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具有扩大的控制栅极结构的快闪存储器装置及其制造方法

摘要

本发明揭示一种具有扩大的控制栅极结构的快闪存储器装置及其各种制造方法。在一个说明性实施例中,所述装置包含:多个浮动栅极结构(124),其形成于半导电衬底上方;隔离结构(114),其位于所述多个浮动栅极结构(124)的每一者之间;以及控制栅极结构(128),其包括多个扩大的末端部分(130),所述扩大的末端部分(130)的每一者均位于邻近的浮动栅极结构(128)之间。

著录项

  • 公开/公告号CN101416299A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2009-04-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 美光科技公司;

    申请/专利号CN200780012164.4

  • 发明设计人 李迪;钱德拉·穆利;

    申请日2007-03-15

  • 分类号H01L21/8247;H01L27/115;

  • 代理机构北京律盟知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人王允方

  • 地址 美国爱达荷州

  • 入库时间 2023-12-17 21:49:12

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-05-04

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L21/8247 公开日:20090422 申请日:20070315

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2009-06-17

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-04-22

    公开

    公开

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