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一种光读出非致冷红外成像阵列器件及其制作方法

摘要

本发明涉及一种光读出非致冷红外成像阵列器件及其制作方法,其特征在于:由硅衬底上一系列像素单元组成,每个像素单元的两个锚柱立于硅衬底上,支撑像素单元,两条绝热梁一端与锚柱相连接,另一端与“双材料梁-微镜一体化”结构相连接,像素单元与硅衬底之间的间隙构成了红外吸收共振腔;所述阵列器件的制作是首先首先在硅衬底上制作出锚柱,然后根据所选牺牲层腐蚀法用而选择是否生长保护层和选择哪种材料作保护层,然后沉积牺牲层材料和制作结构所需材料,制作出像素单元图形后,再腐蚀掉牺牲层材料,进行结构释放。通过BMB-MM结构既能实现红外敏感,又能调制和输出读出可见光信号,提高填充因子并具有较好的热-机械响应特性和噪声等效温差特性。

著录项

  • 公开/公告号CN1915796A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2007-02-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN200610030990.9

  • 发明设计人 杨广立;冯飞;熊斌;王跃林;

    申请日2006-09-08

  • 分类号B81B7/02;B81C1/00;

  • 代理机构上海智信专利代理有限公司;

  • 代理人潘振甦

  • 地址 200050 上海市长宁区长宁路865号

  • 入库时间 2023-12-17 18:16:49

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-07-16

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):B81B7/02 申请公布日:20070221 申请日:20060908

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2007-04-18

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2007-02-21

    公开

    公开

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