利> 一种制备包含第一相和第二相的氧化物溅射靶的方法

一种制备包含第一相和第二相的氧化物溅射靶的方法

摘要

本发明涉及一种制备氧化物溅射靶的方法。所述方法包括如下步骤:提供靶座;通过同时喷射至少一种氧化物和至少一种金属在所述靶座上施加可溅射材料的外层。所述可溅射材料的外层包含第一相和第二相。所述第一相包含至少第一金属和第二金属的氧化物;所述第二相包含处于其金属性相形式的金属。处于其金属性相形式的所述金属形成设置于所述第一相的氧化物之中或之间的不连续体积。所述外层包含0.1-20wt%的处于其金属性相形式的金属。本发明还涉及氧化物溅射靶。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-10-30

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C23C14/34 申请公布日:20110608 申请日:20090707

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2012-11-14

    著录事项变更 IPC(主分类):C23C14/34 变更前: 变更后: 申请日:20090707

    著录事项变更

  • 2011-09-07

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C14/34 申请日:20090707

    实质审查的生效

  • 2011-06-08

    公开

    公开

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