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多孔质二氧化硅前体组合物及其制备方法、多孔质二氧化硅膜及其形成方法、半导体元件、图像显示装置及液晶显示装置

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一种多孔质二氧化硅前体组合物，由下述成分混合进行制备：化学式1：R

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公开/公告号CN101765561A

专利类型发明专利
公开/公告日2010-06-30

原文格式PDF
申请/专利权人株式会社爱发科;
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申请/专利号CN200880100611.6
发明设计人中山高博;野末龙弘;村上裕彦;
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申请日2008-08-05
分类号C01B33/12;C09D1/00;G02F1/1337;H01L21/316;H01L21/768;H01L23/522;
代理机构北京英特普罗知识产权代理有限公司;
代理人齐永红
地址日本神奈川县
入库时间 2023-12-18 00:18:34

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2015-12-23

发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C01B33/12 申请公布日:20100630 申请日:20080805

发明专利申请公布后的驳回
2010-08-25

实质审查的生效 IPC(主分类):C01B33/12 申请日:20080805

实质审查的生效
2010-06-30

公开

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