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金属离子在导电基材表面上的沉积

摘要

本发明提供了用于制备沉积到诸如金属的导电基材上和/或沉积入导电基材内的金属离子以基本上消除金属对金属接触的摩擦的组合物和工艺。本发明使用在含水的实施方案中,以在所有金属基材上形成新的金属表面。该工艺形成了可以被吸附或吸收到导电基材上和/或吸附或吸收到导电基材内的金属离子和非金属离子的稳定的含水溶液。该含水溶液由与来自元素周期表的第I族到第VIII族的水溶性金属盐或非金属盐混合的铵碱金属磷酸盐和/或铵碱金属硫酸盐组成。含水溶液允许金属离子纳米沉积到导电基材表面上和/或导电基材表面内。由沉积的金属离子形成的表面将提供金属钝化且基本上消除金属对金属接触中的摩擦,而无需使用基于烃的润滑剂。

著录项

  • 公开/公告号CN101730756A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2010-06-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 DFHS有限责任公司;

    申请/专利号CN200880023345.1

  • 发明设计人 弗兰克·G·德法尔科;

    申请日2008-06-03

  • 分类号C23C22/00;C23C22/05;C23C22/08;

  • 代理机构北京安信方达知识产权代理有限公司;

  • 代理人杨淑媛

  • 地址 美国阿拉巴马州

  • 入库时间 2023-12-18 00:10:00

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-12-02

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C23C22/00 申请公布日:20100609 申请日:20080603

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2010-08-11

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C22/00 申请日:20080603

    实质审查的生效

  • 2010-06-09

    公开

    公开

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