用于解决在高台阶基底条件下光刻胶涂布异常的方法

摘要

本发明涉及集成电路制造工艺领域，公开了一种用于解决在高台阶基底条件下光刻胶涂布异常的方法，包括以下步骤：步骤一、在高台阶衬底上首先涂布一层可显影抗反射材料，用于降低表面的台阶上需要涂光刻胶位置起伏的高度；步骤二、在可显影抗反射材料之上涂布光刻胶。通过在高台阶衬底上首先涂布一层相对较薄的可显影抗反射材料，由于可显影抗反射材料平整性较好，且降低表面的台阶高度，高台阶引起的涂布异常和外观缺陷得以消除。