用于薄膜堆积的分子束源及控制分子束的量的方法

摘要

一种用于薄膜堆积的分子束源，其通过针形阀调节每小时排放的分子束的量，使之保持恒定而不用考虑坩锅内剩余的薄膜元件形成材料量的降低，其包括用于加热坩锅31和41内的薄膜元件形成材料“a”和“b”的加热器32和42，以及用于调节在坩锅31和41内生成的薄膜元件形成材料“a”和“b”分子的排放量的阀33和43。并且，它还包括控制装置，该装置通过关于分子束的量的反馈信息利用伺服电动机36和46调节阀33和43的开口度，该反馈信息利用检测向成膜表面排放的分子束的量的膜厚测量仪16和26获得；供应电力以将加热器32和42加热的加热电源；以及控制装置，该装置依据关于分子源的量的信息和关于阀开口度的信息调节供应至加热电源的电力。