激光感应热成像装置和使用其制造有机发光二极管的方法

摘要

一种激光感应热成像装置和使用该装置制造有机发光二极管的方法，它能在真空状态下进行激光感应热成像时减少或防止受主衬底和施主膜之间杂质或孔隙的出现。一种激光感应热成像装置，包括：包含用于接收成像层的受主衬底的衬底台，该成像层在受主衬底上形成；电磁体；具有永磁体的、设置和层叠在衬底台上的施主膜，且电磁体与施主膜的永磁体形成磁力；用于将激光发射到施主膜的激光振荡器；以及至少在其中设有衬底台的室。

说明书

相关申请的交叉引用

本发明要求享有2005年8月30日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请10-2005-0080339和10-2005-0080340以及2005年11月16日提交的申请10-2005-0109813的优先权，此处通过引用将这些文献的全部内容包含于本文之中。

技术领域

[0001]本发明涉及一种激光感应热成像装置和使用该装置制造有机发光二极管的方法，更具体地，涉及一种激光感应热成像装置和使用该装置制造有机发光二极管的方法，在其中，使用磁力来层叠受主衬底与施主膜。

背景技术

[0002]有机发光设备包括形成在第一和第二电极之间的发光层，当在电极之间施加电压时，该层将发出光。可以用激光感应热成像(LITI)工艺来制造有机发光设备。

[0003]在激光感应热成像方法中，激光被发射到包括基础衬底、光-热转换层(LTHC)和转移层(或成像层)的施主衬底，以在光-热转换层将通过基础衬底的激光转换为热，使得光-热转换层发生变形和膨胀。这样，邻近光-热转换层的转移层也发生变形和膨胀，从而被转移(或成像)到受主衬底上。

[0004]当进行激光感应热成像方法时，进行转移的室内通常变成真空状态。然而，在现有技术中，所存在的问题是：当在真空状态下进行激光-热转换时，由于施主衬底和受主衬底之间出现间隙(或缝隙)或杂质而使转移层没有得到很好的转移。因此，在激光感应热成像方法中，将施主和受主衬底进行层叠的方法很重要，并且，为解决孔隙或杂质的问题，已研究了各种方法。

[0005]图1的截面图示出了用于解决上述问题的现有技术的激光感应热成像装置10。根据图1，激光感应热成像装置10包括设置在室11内的衬底台(substrate stage)12和设置在室11的上部的激光发射装置13。衬底台12是用于依次在室11中设置受主衬底14和施主膜15的平台。

[0006]在施主膜15的转移层转移到受主衬底14以前，将受主衬底14和施主膜15彼此层叠在一起。在进行层叠时，室11通常未保持在真空状态，但使用真空泵P来吸收杂质。由于在进行层叠时室11不处于真空状态，因此，因室11内的氧、水份等的缘故，降低了所得的有机发光设备的可靠性或使用寿命。

[0007]另一方面，如果室11在层叠时保持真空状态，则难以绝对地防止在受主衬底14和施主膜15之间出现杂质1和间隙。

发明内容

[0008]因此，本发明的一个方面是提供一种激光感应热成像装置和使用该装置制造有机发光二极管的方法，它能在真空状态下进行激光感应热成像时防止在受主衬底和施主膜之间产生杂质或孔隙。

[0009]在一个实施例中，通过提供一种激光感应热成像施主膜，实现了本发明的前述和/或其他方面，该膜包括：设置在基础衬底和成像层之间的光-热转换层，其中，在激光感应热成像施主膜中形成了永磁体。

[0010]根据本发明的另一方面，提供了一种激光感应热成像装置，该装置包括：适于接收受主衬底(用于接收成像层)的衬底台，该衬底台具有电磁体，并适于接收具有成像层和永磁体的施主膜，该电磁体用于与施主膜的永磁体形成磁力；用于向施主膜发射激光的激光振荡器；以及适于至少容纳上述衬底台的室。

[0011]根据本发明的另一方面，提供了一种用于把激光发射到具有成像层的施主膜来将成像层转移到受主衬底的激光感应热成像方法，该方法包括：将受主衬底设置在具有至少一个电磁体的衬底台上；将具有永磁体的激光感应热成像施主膜设置在受主衬底上；向衬底台的电磁体供电，以便将施主膜与受主衬底层叠；以及发射激光到施主膜来将成像层转移到受主衬底。

[0012]根据本发明的另一方面，提供了一种通过激光感应热成像方法来制造具有在第一电极和第二电极之间形成的发光层的有机发光二极管的方法，该方法包括：将具有像素区的受主衬底设置在具有至少一个电磁体的衬底台上；将具有永磁体和发光层的施主膜设置在受主衬底上；向衬底台的电磁体供电，以便将施主膜与受主衬底层叠；以及发射激光到施主膜来将有机发光层转移到受主衬底的像素区。

[0013]根据本发明的另一方面，提供了一种激光感应热成像施主膜，该膜包括：设置在基础衬底和成像层之间的光-热转换层，其中，在激光感应热成像施主膜中形成了第一电磁体。

[0014]根据本发明的另一方面，提供了一种激光感应热成像装置，该装置包括：适于接收受主衬底(用于接收成像层)的衬底台，该衬底台具有第二电磁体，并适于接收具有成像层和第一电磁体的施主膜，第二电磁体用于与施主膜中的第一电磁体形成电磁力；用于将激光发射到施主膜的激光振荡器；以及适于至少容纳衬底台的室。

[0015]根据本发明的另一方面，提供了一种用于把激光发射到具有成像层的施主膜来将成像层转移到受主衬底的激光感应热成像方法，该方法包括：将受主衬底设置在具有至少一个第二电磁体的衬底台上；将具有至少一个第一电磁体的激光感应热成像施主膜设置在受主衬底上；向施主膜的第一电磁体和衬底台的第二电磁体供电，以便将施主膜与受主衬底层叠；以及将激光发射到施主膜，以便将成像层转移到受主衬底。

[0016]根据本发明的另一方面，提供了一种通过激光感应热成像方法来制造具有在第一电极和第二电极之间形成的发射层的有机发光二极管的方法，该方法包括：将具有像素区的受主衬底设置在具有至少一个第二电磁体的衬底台上；将具有第一电磁体和发光层的施主膜设置在受主衬底上；向施主膜的第一电磁体和衬底台的第二电磁体供电，以便将施主膜与受主衬底层叠；以及将激光到施主膜，以便将有机发光层转移到受主衬底的像素区。

[0017]根据本发明的另一方面，提供了一种激光感应热成像装置，该装置包括：适于接收受主衬底(用于接收成像层)的衬底台，该衬底台具有永磁体，并适于接收具有成像层和电磁体的施主膜，永磁体用于与施主膜中的电磁体形成电磁力；用于将激光发射到施主膜的激光振荡器；以及适于至少容纳衬底台的室。

[0018]根据本发明的另一方面，提供了一种用于把激光发射到具有成像层的施主膜来将成像层转移到受主衬底的激光感应热成像方法，该方法包括：将受主衬底设置在具有至少一个永磁体的衬底台上；将具有电磁体的激光感应热成像施主膜设置在受主衬底上；向施主膜的电磁体供电，以便将施主膜与受主衬底层叠；以及将激光发射到施主膜，以便将成像层转移到受主衬底。

[0019]根据本发明的另一方面，提供了一种使用激光感应热成像方法制造具有在第一电极和第二电极之间形成的发射层的有机发光二极管的方法，该方法包括：将具有像素区域的受主衬底设置在具有至少一个永磁体的衬底台上；将具有电磁体和发光层的施主膜设置在受主衬底上；向施主膜的电磁体供电，以便将施主膜与受主衬底层叠；以及将激光发射到施主膜，以便将有机发光层转移到受主衬底的像素区域。

[0020]根据本发明的另一方面，提供了一种激光感应热成像装置，该装置包括：适于接收受主衬底(用于接收成像层)的衬底台，该衬底台包括第二永磁体，并适于接收具有成像层和第一永磁体的施主膜，第二永磁体用于与施主膜的第一永磁体形成电磁力；用于将激光发射到施主膜的激光振荡器；以及适于至少容纳衬底台的室。

[0021]根据本发明的另一方面，提供了一种用于把激光发射到具有成像层的施主膜来将成像层转移到受主衬底的激光感应热成像方法，该方法包括：将受主衬底设置在具有至少一个第二永磁体的衬底台上；将具有第一永磁体的激光感应热成像施主膜设置在受主衬底上；通过施主膜的第一永磁体与衬底台的第二永磁体形成的电磁力来层叠受主衬底；以及将激光发射到施主膜，以便将成像层转移到受主衬底。

附图说明

[0022]通过阅读结合附图的以下具体实施例描述，可以更为清楚和容易地理解本发明的上述和其他方面、特征：

[0023]图1的局部截面图示出了传统的激光感应热成像装置；

[0024]图2A至2D的截面图示出了根据本发明的一个方面的激光感应热成像施主膜；

[0025]图3的截面图示出了根据本发明的另一方面的激光感应热成像装置的结构；

[0026]图4A至4B的平面图示出了根据本发明的一个实施例的衬底台；

[0027]图5的示意图示出了根据本发明的一个实施例的激光感应热成像装置的激光振荡器；

[0028]图6A至6H的截面图示出了根据本发明的另一实施例的制造有机发光二极管的方法；

[0029]图7的截面图示出了根据本发明的另一实施例的激光感应热成像装置的结构；

[0030]图8的截面图示出了根据本发明的另一实施例的激光感应热成像装置的结构；

[0031]图9的截面图示出了根据本发明的另一实施例的激光感应热成像装置的结构。

具体实施例

[0032]在下文中，将结合附图对根据本发明的实施例进行详细描述。在本申请中，当一个部件被描述为与另一部件连接时，该部件可以是直接与另一部件连接，或是经过第三部件间接地与另一部件连接。为清楚起见，将省略对理解本发明而言不必要的部分。另外，各幅图中类似的附图标记表示类似的部件。

[0033]图2A至2D的截面图示出了根据本发明的一个方面的激光感应热成像施主膜。

[0034]首先，将描述根据本发明的一个方面的具有永磁体的激光感应热成像施主膜。该施主膜具有将被转移到受主衬底的成像层。该施主膜包括基础衬底、光-热转换层(即将光变为热的转换层)和转移层(或成像层)，它们是依次层叠的。为提高性能，可以在光-热转换层和成像层之间进一步形成缓冲层和/或中间层。

[0035]此处，激光感应热成像施主膜可包括永磁体。在这种情况下，可以在施主膜的多个层之间形成至少一个永磁体层，或者，可以在所述多个层的至少一个层中引入由微粒(如纳米微粒)制成的永磁体。

[0036]图2A的截面图示出了根据本发明的一个实施例的激光感应热成像施主膜200。如图2A所示，施主膜200包括依次层叠在基础衬底210上的光-热转换层(或将激光变为热的转换层)220、永磁体层230、缓冲层240、中间层250和成像层(或转移层)260。

[0037]基础衬底210是用于支撑施主膜的衬底。在一个实施例中，基础衬底210由透明的高分子材料形成，其厚度为10至500μm。可使用诸如聚乙烯，聚酯，聚丙烯，聚环氧化物，或聚苯乙烯等透明高分子材料，但不限于这些材料。

[0038]光-热转换层220由光吸收材料形成，该材料吸收激光束并将其转换成热。可根据所使用的光吸收材料和形成方法来改变光-热转换层220的厚度。当用金属或金属氧化物形成光-热转换层220时，可以使用真空沉积、电子束沉积或喷镀来形成该层，使其具有100至5000(或0.01至0.5μm)的厚度。当用有机薄膜形成光-热转换层220时，可使用挤压、凹版印刷、旋涂、刀涂布等方法来形成该层，使其具有0.1至2μm的厚度。

[0039]当光-热转换层220的厚度小于上述范围时，由于能量吸收率较低，因而经过光-热转换得来的能量较少，由此降低了膨胀压力。当光-热转换层220的厚度大于上述范围时，由于施主膜和受主衬底之间的偏差，将产生边缘开口缺陷。

[0040]铝、银、铬、钨、锡、镍、钛、钴、锌、金、铜、钼、铅中的一种或多种金属以及它们的氧化物可用作由金属或金属氧化物形成的光吸收材料，它们具有0.1至0.4的光密度。

[0041]另外，可将碳黑、石墨、或具有红外染料的高分子材料用作由有机薄膜形成的光吸收材料。另外，可将(间)丙烯酸酯低聚物，如丙烯酰基(间)丙烯酸酯低聚物、酯(间)丙烯酸酯低聚物、环氧(间)丙烯酸酯低聚物、氨基甲酸酯(间)丙烯酸酯低聚物以及这些低聚物与(间)丙烯酸酯单体的混合物用作高分子粘合树脂的构成材料，但不限于这些材料。

[0042]插入永磁体层230，以使其与安装在激光感应热成像装置的衬底台上的电磁体形成磁力。可以将铝镍钴磁体、铁氧体磁铁、稀土磁体、橡胶磁体或塑料磁体用作永磁体230，但不限于这些材料。

[0043]缓冲层240用于提高成像层的转移性能和延长转移后的设备的使用寿命。可以将金属氧化物、金属硫化物或非金属无机化合物、高或低分子有机材料用作缓冲层240。在一个实施例中，缓冲层具有0.01至2μm的厚度。

[0044]中间层250用于保护光-热转换层。在一个实施例中，中间层250具有高热阻。中间层250可以由有机或无机膜构成。

[0045]成像层260与施主膜分离，并被转移到受主衬底。当用成像层260制造有机发光二极管来形成发光层时，可以用高或低分子有机发光材料来形成成像层。为形成电子传送层(ETL)、电子注入层(EIL)、空穴传送层(HTL)和空穴注入层(HIL)，成像层260可以由本领域技术人员公知的任何合适材料形成。此处，对未限制成像层260的材料。本领域技术人员公知的材料都是允许的。可以用挤压、凹版印刷、旋涂、刀涂布、真空沉积或CVD等方法来形成成像层260。

[0046]如上所述，通过将永磁体层230插入施主膜200，使施主膜200具有磁性。因此，当施主膜200设置在受主衬底上或其上方时，它与具有电磁体的激光感应热成像装置的衬底台一起形成了磁的相互吸引。结果，通过使用磁力，使施主膜与受主衬底彼此紧密吸附在一起。

[0047]图2B的截面图示出了根据本发明的另一实施例的激光感应热成像施主膜300。与在光-热转换层220和缓冲层240之间形成的永磁体层230不同，永磁体层320在光-热转换层330和基础衬底310之间形成。除此之外，图2B所示的激光感应热成像施主膜300与图2A所示的施主膜基本相同，它包括缓冲层340、中间层350和成像层360。因此，省略了对它的详细描述。

[0048]图2C的截面图示出了根据本发明的另一实施例的激光感应热成像施主膜400。在图2A和2B中，一个层形成了永磁体。与此相反，此处永磁体以微粒的形式散布在基础衬底410中。

[0049]也就是说，使用微粒在构成基础衬底410的透明的高分子材料中形成永磁体，以具有散布在施主膜400中的磁性。此处，可以用纳米微粒形成永磁体。施主膜400包括光-热转换层420、缓冲层430、中间层440和成像层450。

[0050]图2D的截面图示出了根据本发明的另一实施例的激光感应热成像施主膜500。与图2C中散布在基础衬底410中的永磁体微粒不同，在图2D中，永磁体微粒散布在缓冲层530中。因此，本领域技术人员应当懂得，图2D的施主膜500具有与图2C的施主膜基本相同的效果(如，磁性)。施主膜500包括基础衬底510、设置或形成于该基础衬底上的光-热转换层520、缓冲层530、中间层540和成像层550。

[0051]接下来，将结合附图描述根据本发明底另一方面的激光感应热成像装置。激光感应热成像装置是使用前述的激光感应热成像施主膜的装置。然而，激光感应热成像施主膜不限于这些用途。

[0052]图3的截面图示出了根据本发明的另一方面的激光感应热成像装置600的结构。如图3所示，激光感应热成像装置600包括室610、衬底台620和激光振荡器630。

[0053]可将用于典型的激光感应热成像装置的室用作室610。传送机构(或进给或输送机构)如机械手(如图6A所示)安装在室610外部，并传送具有永磁体(未在图3中示出)的施主膜和受主衬底(未在图3中示出)。

[0054]衬底台620设置在室610的下表面或其附近，且至少一个电磁体625安装在衬底台620上。可以由较大的平面磁体或多个磁体来形成电磁体625。此处对电磁体层625的排列模式没有限制。在一个实施例中，用同心方式或多个横行与纵行的方式来形成电磁体，以进行上述层叠。

[0055]图4A和4B的平面图示出了在以同心方式或多个横行与纵行的方式在衬底台620中形成电磁体625所得的图案。尽管在图中未示出，但可以在各电磁体上形成线路和向它们供电。

[0056]回到图3，衬底台620还可包括用于移动衬底台的驱动机构(未示出)。例如，当沿纵向发射激光时，可以提供沿横向移动衬底台的驱动机构。

[0057]而且，衬底台620也可以包括分别用于将受主衬底和施主膜设置在衬底台上的受主衬底安装机构与施主膜安装机构。在所述的实施例中，受主衬底安装机构和施主膜安装机构将受主衬底传送(或输送或移动)到室中，以将其精确地安装到衬底台上的所希望的位置(如预定位置)。

[0058]在所述实施例中，安装机构包括通孔641和651，导杆643和653，移动板645和655，支撑件647和657，安装槽621和623。导杆643和653分别随移动板645和655以及支撑件647和657进行上升和下降。导杆643和653分别沿通孔641和651上升，并分别接纳受主衬底和施主膜。然后，导杆643和653下降，并将受主衬底和施主膜分别插入安装槽621和623。为精确地安装受主衬底和施主膜，在一个实施例中，将安装槽的壁表面倾斜。

[0059]激光振荡器630可安装在室610的外部或内部。激光振荡器630应安装为使得激光在室的上部出现。参考图5，它示出了激光振荡器的示意图，在所述实施例中，将CW DN:YAG激光器(1604nm)用作激光振荡器。激光振荡器包括两个检流计扫描器631和633、扫描透镜635和圆柱透镜636。然而，本发明不限于这种配置。

[0060]在下文中，将结合图6A至6H来说明根据本发明的另一方面而使用前述的施主膜和激光感应热成像装置将施主膜的成像层转移到受主衬底的激光感应热成像方法。制造有机发光二极管中所用的该实施例的激光感应热成像方法包括受主衬底移动步骤、施主膜移动步骤、层叠步骤和转移步骤。

[0061]在受主衬底传送(或输送)步骤中，将受主衬底670传送(或输送)到激光感应热成像装置的室610中的步骤。此处，可以通过机械手690(如图6A所示)的进给机构将受主衬底670传送到室610中。传送到室610中的受主衬底670由通过通孔641上升的导杆643(见图6B)进行支撑。然后，支撑受主衬底670的导杆642下降，以便将受主衬底670精确定位在衬底台620的安装槽621中(见图6C)。

[0062]如受主衬底传送步骤一样，在施主膜传送(或输送)步骤中，使用进给机构(如机械手690)将施主膜680移动到室610中(见图6D)。在所述实施例中，施主膜680安装在膜盘(film tray)681上，以移入室610。传送到室610中的施主膜680由通过通孔651上升的导杆653进行支撑(见图6E)。然后，支撑施主膜680的导杆653下降，以便将施主膜680精确定位在衬底台620的安装槽623中(见图6F)。

[0063]在层叠步骤中，向衬底台620的电磁体625施加适当功率，使包括在施主膜680中的永磁体与衬底台620的电磁体形成磁的相互吸引。这使得施主膜680与受主衬底670紧密地吸附在一起。此时，由于室610处于真空状态，因而减少或最小化了受主衬底670和施主膜680之间的杂质和孔隙(间隙或缝隙)的出现概率，从而增大了转移效率(见图6G)。

[0064]可根据包括在衬底台620中的电磁体的形状通过各种方法实现施主膜680和受主衬底670的层叠。例如，如图4A所示，当衬底台的电磁体以同心方式设置时，首先将功率施加给定义最内部的同心圆的第一电磁体。在这种情况下，将功率施加给定义最内部的同心圆之外的第二内部同心圆的第二电磁体。接下来，将功率施加给定义第二内部同心圆外部的同心圆的电磁体，结果，在减少或最小化受主衬底670与施主膜680之间的杂质或孔隙的出现概率的同时，实现了上述层叠。

[0065]而且，如图4B所示，当衬底台的多个电磁体以横行和纵行方式设置时，仅将功率施加给激光照射的电磁体或设置在相应线中的电磁体，使得本地层叠在激光照射的部分中持续进行。结果，在减少或最小化受主衬底670和施主膜680之间的杂质或孔隙的出现概率的同时，实现了上述层叠。

[0066]在转移步骤中，激光发射装置将激光发射到与受主衬底670层叠的施主膜680上，以便将在施主膜680上形成的有机发光层转移到受主衬底670的像素定义区(或像素区)。当被激光照射时，施主膜680的光-热转换层发生膨胀。因此，邻近的有机发光层在受主衬底的方向上发生膨胀，以便使有机发光层与受主衬底发生接触或吸附，结果便完成了转移(见图6H)。

[0067]图7的截面图示出了根据本发明的另一实施例的激光感应热成像装置。参考图7，激光感应热成像装置包括室710、衬底台720和激光振荡器730。

[0068]此处，衬底台720设有至少一个第二电磁体725。第二电磁体725可以由较大的平面磁体或多个磁体形成。此处对电磁体725或第二电磁体的排列方式没有限制。然而，在所述实施例中，电磁体725以同心方式或多个横行与纵行的方式形成，以执行上述层叠。

[0069]而且，具有第一电磁体782的施主膜780被设置在受主衬底770上。接下来，将合适的功率施加给第二电磁体725和施主膜780的第一电磁体782，以使得施主膜780的第一电磁体与衬底台的电磁体形成磁的相互吸引，结果，施主膜780与受主衬底770被彼此紧密吸附在一起。

[0070]如前所述，通过将第一电磁体782插入施主膜780来使施主膜780具有磁性。当第一电磁体782设置在受主衬底上或其上方时，它与具有第二电磁体725的激光感应热成像装置的衬底台720形成磁的相互吸引。结果，施主膜780与受主衬底770通过磁力而紧密地吸附在一起。

[0071]对图7中的部件和方法的详细描述与对图3和图6A-6H的描述基本相同，因此，为简明起见，在此处省略了这部分内容。

[0072]图8的截面图示出了根据本发明的另一实施例的激光感应热成像装置。参考图8，激光感应热成像装置包括室810、衬底台820和激光振荡器830。

[0073]此处，衬底台820设有至少一个永磁体825。永磁体825可以由较大的平面磁体或多个磁体形成。此处对永磁体825的排列方式没有限制。然而，在所述实施例中，以同心方式或多个横行和纵行的方式形成永磁体825，以执行上述层叠。

[0074]而且，具有电磁体882的施主膜880设置在受主衬底870上。接下来，将适当的功率施加给施主膜880的电磁体882，以使得施主膜880的电磁体与衬底台的永磁体825形成磁的相互吸引，从而使施主膜880与受主衬底870紧密地相互吸附在一起。

[0075]如前所述，通过将电磁体882插入施主膜880来使施主膜880具有磁性。当将电磁体882定设置在受主衬底上或其上方时，它与具有永磁体825的激光感应热成像装置的衬底台820形成磁的相互吸引。因此，施主膜880与受主衬底870通过磁力紧密地相互吸附在一起。

[0076]对图8的部件和方法的详细描述与图3和图6A-6H的基本相同，因而，为简明起见，省略了这部分内容。

[0077]图9的截面图示出了根据本发明的另一实施例的激光感应热成像装置。参考图9，激光感应热成像装置包括室910、衬底台920和激光振荡器930。

[0078]此处，衬底台920设有至少一个永磁体925。永磁体925可以由较大的平面磁体或多个磁体形成。此处对永磁体925的排列方式没有限制。然而，在所述实施例中，以同心方式或多个横行与纵行的方式来形成永磁体925，以执行上述层叠。

[0079]此外，将具有第一永磁体982的施主膜980设置在受主衬底970上。将第一永磁体982插入施主膜980，以便与安装在激光感应热成像装置的衬底台920处的永磁体925形成磁力。在所述实施例中，可以将铝镍钴磁体、铁氧体磁铁、稀土磁体、橡胶磁体或塑料磁体用作第一永磁体982。

[0080]如上所述，通过将第一永磁体982插入施主膜980，当第一永磁体982设置在受主衬底970上或其上方时，它与具有永磁体925的激光感应热成像装置的衬底台920形成磁的相互吸引。因此，施主膜980与受主衬底970通过磁力紧密地相互吸附在一起。

[0081]对图9中的部件和方法的详细描述与对图3和图6A-6H的描述基本相同，因此，为简明起见，省略了这部分内容。

[0082]尽管示出和描述了本发明的某些实施例，但本领域技术人员将理解，可以对这些实施例进行一些变更，而不至于背离本发明的原则和精神，且本发明的范围由权利要求及其等价物确定。例如，作为将永磁体包括在施主膜中的方法，可以进一步形成附加的有机层或无机层，且永磁体可设置在附加的有机层或无机层之间，或者，可改变具有电磁体的衬底板(或层)的形状，而不至于背离本发明的原则和精神。

[0083]根据本发明的激光感应热成像施主膜和激光感应热成像装置及其方法，允许将受主衬底和施主膜进行层叠，且在这两者之间基本上不出现杂质或孔隙。而且，由于受主衬底和施主膜之间的层叠是在真空状态下实现的，因而当前述的工艺需要真空状态时，所有的前述工艺均可在真空状态下进行。