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磁阻效应元件的制造方法、磁头、磁记录再生装置、及磁性存储器

摘要

本发明提供一种能获得MR变化率高、并能期待与高记录密度对应的磁阻效应元件以及利用该元件的磁头、磁记录再生装置及磁性随机存取存储器。所述元件具有:固定磁化方向的第1磁性层;固定磁化方向的第2磁性层;设置于所述第1磁性层和所述第2磁性层之间的中间层;以及对包括所述第1磁性层、所述中间层、所述第2磁性层的层叠膜的膜面垂直地通电的电极,所述中间层具有绝缘体区域和包括Fe、Co、Ni、Cr中至少一种的金属区域,使所述金属区域与所述第1及第2磁性层接触由此制成磁阻效应元件。

著录项

  • 公开/公告号CN101174669A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2008-05-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社东芝;

    申请/专利号CN200710147403.9

  • 发明设计人 汤浅裕美;福泽英明;藤庆彦;

    申请日2007-09-07

  • 分类号H01L43/08;H01L27/22;G11B5/39;G11C11/15;

  • 代理机构上海市华诚律师事务所;

  • 代理人徐申民

  • 地址 日本国东京都港区芝浦一丁目1番1号

  • 入库时间 2023-12-17 20:02:40

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2010-02-24

    发明专利申请公布后的视为撤回

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2008-07-02

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-05-07

    公开

    公开

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