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针对多模式逻辑单元可编程门阵列的工艺映射方法

摘要

本发明公开了一种针对多模式逻辑单元可编程门阵列的工艺映射方法,该方法包括映射和合并两个步骤,首先对输入的与具体工艺无关的门级电路网表进行解析,并对解析的结果进行工艺映射,然后再根据多模式LC的约束信息对工艺映射结果进行合并处理,计算出多模式LC的模式配置值,得到最终优化的工艺相关的电路网表。利用本发明,解决了多模式逻辑单元结构FPGA的工艺映射问题,充分利用了基于两个LUT3的LC结构的优势。

著录项

  • 公开/公告号CN101656535A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2010-02-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院半导体研究所;

    申请/专利号CN200810118735.9

  • 发明设计人 张琨;周华兵;陈陵都;刘忠立;

    申请日2008-08-20

  • 分类号H03K19/177;

  • 代理机构中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人周国城

  • 地址 100083 北京市海淀区清华东路甲35号

  • 入库时间 2023-12-17 23:31:30

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-02-29

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H03K19/177 公开日:20100224 申请日:20080820

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2010-04-28

    实质审查的生效 IPC(主分类):H03K19/177 申请日:20080820

    实质审查的生效

  • 2010-02-24

    公开

    公开

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