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沉积无裂缝、耐腐蚀和硬的铬层及铬合金层的方法

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摘要

本发明涉及在基底上由含铬电解质沉积功能性铬层的方法以及电解质组合物。根据本发明的电解质组合物包括磺基醋酸。能够以约20至约150A/dm

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2011-04-20

发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C25D3/10 公开日:20070620 申请日:20060413

发明专利申请公布后的视为撤回
2007-08-15

实质审查的生效

实质审查的生效
2007-06-20

公开

公开

1. 沉积无裂缝、耐腐蚀和硬的铬层及铬合金层的方法 [P] . 中国专利： CN1982507A . 2007-06-20
2. 铬或铬合金层的沉积方法和电镀装置 [P] . 中国专利： CN113166961A . 2021-07-23
3. Process for depositing crack-free, corrosion resistant and hard chromium and chromium alloy layers [P] . 欧洲知识产权局专利： EP1798313B1 . 2017-12-13

机译：沉积无裂纹，耐腐蚀的硬铬和铬合金层的方法
4. Process for depositing crack-free, corrosion resistant and hard chromium and chromium alloy layers [P] . 欧洲知识产权局专利： EP1798313A3 . 2008-06-18

机译：沉积无裂纹，耐腐蚀的硬铬和铬合金层的方法
5. Process for depositing crack-free, corrosion resistant and hard chromium and chromium alloy layers [P] . 欧洲知识产权局专利： EP1798313A2 . 2007-06-20

机译：沉积无裂纹，耐腐蚀的硬铬和铬合金层的方法