专利分析中技术热点与空白点的分析系统及方法

摘要

本发明提供一种专利分析中技术热点与空白点的分析系统及方法，其通过矩阵图直观地显示某一特定技术领域内专利技术的热点与空白点，该矩阵图横轴为专利达到的功能效果，纵轴为专利所采用的技术手段，交叉点表示该相应技术手段实现该功能效果的专利数量。通过该分析系统，可使企业从大量专利信息中一目了然看出专利技术的热点与空白点，快速抓住所关注的专利技术信息，提高分析的效率。