一种用于制备铜铟硒纳米薄膜材料的旋涂法

摘要

一种用于制备铜铟硒纳米薄膜材料的旋涂法，涉及一种制备铜铟硒纳米薄膜材料的工艺流程。本方法选择N，N－二甲基甲酰胺(DMF)为分散溶剂，优选参数为：旋浮液浓度0.6mmol/L；低/高阶段旋涂转速与时间分别是500rpm/9s，5000rpm/30s；退火温度与时间为100度2小时。旋涂法不需要高温高真空，对仪器要求低，薄膜的生产成本低，有利于实现大规模的应用化生产。