用于补偿重力对用于保护掩模板免受污染的薄膜的影响的方法和设备

摘要

薄膜片(1)连接到框架(3)，基本平行于掩模板底板(5)，以便限定在支撑在底板(5)上的掩模板和薄膜片(1)之间具有空间(9)的包围。掩模(6)设置在该包围内的掩模板上。钻孔(11)设置在框架(3)在该包围中的侧壁内。用于调节空间(9)中的气压以补偿重力对薄膜片(1)的影响的机械装置(13)在外壳(17)之内包括活塞元件(15)，其在一端是封闭的，以便在外壳(17)的封闭端限定腔室(19)。钻孔(21)设置在外壳(17)在腔室(19)中的壁内，并且钻孔(11)和钻孔(21)之间的管路或管道(23)限定空间(9)和腔室(19)之间的气体路径。可移动的所述活塞元件(15)决定了在所述空间(9)内必需的气压，以补偿重力对所述薄膜片(1)的影响。通过例如在其上加砝码(25)来改变活塞元件(15)的质量可以实现微调。