法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2012-02-01
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):G03F7/004 公开日:20080116 申请日:20060111
发明专利申请公布后的驳回
2008-03-05
实质审查的生效
实质审查的生效
2008-01-16
公开
公开
机译: 膜形成材料,用于光刻的膜形成组合物,用于光学成分形成的材料,抗蚀剂组合物,抗蚀剂图案形成方法,用于抗蚀剂的永久膜,辐射敏感组合物,用于制造非晶膜,膜的材料,基底膜用于光刻的底层膜形成,用于光刻的底层膜的制造方法以及电路图案形成方法
机译: 成膜材料,用于光刻的成膜组合物,光学部件形成材料,抗蚀剂组合物,抗蚀剂图案形成方法,用于抗蚀剂的永久膜,辐射敏感性组合物,非晶膜的制造方法,用于光刻的下层膜形成材料,用于光刻的下层成膜组合物,用于光刻的下层膜的制造方法和电路图案形成方法
机译: 图案形成材料,图案形成装置及永久图案形成方法