法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2012-02-01
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):G01B11/22 公开日:20091118 申请日:20090619
发明专利申请公布后的驳回
2010-01-13
实质审查的生效
实质审查的生效
2009-11-18
公开
公开
机译: 测量膜厚的深度和/或方位角数据的方法,测量膜厚的深度和/或方位角数据的设备(MM1,mm2),准备在井功能内孔中开发的轮廓分析工具(TL) ,愿意将P.Erfurar钻入孔轴的钻具(MD)以及用于在轴孔内部开发用于测量深度和/或方位角的设备的产品计算机程序
机译: 一种材料的测量方法,孔尺寸分布的确定方法,一种用于测量材料的方法,一种装置,孔尺寸分布的确定
机译: 聚焦状态检测元件,扫描电子显微镜,聚焦条件调整方法,聚焦调整方法和聚焦深度测量方法