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一种高性能合成型光降解抗菌塑料的制备方法

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本发明涉及一种高性能合成型光降解抗菌塑料的制备方法，主要用于一种高性能合成型光降解抗菌塑料的制备。采用无机纳米碳酸钙颗粒为载体在表面包覆剂的作用下与抗菌剂混合后制得无机纳米抗菌母粒，将光降解剂、制备好的抗菌母粒与烯烃类原料、增溶剂、增塑剂、交联剂、分散剂按一定比例在170－180℃的温度下经双螺杆机熔融共混，在烯烃类原料的主链上引入光降解剂，冷却后切粒制得高性能合成型光降解抗菌塑料，所制得的高性能合成型光降解抗菌塑料密度1.05－1.3g/cm

著录项

公开/公告号CN101570608A

专利类型发明专利
公开/公告日2009-11-04

原文格式PDF
申请/专利权人垦利三合新材料科技有限责任公司;
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申请/专利号CN200910019692.3
发明设计人梁延民;冷亮;曹会民;伊常亮;
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申请日2009-03-07
分类号C08L23/00;C08K13/02;C08K9/04;C08K3/26;C08K5/05;C08J3/20;C08J3/12;C08K5/18;
代理机构
代理人
地址 257500 山东省东营市垦利县经济开发区
入库时间 2023-12-17 22:48:43

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2013-07-31

发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C08L23/00 申请公布日:20091104 申请日:20090307

发明专利申请公布后的视为撤回
2012-05-02

实质审查的生效 IPC(主分类):C08L23/00 申请日:20090307

实质审查的生效
2009-11-04

公开

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