采用气体扩散板通道设计的等离子体均匀度控制

摘要

本发明为等离子体制程室中用以分配气体的气体扩散板实例。该气体分配板包括一扩散板其具有一上游侧与一下游侧，及多个通过该扩散板上游侧与下游侧间的气体通道。该等气体通道包括中空阴极腔，其位于该下游侧，用以增强等离子体的游离。可由该扩散板中央往边缘逐步地增加该延伸至下游侧的气体通道的中空阴极腔的深度、直径、表面积及密度，以改善基板上该膜层的厚度与性质均一性。该由扩散板中央往边缘逐步增加的深度、直径、表面积及密度，可借由将扩散板弯曲朝向下游侧，接者将该下游侧的曲度磨平的方式来达成。该扩散板的弯曲也可以一热处理或一真空制程来达成。该由扩散板中央往边缘逐步增加的深度、直径、表面积及密度，也可借由电脑数字控制的磨制过程来达成。所示具有由扩散板中央往边缘逐步增加的中空阴极腔的深度、直径及表面积的该扩散板，可产生改良、均一的膜层厚度与膜层性质。