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单晶氧化镁烧结体及其制造方法以及等离子体显示板用保护膜

摘要

本发明提供一种单晶氧化镁烧结体,其特征在于,其为氧化镁中的杂质总计在3质量%以下的单晶氧化镁烧结体,烧结体具有50%以上且不足90%的相对密度,并且含有粒径在200μm以上的颗粒。

著录项

  • 公开/公告号CN1964932A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2007-05-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 达泰豪化学工业株式会社;

    申请/专利号CN200580018097.8

  • 发明设计人 川岛裕贵;国重正明;山元香织;

    申请日2005-06-03

  • 分类号

  • 代理机构北京林达刘知识产权代理事务所;

  • 代理人刘新宇

  • 地址 日本兵库县

  • 入库时间 2023-12-17 18:37:50

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-01-11

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C04B35/04 公开日:20070516 申请日:20050603

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2007-07-11

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2007-05-16

    公开

    公开

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