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光记录介质、偶氮系铁螯合物色素和偶氮系金属螯合物色素添加剂

摘要

本发明提供光记录介质、偶氮系铁螯合物色素和偶氮系金属螯合物色素添加剂,所提供的光记录介质是以700nm以下的波长的光进行信息的记录-再生的光记录介质,其耐光性优异,能够实现良好的高速记录、良好的高密度记录。所述光记录介质具有基板、记录层和反射层,所述记录层设置在上述基板上,并含有通过照射700nm以下的波长的光能进行信息的记录或再生的母体色素,其特征在于,该记录层含有至少以Cu2+、Fe2+和Co2+之中的任意一个作为中心金属离子的偶氮系金属螯合物色素添加剂。

著录项

  • 公开/公告号CN101237995A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2008-08-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 三菱化学媒体股份有限公司;

    申请/专利号CN200680029075.6

  • 发明设计人 照田尚;佐竹贤一;内藤优子;

    申请日2006-08-10

  • 分类号B41M5/26(20060101);G11B7/244(20060101);G11B7/24(20060101);

  • 代理机构11127 北京三友知识产权代理有限公司;

  • 代理人丁香兰

  • 地址 日本东京

  • 入库时间 2023-12-17 20:32:26

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-05-19

    专利权的转移 IPC(主分类):G11B7/244 登记生效日:20200429 变更前: 变更后: 申请日:20060810

    专利申请权、专利权的转移

  • 2010-12-08

    授权

    授权

  • 2008-10-01

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-08-06

    公开

    公开

说明书

技术领域

本发明涉及光记录介质、偶氮系铁螯合物色素和偶氮系金属螯合物色素添加剂。更详细地说,本发明涉及对应红色激光或蓝色激光的光记录介质以及用作其光记录材料的偶氮系铁螯合物色素和偶氮系金属螯合物色素添加剂。

背景技术

现今,CD-R/RW、DVD-R/RW、MO等各种光记录介质能够记忆大容量的信息,并且容易随机存取,所以,这些光记录介质作为计算机等信息处理装置中的外部存储装置而被广泛认知,并得到普及。这些之中,以CD-R、DVD-R为代表的有机色素系光记录介质的成本低且容易制造,所以其具有优越性。对于现在一直是主流的DVD-R、DVD+R(以下有时将这些总称为“DVD-R”),在以更高的速度进行记录时,具体地说,以DVD的基准再生速度(3.5m/s)8倍以上的高速进行记录时,要求其具有良好的记录特性。

但是,上述CD-R中使用的花青系色素的耐光性不够好。所以,一直在研究提高耐光性的方法。例如,已大量报道了添加镍二硫醇络合物、偶氮系色素的镍络合物或类胡萝卜素化合物作为单重态氧猝灭剂,形成花青色素与上述猝灭剂的盐的方法(参见专利文献1~3)。

另外,随着处理的信息量的增大,希望提高介质的记录密度。近年,提倡使用有大量开发的蓝色激光等振荡波长短(以下称作“短波长”)的激光的能够进行高密度记录再生的光记录介质。

专利文献1:日本特开昭59-55794号公报

专利文献2:日本特开平9-323478号公报

专利文献3:日本特开2000-190641号公报

发明内容

但是,根据本发明人的研究,大多情况下,所述高速记录用的记录特性和耐光性是相反的特性,并且,高密度记录用的蓝色激光用有机色素大多是耐光性差的色素(例如参见日本特愿2005-131925号和日本特愿2005-051719号的说明书等)。

另外,已报告了很多单重态氧猝灭剂,与800nm附近的记录光用的花青系色素不同,对短波长记录用色素的耐光性提高用的添加剂的认识不够多。

本发明是为了解决开发高密度-高速记录用光记录介质时的课题而完成的。现在对金属络合物、金属螯合物色素的耐光性的老化方面的认识不够多,本发明特别涉及对这些色素发挥效力的添加剂。据认为现有的单重态氧猝灭剂(例如专利文献1中有大量的记载)对提高所述金属络合物或金属螯合物色素的耐光性的效果不充分。本发明是特别为了提供下述的光记录介质用添加剂而完成的,所述添加剂以700nm以下进行记录,对所述有机金属络合物或金属螯合物色素发挥效力。对于花青系色素等具有迁移的有机色素,已经对其耐光性老化的机理进行了多年的研究,所述添加剂对这种有机色素的耐光性的提高也是有用的。

即,本发明的目的是提供一种光记录介质,其是以700nm以下的波长的光进行信息的记录-再生的光记录介质,其耐光性优异,能够实现良好的高速记录、良好的高密度记录;以及提供一种新型的添加剂,通过使该添加剂与母体色素同时含在记录层中,能够提高光记录介质的耐光性。

本发明人鉴于上述实情进行了深入研究,结果发现,以具有特定的中心金属离子的金属螯合物色素作为添加剂,并使其与母体色素同时含在记录层中,能够得到特别优异的提高耐光性的效果,从而完成了本发明。

即,本发明的要点如下:

一种光记录介质,其具有基板、记录层和反射层,所述记录层设置在上述基板上,并含有通过照射700nm以下的波长的光能进行信息的记录或再生的母体色素,其特征在于,该记录层含有至少以Cu2+、Fe2+和Co2+之中的任意一个作为中心金属离子的偶氮系金属螯合物色素添加剂(权利要求1)。

此外,所谓“含有通过照射700nm以下的波长的光能进行信息的记录或再生的母体色素的光记录介质”是指记录层在400nm~800nm波长范围的最大吸光度的极大吸收在630nm以下的光记录介质,换言之,其是对于最大吸光度的极大吸收波长附近的700nm以下的波长的半导体激光的反射率大于10%的光记录介质。

在此,上述偶氮系金属螯合物色素添加剂的中心金属离子优选是Fe2+或Co2+(权利要求2)。

另外,优选再记录层中以相对该记录层的母体色素0.1重量%~50重量%的浓度含有上述偶氮系金属螯合物色素添加剂(权利要求3)。

另外,优选上述偶氮金属螯合物色素添加剂在膜或溶液的状态在400nm~630nm的波长范围和680nm~800nm的波长范围分别具有一个以上的极大吸收(权利要求4)。

另外,优选上述记录层在400nm~630nm的波长范围和680nm~800nm的波长范围分别具有一个以上的极大吸收(权利要求5)。

另外,优选上述母体色素是由从下述通式(I)表示的偶氮化合物上离去了X具有的活性氢的配位体与Zn2+形成的偶氮系金属螯合物色素(权利要求6)。

(通式(I)中,环A表示可以具有取代基的芳香族杂环,X表示具有活性氢的有机基,环B表示除X之外还可以具有取代基的芳香环或芳香族杂环)。

另外,优选上述母体色素是以下述通式(II)表示的花青系色素(权利要求7)。

(通式(II)中,环C和环D各自独立地表示假吲哚环、苯并假吲哚环或者二苯并假吲哚环,L表示单次甲基或三次甲基(トリメチン基),R1和R2各自独立地表示可以具有取代基的烷基。)

另外,本发明的其他要点在于一种偶氮系铁螯合物色素,其特征在于,其由2个从以下述通式(III)表示的偶氮化合物上离去了X具有的活性氢的配位体和Fe2+形成(权利要求8)。

(通式(III)中,环E表示可以具有取代基的芳香族杂环,X表示具有活性氢的有机基,R3和R4各自独立地表示可以具有取代基的烷基。但是,R3与R4之间可以相互结合而形成环,并且,R3和/或R4可以与苯环结合而形成与苯环缩合的4~7元环。此外,2个配位体所具有的环E、X、R3和R4均可以彼此相同,也可以不同)。

另外,本发明的其他要点在于偶氮系金属螯合物色素添加剂,其是用于光记录介质的记录层的添加剂,其特征在于,其由上述的偶氮系铁螯合物色素构成(权利要求9)。

另外,本发明的其他要点在于一种偶氮系金属螯合物色素添加剂,其是光记录介质的记录层中使用的添加剂,其特征在于,其由2个从以下述通式(IV)表示的偶氮化合物上离去了X具有的活性氢的配位体和Co2+形成,该添加剂在膜或溶液的状态时在400nm~630nm的波长范围和680nm~800nm的波长范围分别具有一个以上的极大吸收(权利要求10)。

(通式(IV)中,环E表示可以具有取代基的芳香族杂环,X表示具有活性氢的有机基,R3和R4各自独立地表示可以具有取代基的烷基。但是,R3和R4之间可以相互结合而形成环,并且,R3和/或R4可以与苯环结合而形成与苯环缩合的4~7元环。此外,2个配位体所具有的环E、X、R3和R4均可以彼此相同,也可以不同)。

此外,本发明中,作为光记录介质的记录层的添加剂而使用的偶氮金属螯合物色素(以下将其称作“偶氮金属螯合物色素添加剂”或简称为“添加剂”)与现有的作为单重态氧猝灭剂的镍二硫醇络合物等有机金属络合物有区别。对于其区别的定义,将在下文中描述。

本发明的光记录介质的耐光性优异,并且能够实现良好的高速记录、良好的高密度记录。

另外,通过使本发明的偶氮系金属螯合物色素添加剂与母体色素同时含在记录层中,能够提高光记录介质的耐光性。

另外,本发明的偶氮系铁螯合物色素可以很好地用作上述的本发明的偶氮系金属螯合物色素添加剂。

附图说明

图1(a)是示意性表示本发明的第1实施方式的光记录介质的层构成的一个例子的部分截面图;图1(b)是示意性表示本发明的第2实施方式的光记录介质的层构成的一个例子的部分截面图。

图2(a)是示意性表示本发明的第3实施方式的光记录介质的层构成的一个例子的部分截面图;图2(b)是示意性表示本发明的第4实施方式的光记录介质的层构成的一个例子的部分截面图。

图3(a)是示意性表示本发明的第5实施方式的光记录介质的层构成的一个例子的部分截面图;图3(b)是示意性表示本发明的第6实施方式的光记录介质的层构成的一个例子的部分截面图。

图4给出实验组3(1)和实验组3(2)中的使用具有配位体(I-1)的添加剂的记录层试样的色素保持率的曲线图。

图5(a)、图5(b)均是表示实验组3(1)中的记录层试样的、添加剂的中心金属离子对于耐光性(色素保持率)的效果的差别的曲线图。

图6(a)、图6(b)均是表示实验组3(2)中的记录层试样的、添加剂的中心金属离子对于耐光性(色素保持率)的效果的差别的曲线图。

图7(a)、图7(b)均是用于说明根据含有添加剂的记录层的吸收光谱计算b/a值的方法的图。

图8(a)、图8(b)均是表示实验组2中的各添加剂单膜试样的680nm以上的吸收带相对主吸收带的强度比的曲线图。

图9是表示实验组3(1)中的记录层试样的b/a值与耐光性的关系的曲线图。

图10是表示实验组3(2)中的记录层试样的b/a值与耐光性的关系的曲线图。

图11是表示实验组2中的各添加剂单膜试样按其中心金属离子表示的色素保持率曲线图。

图12(a)、图12(b)分别是实验组2的添加剂(8)和添加剂(17)的单膜试样的吸收光谱。

符号说明

100、200、300、400、500、600光记录介质

101、201基板

102、202、407记录层

103、203反射层

104、204保护层

301、401、501、601基板(1)

302、502、602记录层(1)

303、402、503、603反射层(1)

304、403保护层(1)

305、404、507粘结层

306、405  保护层(2)

307、406、506、606反射层(2)

308、505、605  记录层(2)

309、408、508、607基板(2)

312、313、412、611、612贴合用光盘

411虚拟盘

504中间层

604粘结层(中间层)

608阻隔层

110、210、310、410、510、610激光

具体实施方式

下面详细说明本发明,但本发明不限于下述的说明,只要在其要点的范围内,实施时可以进行各种变化。

[I.本发明的基本概念]

本发明的光记录介质具有基板和设置在所述基板上并含有通过照射700nm以下的波长的光能进行信息的记录或再生的母体色素的记录层,该记录层含有至少以Cu2+、Fe2+和Co2+之中的任意一个作为中心金属离子的偶氮系金属螯合物色素添加剂。

作为用于使用700nm以下的波长的记录光的高速记录(例如8倍速以上或10倍速以上)用DVD-R、蓝色激光等高密度记录用的记录层的有机色素,分解的速度越大越优选。有时不能同时确保其分解速度和耐光性,这种情况下,优选进行改进,弥补记录层所含有的色素的耐光性。但是,如上所述,对于耐光性的提高,已有大量的报告。其大多是关于提高红色激光记录用的具有迁移的有机色素的耐光性的。

尤其已知在CD-R用花青系色素中混合镍二硫醇络合物、β-胡萝卜素等类胡萝卜素等单重态氧猝灭剂的技术方案。单重态氧由花青系色素等在光激发下发生,其使碳-碳双键开裂,引起色素的褪色。上述镍络合物、类胡萝卜素通过1000nm附近的长波段的吸收带对单重态氧消光(淬灭:quench),由此提高耐光性。

如上所述,已知例如具有迁移的有机色素源自三次甲基系花青色素等的长的次甲基链的耐光性的老化起因于单重态氧的产生。

另一方面,作为单重态氧猝灭剂的镍二硫醇络合物等有机金属络合物或偶氮系色素的镍络合物等金属螯合物色素中,其耐光性如上述花青系色素那样差的色素通常不为所知。

所述申请中,本发明人发现,金属螯合物色素中也有耐光性不足的色素。并且发现,如本发明中以下所述,现有已知的紫外线吸收剂、单重态氧猝灭剂对于提高这样的金属螯合物色素的耐光性的效果不大。

本发明人深入研究后发现,具有特定的中心金属离子的金属螯合物色素添加剂、更优选具有特定的配位体且具有特定的中心金属离子的金属螯合物色素添加剂能够提高上述耐光性不足的能通过700nm以下的波长的光进行信息的记录或再生的金属螯合物色素的耐光性。

因而,本发明能够提高能以700nm以下进行信息的记录或再生的、具有迁移的有机色素的耐光性。

与作为CD-R已知的780nm附近的记录光波长用有机色素相比,通常认为更短波长的记录光波长用有机色素更牢固,本发明涉及提高这种有机色素的耐光性用的添加剂。此处所称“添加剂”是指相对于构成记录层的主成分中的有机色素(以下有时将其称作“母体色素”)最大添加量为50重量%的成分。具体地说,指相对于母体色素之中耐光性小于70%的母体色素的重量,最大添加量为50重量%的成分。

此外,作为母体色素,只要在以700nm以下的波长的光进行的8m/s以上的高速记录或最短标记长小于0.4μm的高密度记录中,所形成的记录部不会产生再生上的问题,则没有特别限定。作为满足这样的高速下的良好的记录特性这一要件的母体色素,优选含有其母体色素的膜的色素保持率(也称色素残存率)即耐光性小于70%的成分作为母体色素。

耐光性小于70%的值是被认为耐光性不足的值。所述耐光性不足的母体色素在记录光波长下形成记录部的速度快,所以记录时有时难以引起过度的变形。这种情况下,特别地具有能够进行高速记录、高密度记录的倾向(参见日本特愿2005-131925号说明书等)。

所以,本发明的添加剂不用作记录层的母体色素。其原因在于,不要使母体色素的高速记录或高密度记录的特性受到损害。

此外,作为母体色素,优选由从下述通式(I)表示的偶氮化合物上离去了氢离子的配位体和Zn2+形成的偶氮系金属螯合物色素或以下述通式(II)表示的花青系色素。

通式(I)中,环A表示可以具有取代基的芳香族杂环。作为实例,可以举出噻唑、噻二唑、咪唑、三唑、吡啶、嘧啶等。其中优选噻二唑、咪唑、吡啶。

通式(I)中,X表示具有活性氢的基团。作为实例,可以举出磺酸、羧酸、羟基、磺酰胺、羧基酰胺等。其中,优选磺酰胺、羧基酰胺。

通式(I)中,环B表示除X之外还可以具有取代基的芳香环或芳香族杂环。作为实例,可以举出苯、萘、吡啶、喹啉等。其中优选苯。另外,作为取代基的实例,可举出氨基、烷基、烷氧基、卤原子等。其中优选氨基。

通式(II)中,环C和环D各自独立地表示假吲哚环、苯并假吲哚环或者二苯并假吲哚环。其中,优选苯并假吲哚环。

通式(II)中,L表示单次甲基或三次甲基。其中,优选三次甲基。

通式(II)中,R1和R2各自独立地表示可以具有取代基的烷基。作为实例,可以举出甲基、乙基、己基等。其中优选甲基、乙基。另外,作为取代基的实例,可以举出烷基、芳基、卤原子、烷氧基、氨基等。其中优选烷基、烷氧基。

此外,用于进行上述色素保持率评价的“规定的耐光性试验”优选以ISO-105-B02所示的Wool scale 5级的耐光性试验条件进行。

如下述说明那样,以所述耐光性不足的偶氮系金属螯合物色素作为母体色素的光记录介质中,本发明的效果的不同更明显。

应用本发明的光记录介质中,记录层含有至少以Cu2+、Fe2+、Co2+中的任意一个作为中心金属离子的金属螯合物色素添加剂。以色素化合物作为配位体,并通过以Cu2+、Fe2+、Co2+作为中心金属离子,能够得到较现有的镍络合物更强的提高耐光性的效果。认为其原因为:与Ni2+相比,Fe2+、Co2+的d电子少,所以以Fe2+、Co2+为中心金属离子的金属螯合物色素的稳定化能量大;并且与以Ni2+为中心金属离子的金属螯合物色素相比,其吸收带在长波长侧具有吸收峰。另外,通过这些中心金属离子和配位体的组合的最佳化,能够形成提高耐光性的效果更优异的添加剂。即,认为具有比母体色素更低能量级的添加剂有效地对耐光性差的母体色素所吸收的光能量进行淬灭或失活,从而不易引起母体色素的褪色等,通过调整这样的添加剂的吸收波长、激发状态,能够进一步提高该添加剂所具有的提高耐光性的效果。

具体地说,首先,对于由上述中心金属离子的不同引起的吸收带的波长的不同,有时可以利用配位体场理论进行说明。例如,如后述的[实施例]的[表5]所示,与Ni2+相比,以Co2+为中心金属离子的情况下,吸光度大的吸收带(有时称作主吸收带)大多存在于长波长侧。另外,以Fe2+为中心金属离子的情况下,吸收带存在于680nm以上的长波长侧。另外,通常在以大多于波长680nm以上没有吸收的Co2+为中心金属离子的情况下,通过使用实验组举出的特定的配位体,能够得到在680nm以上的长波长侧具有吸收带的偶氮系钴螯合物色素添加剂。所述偶氮系钴螯合物色素添加剂提高耐光性的效果也优异。

特别是在上述波长680nm以上具有吸收带的物质之中,在配位体具有例如以下举出的结构式的化合物的情况下,添加剂除了上述波长680nm以上的吸收带之外,还具有波长630nm以下的强的极大吸收。因此,与可以以波长700nm以下的光进行信息的记录再生的大多数母体色素所具有的波长630nm以下的母体色素的极大吸收的吸收端的吸收重叠,或者能量能级接近,容易从母体色素通过母体色素的振电能级引起能量移动,更有效地提高母体色素的耐光性。

即,本发明的添加剂在膜或者溶液的状态,在400nm~800nm的波长范围内,在630nm以下具有一个以上的极大吸收且在680nm以上也具有一个以上极大吸收。

换言之,作为本发明的添加剂,优选在膜或者溶液的状态并着眼于400nm~800nm的波长范围的情况下,其在630nm以下的短波长侧的区域(即400nm~630nm的波长范围)和680nm以上的长波长侧的区域(即680nm~800nm的波长范围)分别具有一个以上的极大吸收。

作为本发明的添加剂,特别是在680nm以上的长波长侧的吸收带的短波长侧的吸收端与630nm以下的短波长侧的吸收带(主吸收带)的长波长侧的吸收端具有重叠、且具有作为通常的有机色素不优选的吸收光谱的添加剂作为提高耐光性用的添加剂是更优选的(例如参见后述的图12(a)、图12(b))。

此外,与母体色素是花青系色素的情况下相比,母体色素是偶氮系金属螯合物色素的情况下,本发明的提高耐光性的效果有更为明显的不同。即,与偶氮系金属螯合物色素相比,利用波长700nm以下的光进行记录的花青系色素更易通过过渡金属中心离子提高淬灭效果或失活效果。因此,认为对于偶氮系金属螯合物色素,特别地存在难以提高耐光性的要因。所以,对于耐光性试验中的偶氮系金属螯合物色素的老化的机制,可能存在与花青系色素的老化机制不同的要素。

此外,以难以进一步提高耐光性的效果的偶氮系螯合物色素为母体色素的情况下,只要耐光性在添加本发明的添加剂时比不添加时提高了20%以上,则可以认为其提高耐光性的效果明显,超过了简单的吸收的掩蔽效果。其中,更优选耐光性在添加本发明的添加剂时比不添加时增加30%以上,进一步优选增加40%以上。

另一方面,对于容易实现提高耐光性的效果的花青系色素等具有迁移的色素来说,通过添加本发明的添加剂使耐光性增加60%以上时,认为这种效果是十分有效的。

如上所述,与花青系色素相比,对于偶氮系金属螯合物色素,优选提高耐光性的能力更强的添加剂。

如上所述,提高耐光性的效果因添加剂的中心金属离子的不同而不同,但添加剂本身的耐光性不因添加剂的中心金属离子的不同而出现差异(例如参见后述的图11)。这是因为,以往,通过简单地改变中心金属离子来提高添加剂本身的耐光性,或者在耐光性差的色素中添加耐光性好的色素以用于吸收掩蔽,从而提高耐光性,而以Fe2+、Co2+或Cu2+为中心金属离子的本发明的添加剂与以往已知的添加剂不同,其效果显著。尤其是中心金属离子为Fe2+或Co2+时、特别是中心金属离子为Fe2+的情况下或中心金属离子Co2+与特定的配位体的组合的情况下,通过本发明的添加剂得到的这种显著的效果更显著。

另外,基于上文说明的理由,优选具有本发明的添加剂的记录层在400nm~800nm的波长范围中,在630nm以下具有一个以上的极大吸收且在680nm以上也具有一个以上的极大吸收。

换言之,着眼于400nm~800nm的波长范围的情况下,优选具有本发明的添加剂的记录层在630nm以下的短波长侧区域(即400nm~630nm的波长范围)具有一个以上的极大吸收,并且在680nm以上的长波长侧区域(即680nm~800nm的波长范围)也具有一个以上的极大吸收。

特别是添加剂本身在记录光波长附近具有摩尔吸光系数ε大于2×104、优选大于5×104的非常大的吸光度的主吸收带的吸收端的情况下,进而在记录光波长附近也具有波长680nm以上的高能量侧的吸收端的情况下,记录层的母体色素所吸收的激发能量通过上述吸收端被有效地从添加剂的激发区域传播到失活过程,所以其具有更大的淬灭效果或失活效果,提高耐光性的效果增大。另外,添加剂分子内的波长630nm以下的吸收带的吸收端与波长680nm以上的吸收带的吸收端的重叠程度越大,2个吸收带间越容易发生能量移动,所以产生了更高的提高耐光性的效果。所以,例如以往已知的镍等的二硫醇金属络合物在可见区域仅有弱吸收,所以没有本发明的添加剂那样的效果。如上所述,本发明中的“金属螯合物色素”是至少在可见区域具有所述大的吸收的金属螯合物色素。

另外,以往已知,通过不同的化合物来负责(添加)记录光波长附近的吸收带与1000nm附近的长波长侧的吸收带,或者形成盐,在比不同分子间的距离稍近的部分发生能量移动。与此相对,本发明更优选一个化合物在上述2个区域具有强的吸收带。由于一个化合物内同时具有这样的吸收带,所以吸收的记录再生光或耐光性试验光的能量移动的效率更好,进而可实现淬灭效果或失活效果,能得到更大的提高耐光性的效果。该吸收带的吸光度越大,越有效,为了得到所述大的吸光度,配位体的选择成为了重点。当然,上述吸收带的波长与配位体和中心金属离子的组合有关。

另外,与形成盐的方法相比,使用添加剂的本发明的方法可以自由地设定添加剂的添加量,所以容易防止记录特性和记录层的膜质的劣化。

作为所述更优选的添加剂,更具体地说是具有一部分偶氮色素化合物作为配位体且以Co2+为中心金属离子的偶氮系金属螯合物色素或以Fe2+为中心金属离子的偶氮系金属螯合物色素。

此外,上述优选的偶氮系金属螯合物色素添加剂中,对于在一分子内具有波长630nm以下的极大吸收和波长680nm以上的长波长侧的极大吸收的偶氮系金属螯合物色素来说,其溶液状态和涂布膜状态的吸收光谱中在吸收峰值波长的差只观察到小于10nm的小的差。认为这也与作为提高耐光性用添加剂的稳定的添加效果有关。

作为构成本发明的添加剂的配位体的偶氮系色素化合物的例子,具体可举出下述的化合物。

此外,上述偶氮系色素化合物中,色偶成分-NHSO2CF3基或-NHCOCF3基经活性氢的离去而形成-N-(SO2CF3)基或-N-COCF3基,并与中心金属离子络合。此外,所述偶氮系色素化合物作为母体色素的配位体也是优选的。

优选具有所述偶氮系色素化合物作为配位体的添加剂,原因为,其在可见区域具有非常强的吸收带。这是因为,如上所述,母体色素能够更高效地将光能传播给添加剂。

基于相同的理由,还优选具有容易与母体色素产生能量移动的结构的添加剂的配位体。这意味着,有时优选母体色素也具有上述添加剂的配位体。

另一方面,本发明可以以光记录介质的记录层的添加剂来理解,其特征在于,其具有以下述通式(III)、(IV)表示的化合物作为配位体。

即,作为本发明中的提高耐光性用添加剂,一个是下述的偶氮系金属螯合物色素添加剂,其由偶氮系铁螯合物色素(有时将其称为“本发明的偶氮系铁螯合物色素”)形成,所述偶氮系铁螯合物色素由两个从以下述通式(III)表示的偶氮化合物上离去了X具有的活性氢的配位体与Fe2+形成,其中两个是指配位体为两个。

通式(III)中,环E表示可以具有取代基的芳香族杂环。作为实例,可以举出噻唑、噻二唑、咪唑、三唑、吡啶、嘧啶等。其中优选噻二唑、咪唑、吡啶。具有取代基的情况下,作为其实例,可以举出烷基、芳基、卤原子、酯基、氰基、硝基、烷氧基、烷硫基等。其中优选烷基、酯基、氰基。

通式(III)中,R3和R4各自独立地表示可以具有取代基的烷基。作为实例,可以举出甲基、乙基、异丁基等。其中优选乙基、异丁基。具有取代基的情况下,作为其实例,可以举出芳基、烷氧基、酯基、卤原子等。

此外,通式(III)中,R3与R4之间可以相互结合而形成环。作为实例,可以举出氮丙啶、吖丁啶、吡咯烷、哌啶、氮杂环庚烷(azepane)、吗啉等。其中优选吡咯烷、哌啶。

另外,通式(III)中,R3和/或R4可以与苯环结合而形成与苯环缩合的4~7元环。作为实例,可以举出二氢吲哚、四氢喹啉、苯并氮杂卓(benzazepine)、咔唑等。其中优选二氢吲哚、四氢喹啉。

通式(III)中,X表示具有活性氢的有机基。例如可以举出磺酰胺基、羧酰胺基、磺酸基、羧酸基、羟基等。优选羧酰胺基、磺酰胺基。其中,-NHSO2CF3等磺酰胺基可以稳定地得到铁络合物,所以是特别优选的。

此外,上述通式(III)中,两个配位体上的环E、X、R3和R4均可彼此相同,也可以不同。

以上述通式(III)表示的配位体的每1分子的分子量通常为100以上,优选为300以上,且通常为1000以下,优选为600以下。配位体的分子量过小时,吸收波长、溶解性等的调整范围有可能变窄,基于这个理由,配位体的分子量过小时不是优选的,另外,配位体的分子量过大时,克吸光系数变小,光学特性变差,基于这个理由,配位体的分子量过大也不是优选的。

特别是对于由上述的偶氮系铁螯合物色素形成的偶氮系金属螯合物色素添加剂,更优选使用镍络合物等的记录色素的记录特性好的配位体作为其配位体。具体地说,可以使用作为如上所述的“构成本发明的添加剂的配位体的偶氮系色素化合物”的实例举出的物质。但是,作为提高耐光性的添加剂,其不必与记录特性特别相关。

作为本发明中提高耐光性用的添加剂,另一个是下述的偶氮系金属螯合物色素添加剂,其由两个从以下述通式(IV)表示的偶氮化合物上离去了X具有的活性氢的配位体与Co2+形成,该添加剂在膜或溶液的状态下在400nm~630nm的波长范围和680nm~800nm的波长范围分别具有一个以上的极大吸收。

此外,本偶氮系钴螯合物色素添加剂的“680nm以上的极大吸收”除了明确的极大吸收之外,还包括“吸收肩”,所谓“吸收肩”可以看作在吸收带的吸收端具有的其他的吸收带。

通式(IV)中,环E表示可以具有取代基(烷基、芳基、卤原子、酯基、氰基、硝基、烷氧基、烷硫基等。其中,优选烷基、酯基、氰基)的芳香族杂环。

通式(IV)中,R3和R4各自独立地表示可以具有取代基的烷基。作为实例,可以举出甲基、乙基、异丁基等。其中优选乙基、异丁基。具有取代基的情况下,作为其实例,可以举出芳基、烷氧基、酯基、卤原子等。

此外,通式(IV)中,R3与R4之间可以相互结合而形成环。作为实例,可以举出氮丙啶、吖丁啶、吡咯烷、哌啶、氮杂环庚烷、吗啉等。其中优选吡咯烷、哌啶。

另外,通式(IV)中,R3和/或R4可以与苯环结合而形成与苯环缩合的4~7元环。作为实例,可以举出二氢吲哚、四氢喹啉、苯并氮杂卓、咔唑等。其中优选二氢吲哚、四氢喹啉。

通式(IV)中,X表示具有活性氢的有机基。例如可以举出磺酰胺基、羧酰胺基、磺酸基、羧酸基、羟基等。优选羧酰胺基、磺酰胺基。其中,-NHSO2CF3等磺酰胺基可以稳定地得到铁络合物,所以是特别优选的。

此外,通式(IV)中,两个配位体上的环E、X、R3和R4均可彼此相同,也可以不同。

以上述通式(IV)表示的配位体的分子量通常为100以上,优选为300以上,且通常为1000以下,优选为600以下。配位体的分子量过小时,吸收波长、溶解性等的调整范围有可能变窄,基于这个理由,配位体的分子量过小不是优选的,另外,配位体的分子量过大时,克吸光系数变小,光学特性变差,基于这个理由,配位体的分子量过大也不是优选的。

此外,虽然理由不清楚,但是中心金属离子是Co2+的偶氮系金属螯合物色素添加剂有无680nm以上的极大吸收有时可根据配位体来进行判断。

作为优选的配位体的实例,可以举出下述物质。

如上所述,本发明的添加剂优选添加量为记录层的母体色素的0.1重量%~50重量%,具体地说,“添加剂”的添加量的下限通常为0.1重量%以上,优选为0.5重量%以上。另一方面,添加量的上限通常为50重量%以下,优选为40重量%以下,进一步优选为15重量%以下。认为在该范围的情况下,能够在添加剂不对记录特性产生太大影响下提高耐光性。

如上所述,优选记录层含有本发明的添加剂,并且记录层单层的紫外-可见吸收光谱(400nm~800nm的波长范围)中,除了波长630nm以下的吸收之外,在波长680nm以上也具有极大吸收。如上已说明的那样,这意味着记录层适量含有以例如Fe2+为中心金属离子的金属螯合物色素中的具有明显的极大吸收的添加剂。

为了根据含有添加剂的记录层的吸收光谱判断添加剂本身在波长680nm以上的吸收带是什么程度的强吸收以及添加多少这种添加剂,设极大吸收波长的吸光度为b、假设无该吸收带时的吸收光谱的基线的吸光度为a,求出b/a的值即可。

在此,使用图7(a)、图7(b)对根据含有添加剂的记录层的吸收光谱求出b/a值的方法进行说明。

在波长680nm以上的区域存在极大吸收(峰)的情况下,如图7(a)所示,记录层在波长680nm以上的长波长侧的吸收带的吸光度远远低于记录层在波长630nm以下的吸收带的吸光度,或者两者的吸收带的吸收端的重叠不那么大,基线平稳地衰减的情况下,沿峰的两侧的吸收光谱,制成基线的外推线(图中的虚线),由此可以对基线进行内补偿(補間)。

另一方面,如图7(b)所示,峰的高波长侧的吸光度比低波长侧的吸光度高或相同的情况下,难以利用上述方法对基线进行补偿。因此,这种情况下,求出峰的低波长侧的起始部分的吸光度,制作吸光度恒定为该值的直线(图中的虚线),以其作为基线的外推线。

此外,作为出现图7(b)所示的吸收光谱的情况,可以举出例如相对于添加剂在波长630nm以下的极大吸收,在波长680nm以上的长波长侧的极大吸收极强。

本发明中,图7(a)所示的添加剂优选于图7(b)所示的添加剂,图7(a)所示的添加剂能更有效地进行上述的能量移动。

由上述可知,b/a>1的情况下,也就是说除了波长630nm以下的极大吸收之外,可以认为在680nm以上的长波长侧有弱的吸收带的情况下,对含有能通过照射波长700nm以下的光进行信息的记录或再生的有机色素的记录层来说,能更明显地提高耐光性。为了得到明显的添加效果,b/a更优选为1.05以上,进一步优选为1.1以上。

此外,b/a优选为1.5以下。如上所述,这是由于本发明的添加剂不必重视记录特性,所以优选其添加量适量。

此外,可例如通过下述(1)~(4)的方法进行本发明中的以Cu2+、Fe2+、Co2+为中心金属离子的添加剂的检测。

·方法(1):

切出具有记录层的光盘,将记录层溶解到适当的有机溶剂中,对所得到的溶液进行离子色谱法。这种情况下,通过后置柱(post column)混合显色剂后分离离子进行检测。更详细地说,以显色剂展开各离子的吸收区域,用柱分离各离子,可以以出峰时间检测各离子,同时能够检测出其强度。

另一方面,下述的(2)~(4)的方法可以使用固层(膜)试样或固体(色素粉末)试样进行。即,可以以从记录层或光盘提取的色素或色素本身作为对象进行检测。

·方法(2)(XAFS法):

根据上述试样的X线吸收光谱,在能量高于吸收端的这一侧约30eV~1KeV的区域,各离子在各自固有的波长吸收X线而被激发,所以可以识别各离子。

·方法(3)(XPS法):

对上述试样照射X线时,对于各离子来说,光谱的运动能量分布是不同的,所以可以识别各离子。

·方法(4)(Mossbauer(メスバゥヮ一)法):

其是仅检测铁离子的有效的方法。根据多普勒效果,可得到共振吸收的位置、宽,或得到以多普勒速度为横轴的吸收曲线。对于铁离子来说,2价、3价的铁离子的光谱是不同的,所以可以识别这些不同价的铁离子。

此外,还可以通过例如Trends in Analytical Chemistry,24(3),2005,pp.192-198所记载的方法识别各离子。

[II.本发明的实施方式]

接着,利用图1(a)、图1(b)、图2(a)、图2(b)、图3(a)、图3(b)说明本发明的实施方式。此外,图1(a)、图1(b)、图2(a)、图2(b)、图3(a)、图3(b)分别是示意性表示本发明的实施方式的光记录介质100~600的层构成的例子的部分截面图。

此外,下述的描述中,为了方便说明,图1(a)、图1(b)、图2(a)、图2(b)、图3(a)、图3(b)的各图中,图的上方和下方分别为光记录介质100~600的上方和下方,对应这些的方向的构成光记录介质100~600的各层的各面分别为各层的上面和下面。

本发明的光记录介质的结构中,至少具有基板、记录层和反射层。并且,如上所述,记录层含有通过照射700nm以下的光能进行信息的记录或再生的有机色素和以Cu2+、Fe2+、Co2+中的任意一个为中心金属离子的偶氮系金属螯合物色素即添加剂(本发明的添加剂)。此外,根据需要,还可以设置底涂层、保护层等其他的各种层。

首先对本发明的第1实施方式进行说明。

图1(a)是示意性说明本发明的第1实施方式的光记录介质的层构成的图。图1(a)所示的光记录介质100具有由透光性材料形成的基板101、设置在基板101上的记录层102、依次层积在记录层102上的反射层103和保护层104。于是,该光记录介质100在从基板101侧照射的激光110的作用下进行信息的记录-再生。

下面对这些各层依次进行说明。

基板101在记录光和再生光的波长下是基本透明的材料的话,可以使用各种材料。具体地说,可以举出例如丙烯酸类树脂、甲基丙烯酸类树脂、聚碳酸酯树脂、聚烯烃类树脂(特别是无定形聚烯烃)、聚酯类树脂、聚苯乙烯树脂、环氧树脂等树脂;玻璃。另外,还可以举出在玻璃上设置有由光固化性树脂等放射线固化性树脂形成的树脂层的结构。其中从高生产率、成本、耐吸湿性等的角度出发,优选注射成型法使用的聚碳酸酯树脂,从耐试剂性和耐吸湿性等的角度出发,优选无定形聚烯烃。另外,从高速应答等角度出发,优选玻璃。

使用树脂制造的基板101的情况下,或者使用在与记录层相接的一侧(上侧)设有树脂层的基板101的情况下,可以在上面形成记录再生光的导向槽或凹坑。作为导向槽的形状,可以举出以光记录介质100的中心为基准的同心圆状的形状、螺旋状的形状。形成螺旋状的导向槽的情况下,优选槽间距约为0.2μm~0.8μm。

记录层102直接形成在基板101的上侧,或者根据需要形成在设置在基板1上的底涂层等的上侧,其含有通过照射700nm以下的光能进行信息的记录或再生的有机色素(母体色素)和至少以Cu2+、Fe2+、Co2+中的任意一个为中心金属离子的偶氮系金属螯合物色素即添加剂(本发明的添加剂)。母体色素和本发明的添加剂均可以单独使用一种,也可以以任意组合和比例并用2种以上。

作为母体色素和本发明的添加剂以外的色素,在记录层102中根据需要也可以合用二苯甲酮系色素、酞菁系色素、萘酞菁系色素、偶氮系金属螯合物色素、方酸内鎓盐系色素、三芳基甲烷系色素、部花青系色素、薁鎓系色素、萘醌系色素、蒽醌系色素、靛酚系色素、呫吨系色素、噁嗪系色素、吡喃鎓盐系色素等有机色素,并可根据需要合用粘合剂、流平剂、消泡剂等。这些成分可以单独使用任意一种,也可以以任意组合和比例使用2种以上。但是,这些成分的用量要控制在不损害本发明的目的即高速或高密度记录的特性的范围内。

作为记录层102的成膜方法,可以举出真空淀积法、溅射法、刮刀法、浇注法、旋涂法、浸渍法等通常进行的各种薄膜形成法。从大量生产和成本的角度出发,优选旋涂法,从得到均匀的厚度的记录层102的方面考虑,真空淀积法等优选于涂布法。利用旋涂法进行成膜的情况下,优选转速为500rpm~15000rpm。另外,有时可以在旋涂后实施进行加热、喷溶剂蒸气等的处理。

通过刮刀法、浇注法、旋涂法、浸渍法等涂布法形成记录层102的情况下,将母体色素和本发明的添加剂以及根据需要使用的其他的成分溶解在溶剂中,制作涂布液,将该涂布液涂布到基板101上,由此形成记录层102。涂布液的制作中使用的涂布溶剂只要不浸蚀基板101,并且对母体色素和本发明的添加剂的溶解性在能够制作可用分光光度计检测出吸收的浓度的溶液的程度,则对其种类没有特别限定。具体地说,可以举出例如二丙酮醇、3-羟基-3-甲基-2-丁酮等酮醇类溶剂;甲基溶纤剂、乙基溶纤剂等溶纤剂类溶剂;正己烷、正辛烷等链状烃类溶剂;环己烷、甲基环己烷、乙基环己烷、二甲基环己烷、正丁基环己烷、叔丁基环己烷、环辛烷等环状烃类溶剂;四氟丙醇、八氟戊醇、六氟丁醇等全氟烷基醇类溶剂;乳酸甲酯、乳酸乙酯、2-羟基异丁酸甲酯等羟基羧酸酯类溶剂等。

另一方面,采用真空淀积法的情况下,例如根据需要将其他的色素和各种添加剂等记录层成分装入设置在真空容器内的坩埚中,用适当的真空泵将该真空容器内抽真空到10-2~10-5Pa左右,然后对坩埚进行加热,使记录层成分蒸发,将其蒸镀到对向坩埚设置的基板上,由此形成记录层102。

对于不同的记录方法等,记录层102的适合的膜厚不同,所以对记录层102的膜厚没有特别限定,但为了能够进行记录,需要具有一定程度的膜厚,所以记录层102的膜厚通常为1nm以上,优选为5nm以上。但是,记录层102的膜厚过厚时,也有可能不能良好地进行记录,所以记录层102的膜厚通常为300nm以下,优选为200nm以下,更优选为100nm以下。

另外,记录层102在记录再生光波长的衰减系数(双折射率的虚部)k通常优选为0.01~0.6。另外,记录再生光波长的折射率(双折射率的实部)n通常优选为0.5~3。

反射层103形成在记录层102之上。反射层103的膜厚优选为30nm以上,更优选为50nm以上,并且优选为300nm以下,更优选为200nm以下。作为反射层103的材料,可以举出再生光的波长下具有充分高的反射率的材料,例如可以单独使用Au、Al、Ag、Cu、Ti、Cr、Ni、Pt、Ta、Pd等金属或将这些金属制成合金使用。这些之中,Au、Al、Ag的反射率高,适合作为反射层103的材料。

另外,在以这些金属为主成分的基础上,还可以含有其他材料。在此“主成分”是指含有率为50%以上的成分。作为主成分以外的其他材料,可以举出例如Mg、Se、Hf、V、Nb、Ru、W、Mn、Re、Fe、Co、Rh、Ir、Cu、Zn、Cd、Ga、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Bi、Ta、Ti、Pt、Pd、Nd等金属和半金属。从成本低、容易得到高反射率、设置后述的印刷受容层时本色白净等方面出发,其中,特别优选以Ag为主成分。例如以Ag为主成分并进一步含有通常为0.1原子%~5原子%的选自Au、Pd、Pt、Cu和Nd中的一种以上金属的合金的反射率高、耐久性高、灵敏度高且成本低,所以是优选的。具体例如是AgPdCu合金、AgCuAu合金、AgCuAuNd合金、AgCuNd合金等。作为金属以外的材料,将低折射率薄膜和高折射率薄膜交替叠置而形成多层膜,可以以此作为反射层103使用。

作为形成反射层103的方法,可以举出例如溅射法、离子镀法、化学蒸镀法、真空淀积法等。另外,为了提高反射率、改善记录特性、提高密合性等,可以在基板101之上、反射层103之下设置公知的无机系或有机系中间层、粘结层。

保护层104形成在反射层103之上。保护层104的材料只要可以保护反射层103不受外力影响就没有特别限定。具体地说,作为有机物质的材料的例子,可以举出热塑性树脂、热固性树脂、电子线固化性树脂、UV固化性树脂等。作为无机物质的例子,可以举出氧化硅、氮化硅、氟化镁(MgF2)、二氧化锡(SnO2)等。这些材料可以单独使用任意一种,也可混合两种以上使用。

使用热塑性树脂、热固性树脂等的情况下,将其溶解在适当的溶剂中,制成涂布液,将该涂布液涂布在反射层103上,使其干燥即可形成保护层104。

另外,使用UV固化性树脂的情况下,可以直接将该树脂涂布在反射层103上,或者溶解在适当的溶剂中而制备成涂布液后,在反射层103上涂布该涂布液,然后照射UV光使其固化,从而形成保护层104。此外,作为UV固化性树脂,可以使用例如尿烷丙烯酸酯、环氧丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯等丙烯酸酯类树脂。

作为形成保护层104的方法,与记录层102相同,可以采用旋涂法、浇注法等涂布法;溅射法、化学蒸镀法等方法,其中优选旋涂法。

对于保护层104的膜厚,为了实现其保护功能,必须具有某种程度的厚度,所以保护层104的膜厚通常为0.1μm以上,优选为3μm以上。但是,保护层104的膜厚过厚时,不仅效果没有改变,而且保护层104的形成需要时间,成本有可能增高,所以保护层104的膜厚通常为100μm以下,优选为30μm以下。

此外,保护层104可以以单层的形式形成,也可以以多层的形式形成。

接着,对本发明的第2实施方式进行说明。

图1(b)是示意性说明本发明的第2实施方式的光记录介质的层构成的图。图1(b)所示的光记录介质200具有由透光性材料形成的基板201、设置在基板201上的反射层202、依次层积在反射层202上的记录层203和保护层204。于是,在从保护层204侧照射的激光210的作用下,光记录介质200进行信息的记录-再生。

下面依次对这些层进行说明。

基板201与第1实施方式中的基板101基本相同,但不必一定是透明的。所以,除了上述适合基板101的材料以外,还可以使用不透明的树脂、陶瓷、金属(含合金)等。

反射层202和记录层203分别与第1实施方式中的反射层103和记录层102相同。

保护层204可以通过粘结剂贴合厚度为50μm~100μm的膜或片状物来形成,也可以使用与第1实施方式中的保护层104相同的材料,重复涂布成膜用的涂布液并进行固化或干燥的工序进行层积来形成。考虑到拾取器(ピックァップ)的焦点深度等,优选保护层204在光学允许的厚度范围,通常整体的膜厚为100μm±3μm左右。

另外,作为提高光记录介质100、200的记录密度的方法之一,可以举出提高物镜的数值孔径。由此可以使聚焦在信息记录面的光斑微小化。但是,若提高物镜的数值孔径,则在为进行记录/再生而照射激光时,光学记录介质100、200的翘曲等引起的光斑的像差容易变大,所以有时不能稳定地得到良好的记录再生信号。

激光透过的透明基板101或保护层204的膜厚越厚,这样的像差越容易变大,所以为了减少像差,优选尽可能减薄基板101或保护层204。但是,为了确保光学记录介质100的强度,通常基板101需要一定的厚度,所以,这种情况下,优选采用光学记录介质200的层构成(由基板201、反射层202、记录层203、保护层204构成的基本的层构成)。与减薄光学记录介质100的基板101相比,更容易减薄光学记录介质200的保护层204,所以优选使用光学记录介质200。

但是,即使是光记录介质100的层构成(由基板101、记录层102、反射层103、保护层104形成的基本的层构成),通过将记录-再生用激光通过的透明的基板101的厚度减薄至50μm~300μm左右,使用时也能减少像差。

接着,说明本发明的第3~第6实施方式。

图2(a)是示意性说明本发明的第3实施方式的光记录介质的层构成的图。图2(a)所示的光记录介质300具有基板(1)301、记录层(1)302、反射层(1)303、保护层(1)304、粘结层305、保护层(2)306、反射层(2)307、记录层(2)308、基板(2)309依次层积形成的层构成。对于该光记录介质300,从基板(2)309侧照射激光310,由此在记录层(1)302进行信息的记录-再生,并且从基板(1)301侧照射激光311,由此在记录层(2)308进行信息的记录-再生。

这样的光记录介质300是通过用粘结层305将贴合用光盘312和贴合用光盘313以保护层(1)304和保护层(2)306相对的方式贴合而构成的,所述贴合用光盘312是依次层积基板(1)301、记录层(1)302、反射层(1)303、保护层(1)304形成的;所述贴合用光盘313是依次层积基板(2)309、记录层(2)308、反射层(2)307、保护层(2)306形成的。

上述的光记录介质300的各层之中,基板(1)301和基板(2)309与第1实施方式中的基板101基本相同。

另外,记录层(1)302和记录层(2)308与第1实施方式中的记录层102基本相同。

并且,反射层(1)303和反射层(2)307与第1实施方式中的反射层104基本相同。

并且,保护层(1)304和保护层(2)306与第2实施方式中的保护层204基本相同。

另外,作为粘结层305的材料,只要是能够粘结贴合用光盘312的保护层(1)304和贴合用光盘313的保护层(2)306的透明的材料,可以使用任意的材料。具体地说,可以使用与第1实施方式中的保护层104相同的材料、与第2实施方式中的保护层204相同的材料。

图2(b)是示意性说明本发明的第4实施方式的光记录介质的层构成的图。图2(b)所示的光记录介质400具有基板(1)401、反射层(1)402、保护层(1)403、粘结层404、保护层(2)405、反射层(2)406、记录层407、基板(2)408依次层积形成的层构成。通过从基板(2)408侧照射激光410,该光记录介质400在记录层207进行信息的记录-再生。

该光记录介质400是通过用粘结层404将虚拟盘411和贴合用光盘412以保护层(1)403和保护层(2)405对向的方式贴合而构成的,所述虚拟盘411是依次层积基板(1)401、反射层(1)402、保护层(1)403形成的,所述贴合用光盘412是依次层积基板(2)408、记录层407、反射层(2)406、保护层(2)405形成的。

并且可以省略保护层(1)和保护层(2),用粘结层404进行贴合时使反射层(1)402和反射层(2)406对向。

上述的光记录介质400的各层之中,基板(1)401和基板(2)408与第1实施方式中的基板101基本相同。但是,基板(1)401不必一定是透明的,所以还可以使用与第2实施方式中的基板201相同的材料。另外,基板(1)401上不必形成记录再生光的导向槽、凹坑。

另外,反射层(1)402和反射层(2)406与第1实施方式中的反射层104基本相同。

并且,保护层(1)403和保护层(2)405与第2实施方式中的保护层204基本相同。

并且,粘结层404与第3实施方式中的粘结层305基本相同。

并且,记录层407与第1实施方式中的记录层102基本相同。

图3(a)是示意性说明本发明的第5实施方式的光记录介质的层构成的图。图3(a)所示的光记录介质500具有基板(1)501、记录层(1)502、反射层(1)503、中间层504、记录层(2)505、反射层(2)506、粘结层507和基板(2)508依次层积形成的层构成。通过从基板(1)501侧照射激光510,该光记录介质500在记录层(1)502和记录层(2)505分别进行信息的记录-再生。

该光记录介质500如下构成:依次层积形成基板(1)501、记录层(1)502、反射层(1)503、中间层504、记录层(2)505、反射层(2)506,然后将基板(2)508对向反射层(2)506用粘结层507进行贴合。但是,通常在中间层504表面形成记录层(2)505的记录再生光的导向槽、凹坑。在其上形成记录层(2)505。作为在中间层504表面形成导向槽、凹坑的方法,可以举出使用树脂压模的方法等(例如参见日本特开2003-67990号公报)。

上述的光记录介质500的各层之中,基板(1)501和基板(2)508与第1实施方式中的基板101基本相同。但是,基板(2)508不必一定是透明的,所以也可以使用与第2实施方式中的基板201相同的材料。另外,基板(2)508上不必形成记录再生光的导向槽、凹坑。

另外,记录层(1)502和记录层(2)505与第1实施方式中的记录层102基本相同。

另外,反射层(1)503和反射层(2)506与第1实施方式中的反射层104基本相同。但是,反射层(1)503通常构成为可透过记录层(2)505的记录再生光。由此,为了确保对记录层(2)505的记录再生波长具有40%以上的透过性,通常将膜厚设定为50nm以下、优选30nm以下、进一步优选25nm以下。并且,通常将膜厚设定在3nm以上、优选5nm以上,以使记录层(1)502不渗出到中间层504,并且要得到足够的反射率。

另外,作为中间层504的材料,可以使用与第3实施方式中的粘结层305相同的材料中具有透明性的材料。

另外,粘结层507与第3实施方式中的粘结层305基本相同。

图3(b)是示意性说明本发明的第6实施方式的光记录介质的层构成的图。图3(b)所示的光记录介质600具有基板(1)601、记录层(1)602、反射层(1)603、粘结层(中间层)604、阻隔层608、记录层(2)605、反射层(2)606、基板(2)607依次层积形成的层构成。通过从基板(2)607侧照射激光610,该光记录介质600在记录层(1)602和记录层(2)605分别进行信息的记录-再生。

该光记录介质600是利用粘结层(中间层)604将贴合用光盘611和贴合用光盘612以反射层(1)603和阻隔层608对向的方式贴合而构成的,其中,贴合用光盘611是基板(1)601、记录层(1)602、反射层(1)603依次层积形成的,贴合用光盘612是基板(2)607、反射层(2)606、记录层(2)605、阻隔层608依次层积形成的。

上述的光记录介质600的各层之中,基板(1)601与第1实施方式中的基板1 01基本相同。另外,基板(2)607与第2实施方式中的基板201基本相同。

并且,记录层(1)602和记录层(2)605与第1实施方式中的记录层102基本相同。

并且,反射层(1)603和反射层(2)606与第1实施方式中的反射层104基本相同。但是反射层(1)603通常与按照使记录层(2)605的记录再生光透过的方式构成的第5实施方式中的反射层(1)503相同地形成。

并且,粘结层(中间层)604使用与第5实施方式中的粘结层504相同的材料。

另外,设置阻隔层608,以防止记录层(2)605渗出到粘结层(中间层)604。对阻隔层608的材料没有特别规定,可以举出例如Si、Zn、Ag、Al、Ti、Sn、W、Cu、Ge、Mn、Sb、Zr等单质或化合物(氧化物、氮化物、硫化物等)。考虑到熔点、刚性等诸物理性能,可以适当选择使用这些材料,所以可以单独使用,也可组合二种以上使用。

阻隔层608通常可使记录和再生使用的激光透过70%以上,特别优选可使90%以上透过。所以,阻隔层608的层厚通常为1nm以上,优选为2nm以上,进一步优选为3nm以上,并且通常为80nm以下,优选为50nm以下,进一步优选为20nm以下。

对于上述说明的本发明的各实施方式的光记录介质100、200、300、400、500、600,从实现高密度记录的方面考虑,用于信息的记录-再生的激光的波长越短越优选,特别优选波长350nm~680nm的激光。作为所述激光的代表例,可以举出中心波长约405nm、约410nm、约515nm、约635nm、约660nm、约680nm的激光(此处,“约”是指允许±5nm左右的波长浮动)。

作为高速记录使用的波长,供给的是660nm附近的红色半导体激光。使用该波长的情况下,优选作为母体色素的膜的最接近660nm的极大吸收在580nm~620nm的范围。

作为记录再生使用的波长,最优选使用有利于高密度化的短波长且供给实用的半导体激光的波长405nm。使用该波长的情况下,优选母体色素的最大吸收波长位于300nm~600nm。

对于本发明的各实施方式的光记录介质100、200、300、400、500、600,进行信息的记录时,通常对记录层(包括记录层(1)和记录层(2))102、202、302、308、407、502、505、602、605(从各实施方式中说明的方向)照射聚焦在0.4μm~0.6μm左右的激光。记录层102、202、302、308、407、502、505、602、605照射到激光的部分吸收激光的能量,因而发生分解、放热、溶解等热变形;发生折射率的变化,所以光学特性发生变化。

另一方面,对记录在记录层102、202、302、308、407、502、505、602、605的信息进行再生时,同样地对记录层102、202、302、308、407、502、505、602、605(通常从与记录时相同的方向)照射更低能量的激光。对于记录层102、202、302、308、407、502、505、602、605,通过读取光学特性发生变化的部分(即记录了信息的部分)的反射光量与没有发生变化的部分的反射光量的差,进行信息的再生。

此外,可以对上述说明的光记录介质100、200、300、400、500、600的构成进行各种变化。例如,在不超出本发明的宗旨的范围,设置上述各层之外的其他层,或者省略一部分层,或者将一部分层分为几个层形成,或者改变各层的层积顺序。

例如,上述的各层的形成后,可以在记录-再生激光的入射面进行紫外线固化树脂层、无机系薄膜等的成膜,以进行表面的保护或防止杂质等的附着,还可以在非记录-再生激光入射面的面设置可以使用喷墨、热感转印等各种印刷机或各种文具进行记入、印刷的印刷受容层。

实施例

下面使用实施例更详细地说明本发明,但只要不超出本发明要点,本发明并不限定于以下实施例。

[实验组1:偶氮系金属螯合物色素(添加剂)的合成]

通过下述的方法合成后述的各实验组中用作添加剂的偶氮系金属螯合物色素添加剂。

此外,下述记载中,对于由偶氮化合物形成的配位体,有时在描述时添加对应的偶氮化合物的编号。例如,将由偶氮化合物(I-1)形成的配位体描述成“配位体(I-1)”。

另外,下述的记载中,有时同时记录其配位体的编号和金属离子的原子记号来表示偶氮系金属螯合物色素添加剂。例如,两个配位体(I-1)与2价铁离子构成的偶氮系金属螯合物色素添加剂表示成“(I-1)2(Fe2+)色素添加剂”。

另外,例如像配位体(I-1)、配位体(I-2)和配位体(I-A)这样,所带的编号含有相同的罗马数字的配位体表示其基本骨架相同、对单独配位体而言认为其性质类似的配位体。

〔合成例1:(I-1)2(Fe2+)色素添加剂的合成〕

将2.63g以下述结构式表示的偶氮化合物(I-1)溶解在100ml THF(四氢呋喃)中,通过过滤除去残渣。另外将0.69g氯化铁(II)4水合物溶解于10ml甲醇,通过过滤除去残渣后,将该溶液滴加到上述的偶氮化合物(I-1)的THF溶液。其后,进一步滴加90ml水,过滤析出的结晶,依次用THF、水、甲醇进行清洗,经干燥得到1.99g以下述结构式表示的目的化合物(配位体(I-1)的铁(2价)色素添加剂:(I-1)2(Fe2+)色素添加剂)。

偶氮化合物(I-1)

(I-1)2(Fe2+)色素添加剂

得到的(I-1)2(Fe2+)色素添加剂在三氯甲烷中的极大吸收波长为558nm、克吸光系数为75。

〔合成例2:(II-2)2(Fe2+)色素添加剂的合成〕

将2.00g以下述结构式表示的偶氮化合物(II-2)溶解在70ml THF中,通过过滤除去残渣。另外将0.53g氯化铁(II)4水合物溶解在7ml甲醇中,通过过滤除去残渣后,将该溶液滴加到上述的偶氮化合物(II-2)的THF溶液中。其后,进一步滴加70ml甲醇,过滤析出的结晶,依次用THF、甲醇清洗,经干燥得到1.12g得到以下述结构式表示的目的化合物(配位体(II-2)的铁(2价)色素添加剂:(II-2)2(Fe2+)色素添加剂)。

偶氮化合物(II-2)

(II-2)2(Fe2+)色素添加剂

得到的(II-2)2(Fe2+)色素添加剂在三氯甲烷中的极大吸收波长为741nm、克吸光系数为64。

〔合成例3:(I-A)2(Fe2+)色素添加剂的合成〕

将1.05g以下述结构式表示的偶氮化合物(I-A)溶解在30ml THF和30ml DMF(N,N-二甲基甲酰胺)的混合溶剂中,通过过滤除去残渣。另外将0.27g氯化铁(II)4水合物溶解在4ml甲醇中,通过过滤除去残渣后,将该溶液滴加到上述的偶氮化合物(I-A)的THF/DMF溶液中。其后,进一步滴加60ml水,过滤析出的结晶,依次用THF、水、甲醇清洗,经干燥得到0.38g以下述结构式表示的目的化合物(配位体(I-A)的铁(2价)色素添加剂:(I-A)2(Fe2+)色素添加剂)。

偶氮化合物(I-A)

(I-A)2(Fe2+)色素添加剂

得到的(I-A)2(Fe2+)色素添加剂在三氯甲烷中的极大吸收波长为564nm、克吸光系数为83。

〔合成例4:(II-2)2(Cu2+)色素添加剂的合成〕

将2.00g以下述结构式表示的偶氮化合物(II-2)溶解在30ml THF中,通过过滤除去残渣。另外,将0.49g氯化铜(II)溶解在5ml甲醇中,通过过滤除去残渣后,将该溶液滴加到上述的偶氮化合物(II-2)的THF溶液中。对析出的结晶进行过滤,用THF、水、甲醇依次清洗,经干燥得到1.90g以下述结构式表示的目的化合物(配位体(II-2)的铜(2价)色素添加剂:(II-2)2(Cu2+)色素添加剂)。

偶氮化合物(II-2)

(II-2)2(Cu2+)色素添加剂

得到的(II-2)2(Cu2+)色素添加剂在三氯甲烷中的极大吸收波长为586nm、克吸光系数为117。

〔合成例5:(II-2)2(Co2+)色素添加剂的合成〕

将2.00g上述的偶氮化合物(II-2)溶解在26ml THF中,通过过滤除去残渣。另外将0.67g醋酸钴(II)4水合物溶解在7ml甲醇中,通过过滤除去残渣后,将该溶液滴加到上述的偶氮溶液中。进一步滴加20ml甲醇,对析出的结晶进行过滤,用甲醇进行清洗,经干燥得到1.88g以下述结构式表示的目的化合物(配位体(II-2)的钴(2价)色素添加剂:(II-2)2(Co2+)色素添加剂)。

(II-2)2(Co2+)色素添加剂

得到的(II-2)2(Co2+)色素添加剂在三氯甲烷中的极大吸收波长为556nm、克吸光系数为80。

〔比较合成例1:(II-1)2(Ni2+)色素添加剂的合成〕

将5.58g上述的偶氮化合物(II-1)溶解在610ml THF中,通过过滤除去残渣。另外将1.98g醋酸镍(II)4水合物溶解在28ml甲醇中,通过过滤除去残渣后,将该溶液滴加到上述的偶氮化合物(II-1)的THF溶液中。其后,进一步滴加327ml水,过滤析出的结晶,依次用THF、水、甲醇清洗,经干燥得到5.29g以下述结构式表示的目的化合物(配位体(II-1)的镍(2价)色素添加剂:(II-1)2(Ni2+)色素添加剂)。

(II-1)2(Ni2+)色素

得到的(II-1)2(Ni2+)色素添加剂在三氯甲烷中的极大吸收波长为587nm、克吸光系数为139。

[实验组2:添加剂单膜的评价]

〔试样的制作〕

使用下述的表1~4所示的偶氮系金属螯合物色素添加剂(1)~(17)作为添加剂。

表1添加剂的结构1

表2添加剂的结构2

表3添加剂的结构3

表4添加剂的结构4

分别将20mg上述表1~4记载的添加剂(1)~(17)溶解在2gTFP(2,2,3,3,-四氟-1-丙醇)中,在45℃超声分散60分钟。放冷后,在可能的情况下,将所得到的分散液用0.2μm的过滤器进行过滤,然后在厚度0.6mm的镜面基板上以800rpm的转速旋涂3分钟,在80℃对其进行干燥,由此制作各添加剂的单膜试样。

〔吸光光谱的测定〕

将各添加剂单膜试样切成适当的小片,从基板侧照射试样光,以空气为参比,测定在波长400nm~800nm的区域的吸收光谱。测定中使用日立制作所生产的分光光度计U-3300,以波长扫描速度300nm/min、采样频率0.5nm的吸光度模式进行测定。

〔耐光性试验(色素保持率的测定)〕

将各添加剂单膜试样切成适当的小片,使用东洋精机生产的耐光性试验机SUNTEST XLS+,照射40小时Xe灯(550W/m2、黑面板温度63℃)。分别测定上述Xe灯照射前的极大吸收的吸光度I0、Xe灯照射后的极大吸收的吸光度I1,以通过(I1/I0)×100(%)计算出的值作为添加剂的色素保持率,将其作为耐光性的判断标准。该色素保持率的数值越大,表示耐光性越好。

〔结果和评价〕

通过上述过程得到的各添加剂(1)~(17)的单膜试样的极大吸收波长和色素保持率的结果见下述表5和表6。

表5添加剂单膜试样的结果1

*()内表示以吸光度最大的吸收峰(即主吸收带)的吸光度为100时的相对强度

表6添加剂单膜试样的结果1

*()内表示以吸光度最大的吸收峰(即主吸收带)的吸光度为100时的相对强度

根据表5和表6可知,大多情况下,与中心金属离子是Ni2+的添加剂相比,中心金属离子是Co2+的添加剂的吸光度大的吸收带(有时称作主吸收带)位于长波长侧,并且,大多情况下中心金属离子是Fe2+的添加剂在680nm以上的长波长侧存在吸收带。

例如,对于具有配位体(I-1)的添加剂,比较其主吸收带波长,中心金属离子是Ni2+时(添加剂(1))为598nm,而中心金属离子是Co2+时(添加剂(3))为605nm。另外,中心金属离子是Fe2+时(添加剂(2)),主吸收带的波长短,为577.2nm,并且在波长727.5nm存在稍强的吸收带。

另外,据认为配位体(II-1)、(II-2)对没有螯合物化的状态的吸收的贡献是同等的,比较具有配位体(II-1)、(II-2)的添加剂可知,螯合物化后的中心金属离子为Ni2+时(添加剂(6)),主吸收带为波长607.5nm,螯合物化后的中心金属离子为Cu2+时(添加剂(9)),主吸收带为波长609nm。另外,中心金属离子为Co2+时(添加剂(8)),在波长571.8nm和波长607.8nm存在非常强的吸收带,并且在波长681.3nm也存在稍强的吸收。中心金属离子是Fe2+时(添加剂(7)),主吸收带存在于波长754.4nm的长波长区域,并且在远短于该区域的短波长侧的波长584.2nm也具有强的吸收带。

另外,图8(a)、图8(b)给出了表示各添加剂单膜的波长680nm以上的吸收带与主吸收带的强度比的曲线图。根据图8(a)、图8(b),对各中心金属离子进行比较,发现以一部分的偶氮色素化合物作为配位体时,具有Co2+和Fe2+时与具有Ni2+、Cu2+时不同,具有Co2+和Fe2+时存在波长680nm以上的吸收带。

另外,图11给出了按其中心金属离子表示表5的(1)~(13)的各添加剂的单膜的色素保持率的曲线图。由图11可知,如上所述,Ni2+、Cu2+、Co2+、Fe2+为中心金属离子时,添加剂本身的耐光性没有差别。

[实验组3(1):记录层的评价1]

〔记录层试样的制作〕

作为母体色素,使用以下述结构式表示的偶氮系金属螯合物色素(色素A),作为添加剂,使用上述表1~3所示的添加剂(1)~(13),按以下顺序制作记录层试样。

色素A

分别将20mg母体色素(色素A)与2mg各添加剂溶解于2g TFP中,在45℃超声分散60分钟。放冷后,在可能的情况下,将所得到的分散液用0.2μm的过滤器过滤后,在厚度0.6mm的镜面基板上,以800rpm的转速旋涂3分钟,在80℃使其干燥,由此制作含有母体色素和各添加剂的记录层试样(后述的表7中的比较例1、2和实施例1~11)。

另外,作为对照用试样,不添加添加剂,除此以外,通过与上述相同的过程,制作仅由母体色素形成的单膜的试样(后述的表7中的对照例1)。

〔吸光光谱的测定和b/a值的计算〕

对于得到的记录层试样和对照用试样,通过与上述[实验组2]相同的方法,测定在波长400nm~800nm的区域的吸收光谱。从所得到的吸收光谱,根据上述使用图7说明的方法计算出b/a值。

〔耐光性试验(色素保持率的测定)〕

对于各记录层试样和对照用试样,通过与上述[实验组2]相同的方法,进行作为耐光性标准的色素保持率的测定。

〔结果和评价〕

将通过上述过程得到的各记录层试样的b/a值和色素保持率的结果示于下述表7。

表7记录层试样的评价1(母体色素A)

*未发现极大吸收,整体上吸收变高。

**表示为图7的(a)或(b)的任一情况。

另外,在图5(a)、图5(b)中给出了说明添加剂的中心金属离子对各记录层试样的耐光性(色素保持率)的效果的差别的曲线图。

根据表7和图5(a)、图5(b)可知,无论添加剂的配位体的种类如何,与中心金属离子是Ni2+时相比,中心金属离子是Cu2+、Co2+或者Fe2+时,可得到更大的提高耐光性的效果。进而,相对于不添加添加剂而仅为母体色素(色素A)时的色素保持率为0%,添加添加剂时色素保持率变大,添加中心金属离子为Co2+的添加剂时,色素保持率为25%~50%,添加中心金属离子为Fe2+的添加剂时,色素保持率为45%~50%,耐光性提高很多。由该结果可知,中心金属离子为Cu2+、Co2+或者Fe2+的上述的添加剂(本发明的添加剂)对于以往不易得到耐光性的效果的偶氮系金属螯合物色素即色素A也可发挥优异地提高耐光性的效果。

[实验组3(2):记录层的评价2]

〔试样的制作〕

作为母体色素,使用以下述结构式表示的花青系金属络合物(色素B),作为添加剂,使用上述表1~3所示的添加剂(1)~(13),通过与上述[实验组3(1)]相同的过程,制作记录层试样(后述的表8中的比较例3、4和实施例12~22)。

色素B

另外,作为对照用试样,不添加添加剂,除此以外,通过与上述相同的过程制作仅由母体色素B形成的单膜的试样(后述的表8中的对照例2)。

〔b/a值的计算、色素保持率的测定、结果和评价〕

对于得到的记录层试样和对照用试样,通过与上述[实验组3(1)]相同的过程,进行吸收光谱的测定和b/a值的计算以及作为耐光性的指标的色素保持率的测定。所得到的结果见下述表8。

表8记录层试样的评价2(母体色素B)

*未发现极大吸收,整体上吸收变高。

**表示为图7的(a)或(b)任一情况。

另外,图6(a)、图6(b)给出了说明添加剂的中心金属离子对记录层的耐光性(色素保持率)的效果的差别的曲线图。

由表8和图6(a)、图6(b)可知,与如上述[实验组3(1)]所示的使用偶氮系金属螯合物色素作为母体色素的情况相比,使用花青系色素即色素B作为母体色素时,本发明的添加剂带来的效果非常高。但是,不同中心金属离子产生的效果的差别的趋势对于这两种母体色素是相同的。也就是说,通过含有至少以Cu2+、Fe2+、Co2+中的任意一个为中心金属离子的金属螯合物色素添加剂,上述记录层可得到大的提高耐光性的效果。

[对实验组3(1)和实验组3(2)的研究]

图4和图5(a)、图5(b)均是表示实验组3(1)和实验组3(2)中的记录层试样的色素保持率的曲线图。具体地说,图4中着眼于中心金属离子对不同的色素A、B的效果的差别,所以给出了使用具有配位体(I-1)的添加剂时的结果。另外,图5(a)、图5(b)中着眼于不同中心金属离子对色素A的效果的差别,所以分别在图5(a)中给出了使用具有配位体(I-1)、(I-2)的添加剂时的结果,在图5(b)中给出了使用具有配位体(II-1)、(II-2)的添加剂时的结果。

观察对难以得到耐光性效果的色素A的效果时,根据图4和图5(a)可知,对于配位体是(I-1)的偶氮系色素化合物,以Fe2+为中心金属离子的添加剂(添加剂(2))的效果极高,另外,由图5(b)可知,对于配位体为(II-1)、(II-2)的偶氮系色素化合物,以Co2+、Fe2+为中心金属离子的添加剂(添加剂(3)、添加剂(7))的效果极高。

另外,将表示实验组3(1)和实验组3(2)的记录层试样的b/a值与耐光性的关系的曲线图分别作为图9和图10。由图9和图10可知,如上所述,b/a值大于1时,稳定地提高了耐光性。

[实验组3(3):记录层的评价3]

〔试样的制作〕

作为母体色素,使用以下述结构式表示的蓝色激光记录用色素(色素C),作为添加剂,使用上述表2所示的添加剂(8)和上述表4所示的添加剂(14)~(17),通过与上述[实验组3(1)]相同的过程,制作记录层试样(后述的表9中的实施例23~27)。

色素C

另外,作为对照用试样,不添加添加剂,除此以外,通过与上述相同的过程,制作仅由母体色素C构成的单膜的试样(后述的表9中的对照例3)。

〔b/a值的计算、色素保持率的测定、结果和评价〕

对于得到的各记录层试样和对照用试样,通过与上述[实验组3(1)]相同的过程,进行吸收光谱的测定和b/a值的计算以及作为耐光性的指标的色素保持率的测定。所得到的结果见下述表9。

表9记录层试样的评价3(母体色素C)

  添加剂色素保持率(%)    b/a值编号配位体中心金属离子  实施例23  (8)    (II-2)    Co2+    90.7    *0  实施例24  (14)    (VII)    Fe2+    85.5    未测定  实施例25  (15)    (VIII)    Fe2+    74.1    未测定  实施例26  (16)    (IX)    Fe2+    83.1    未测定  实施例27  (17)    (X)    Fe2+    85.2    未测定  对照例3    63.2    0

*未发现极大吸收,整体上吸收变高。

由表9所示的结果可知,蓝色激光用色素即色素C的色素保持率比较好,为63.2%,虽然认为使用添加剂难以得到提高耐光性的效果,但加入本发明的以Fe2+、Co2+为中心金属离子的添加剂(8)和(14)~(17)时,色素保持率提高到70%~90%以上,可以得到明显的效果。其中特别是添加剂(8)[(II-2)2(Co2+)色素添加剂]、添加剂(14)[(VII)2(Fe2+)色素添加剂]、添加剂(16)[(IX)2(Fe2+)色素添加剂]和添加剂(17)[(X)2(Fe2+)色素添加剂]的效果优异。

[实验组3(4):记录层的评价4]

〔试样的制作〕

作为母体色素,使用以下述结构式表示的色素(色素D),作为添加剂,使用上述表2所示的添加剂(8)和上述表4所示的添加剂(14)~(17),通过与上述[实验组3(1)]相同的过程,制作记录层试样(后述的表10中的实施例28~32)。

母体色素D

另外,作为对照用试样,不添加添加剂,除此以外,通过与上述相同的过程,制作仅由母体色素D形成的单膜的试样(后述的表10中的对照例4)。

〔b/a值的计算、色素保持率的测定、结果和评价〕

对于得到的各记录层试样和对照用试样,通过与上述[实验组3(1)]相同的过程,进行吸收光谱的测定和b/a值的计算以及作为耐光性的指标的色素保持率的测定。所得到的结果见下述表10。

表10记录层试样的评价4(母体色素D)

    添加剂色素保持率(%)b/a值**()    编号    配位体    中心金属离子    实施例28    (8)    (II-2)    Co2+    91.5    *0    实施例29    (14)    (VII)    Fe2+    76.9    1.13(a)    实施例30    (15)    (VIII)    Fe2+    74.1    1.26(a)    实施例31    (16)    (IX)    Fe2+    83.8    1.17(a)    实施例32    (17)    (X)    Fe2+    89.9    1.29(a)    对照例4    未使用添加剂    0    0

*未发现极大吸收,整体上吸收变高。

**表示为图7的(a)或(b)任一情况。

由表10的结果可知,使用本发明的以Fe2+、Co2+为中心金属离子的添加剂(8)和(14)~(17)时,色素保持率提高到70%~90%以上,具有极好地提高耐光性的效果。其中特别是添加剂(8)[(II-2)2(Co2+)色素添加剂]、添加剂(16)[(IX)2(Fe2+)色素添加剂]和添加剂(17)[(X)2(Fe2+)色素添加剂]的效果优异。

此外,添加剂(8)和添加剂(17)的色素单膜的吸收光谱分别见图12(a)、图12(b)。吸收光谱中均发现了作为通常的记录层的偶氮系金属螯合物色素通常未发现的吸收带的极宽的重叠。

[实验组4:光记录介质的评价]

〔光记录介质的制作〕

使用35重量%的上述[实验组3(4)]记载的色素D(母体色素)以及60重量%的上述[实验组2]的表1的色素(1),并且以5重量%的比例使用上述[实验组2]的表1的色素(2)作为添加剂。将这些色素D、色素(1)以及色素(2)溶解到TFP中,使其总浓度为1.3重量%,制作记录层形成用的涂布液。

利用旋涂法(转速1000rpm~6000rpm),在具有轨道间距0.74μm、槽宽320nm、槽深度60nm的导向槽的厚度为0.6mm的支持基板上将得到的涂布液成膜,并控制膜的厚度以使膜的吸光度(以空气为参比进行测定的在波长598nm的吸光度)为0.65,从而设置记录层。所得到的记录层的槽部膜厚为50nm。

接下来,通过溅射法在该记录层之上堆积银,从而设置厚度120nm的银反射膜。进一步涂布日本化药(株)生产的KAYARAD SPC-920,使其厚度为10μm,形成保护层。

准备2片通过上述过程制作的层积体,使用UV固化型粘结剂(索尼化学生产的SK7100),以基板为外侧进行贴合,由此制作光盘(光记录介质)。

〔记录试验〕

使用波长650nm、数值孔径0.65的记录再生装置,基于以DVD-RSpecification for General Ver.2.1、DVD+R Specification Ver.1.20为基准的记录脉冲策略条件,以记录速度28.0m/s(DVD-R的8倍速),对得到的光盘进行最短标记长为0.4μm的EFM-plus调制的随机信号记录。然后,使用相同的评价机在对进行了记录的部分的信号再生时,得到了良好的再生信号。

〔耐光性试验〕

另外,使用东洋精机生产的耐光性试验机SUNTEST XLS+,对得到的光盘照射40小时Xe灯(550W/m2、黑面板温度63℃)(相当Wool scale5级)后,使用上述的评价机进行上述记录部分的信号的再生时,得到了良好的再生信号,所以耐光性得到了改善。

[比较实验组1]

如上述的[实验组3(1)],其中,使用以往已知作为单重态氧猝灭剂的以下述结构式表示的化合物(Q1)~(Q5)代替上述表1~3记载的添加剂(1)~(13),除此以外,以与[实验组3(1)]相同的过程制作记录层试样,进行耐光性试验(色素保持率的测定)(后述的表11的比较例5~9)。

所得到的结果见下述的表11。由表11可知,使用任何的单重态氧猝灭剂(Q1)~(Q5)的情况下,不能得到良好的结果。

表11记录层试样的评价5(母体色素A)

单重态氧淬灭剂400nm~800nm的范围的极大吸收波长(氯仿中)*    色素保持率(%)  比较例5(Q1)400(100)    11.9  比较例6(Q2)800(吸收肩)    11.2  比较例7(Q3)600~700(低吸收带)400nm(吸收肩),800(吸收肩)    0  比较例8(Q4)未测定    0  比较例9(Q5)未测定    0  对照例1未添加-    0

*()内表示以吸光度最大的吸收峰的吸光度为100时的相对强度

[比较实验组2]

如上述[实验组3(2)],添加上述的化合物(Q4)(单重态氧猝灭剂)代替上述表1~3记载的添加剂(1)~(13),除此以外,以与[实验组3(2)]相同的过程,制作记录层试样,进行耐光性试验(色素保持率的测定)(比较例10)。

所得到的结果见表12。由表12可知,没有发现提高耐光性的效果。

表12记录层试样的评价6(母体色素B)

  单重态氧淬灭剂400nm~800nm的范围的极大吸收波长(氯仿中)  色素保持率(%)  比较例10  (Q4)未测定  0  对照例2  不添加-  0

产业上的可利用性

本发明可很好地利用于DVD±R等红色半导体激光用的光记录介质、蓝色半导体激光用的光记录介质等用途。

上面使用特定的方式详细说明了本发明,但是,本领域人员可知,可以不脱离本发明的意图和范围进行各种变化。

此外,本申请是基于2005年8月10日提出的日本特愿2005-231901号说明书的申请,此处以引用的方式引用其全部内容支持本说明书。

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