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公开/公告号CN1886410A
专利类型发明专利
公开/公告日2006-12-27
原文格式PDF
申请/专利权人 JSR株式会社;
申请/专利号CN200480034903.6
发明设计人 西村功;山原登;田中正人;下川努;
申请日2004-10-14
分类号
代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;
代理人王健
地址 日本东京
入库时间 2023-12-17 18:08:16
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2009-04-22
发明专利申请公布后的视为撤回
2007-02-14
实质审查的生效
2006-12-27
公开
机译: 硅烷化合物,聚硅氧烷和放射线敏感性树脂组合物
机译: 硅烷化合物,聚硅氧烷和辐射敏感性树脂组合物
机译: 聚硅氧烷,其制造方法,含硅脂环族化合物和辐射敏感性树脂组合物
机译:含有Si-H和RSiO_(3/2)(T)单元的常规聚硅氧烷的异构聚(1-氢-1-三甲基甲硅烷氧基-四甲基三硅氧烷)和聚(1-二甲基甲硅烷氧基五甲基三硅氧烷)的合成及性能
机译:包含Si-H和RSiO3 / 2(T)单元的新型异构常规聚硅氧烷的合成和性能:聚(1-氢-1-三甲基甲硅烷氧基四甲基三硅氧烷)和聚(1-二甲基甲硅烷氧基五甲基三硅氧烷)
机译:2,2-二乙烯基-4,4,6,6-四甲基环三硅氧烷的开环聚合。通过将聚(2,2-二乙烯基-4,1,2-三(3',3',3'-三氟丙基-二甲基甲硅烷基乙基)-4,4,6,6-四甲基三硅氧烷]合成规则聚[2,2-双(3',3',3'-三氟丙基-二甲基甲硅烷基乙基)-4,4,6,6-四甲基三硅氧烷] 4,6,6-四甲基
机译:合成含氢聚硅氧烷与手性不饱和酰胺之间的氢化硅烷化的手性聚硅氧烷合成
机译:通过用于热固性材料的无环二烯复分解聚合(ADMET),合成和表征潜在的反应性低聚(氧乙烯)/碳硅烷和碳硅氧烷/碳硅烷共聚物。
机译:15-低聚亚硅烷基二价阴离子为含笼型硅氧烷二茂铁环戊二烯和亚锡环的低聚硅氧烷的基础材料
机译:通过硅烷化聚(二甲基硅氧烷)渗透药物化合物
机译:通过混合聚(碳硼烷 - 硅氧烷/硅烷 - 乙炔)和聚(硅氧烷/硅烷 - 乙炔)制成的热固性聚合物