首页> 中国专利> 制造磁记录介质的方法、磁记录介质及磁读/写装置

制造磁记录介质的方法、磁记录介质及磁读/写装置

摘要

提供一种制造方法,其能够容易地且廉价地制造离散磁道型磁记录介质。一种制造具有主表面的磁记录介质的方法,在该主表面上按基本上同心的排列来设置磁道4,且在该主表面上形成用于将径向相邻的磁道4相互磁性分离的沟槽5,该方法的特征在于:在平坦的基底1上形成至少磁记录层2以制造工件1a,然后将具有与沟槽5对应的突起的压模压在工件的主表面上,以便将突起的形状转移到工件并在磁道4之间形成沟槽5。

著录项

  • 公开/公告号CN101297358A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2008-10-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 昭和电工株式会社;

    申请/专利号CN200680039768.3

  • 发明设计人 坂胁彰;

    申请日2006-11-07

  • 分类号G11B5/84;G11B5/70;G11B5/73;G11B5/82;

  • 代理机构北京市中咨律师事务所;

  • 代理人杨晓光

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2023-12-17 21:02:23

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-02-01

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G11B5/84 公开日:20081029 申请日:20061107

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2008-12-24

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-10-29

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号