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光催化自洁涂料及其制备方法

摘要

本发明公开了这样一种用于电力系统高压电器及器件表面的光催化自洁涂料及其制备方法。所说的光催化自洁涂料重量配比组成是:端羟基含氟聚硅氧烷20~40、小分子硅氧烷1~3、纳米二氧化硅2~6、十溴二苯乙醚4~6、氢氧化铝6~12、二氧化0.5~1.2、铁红1~3,上述各成分分别计量送入真空捏合机中混合,升温至100-160℃加热混炼1.5~3个小时,经真空脱低分子2~3小时、冷却后,经三辊研磨后再按量加入无水溶剂40~60稀释到所需粘度后,经过胶体磨乳化3~4遍,加入交联剂1~3和催化剂0.3~0.5,混合均匀后在惰性气体保护下过滤装在隔绝空气的容器中。

著录项

  • 公开/公告号CN101845272A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2010-09-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 福建瑞森化工有限公司;

    申请/专利号CN201010137571.1

  • 申请日2010-03-26

  • 分类号C09D183/08;C09D7/12;

  • 代理机构厦门市首创君合专利事务所有限公司;

  • 代理人李国兴

  • 地址 364400 福建省龙岩市漳平工业园区(和安小区)

  • 入库时间 2023-12-18 00:48:18

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-03-06

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C09D183/08 申请公布日:20100929 申请日:20100326

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2010-11-17

    实质审查的生效 IPC(主分类):C09D183/08 申请日:20100326

    实质审查的生效

  • 2010-09-29

    公开

    公开

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