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制膜装置、制膜方法、图案化方法、光学装置的制造方法

摘要

提供一种能够提高微细图案的形成精度的制膜装置。具备:在基体(160)上喷出第一化学种的第一喷嘴(102a)、在基体(160)上喷出第二化学种的第二喷嘴(102b)、储存第一化学种的材料储藏室(101a)和发生反应活性物种的反应活性物种发生部(103a)、储存第二化学种的材料储藏室(101b)和发生反应活性物种的反应活性物种发生部(103b),其中,将第一喷嘴(102a)与第二喷嘴(102b)配置得使被喷出的第一化学种的流与第二化学种的流交叉。

著录项

  • 公开/公告号CN1912179A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2007-02-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 精工爱普生株式会社;

    申请/专利号CN200610110168.3

  • 发明设计人 宫泽贵士;

    申请日2006-08-04

  • 分类号C23C16/448;C23C16/52;

  • 代理机构中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人汪惠民

  • 地址 日本东京

  • 入库时间 2023-12-17 18:16:49

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2009-09-23

    发明专利申请公布后的视为撤回

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2007-04-11

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2007-02-14

    公开

    公开

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