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垂直的纳米晶体管,用于其制造的方法和存储结构

摘要

本发明应该提出一种垂直的纳米晶体管,它良好地经受住机械负荷并且在其制造中不像迄今的已知现有技术那么昂贵。该任务根据本发明被这样解决,即垂直的纳米晶体管具有一个源极接触结构、一个漏极接触结构、一个栅极区域以及在源极接触结构和漏极接触结构之间的圆柱状的半导电性的沟道区域,其中圆柱状的沟道区域被嵌入一个柔韧的绝缘衬底中并且被由金属层在柔韧的绝缘衬底上以及在沟道区域的上部分中形成的栅极区域这样地包围,使得栅极区域和沟道区域的上部区段形成一种同轴结构,并且源极接触结构、半导电性的沟道区域和漏极接触结构被布置在垂直方向上,并且栅极区域具有对源极接触结构、对漏极接触结构以及对半导电性的沟道区域的电绝缘结构,以及柔韧的衬底的上侧和下侧都具有电绝缘结构。一种存储结构由多个这种垂直的纳米晶体管构成。对此还说明了用于制造的方法。

著录项

  • 公开/公告号CN1839481A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2006-09-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 哈恩-迈特纳研究所柏林有限公司;

    申请/专利号CN200480024009.0

  • 发明设计人 陈颉;罗尔夫·克嫩坎普;

    申请日2004-08-16

  • 分类号H01L29/786;H01L21/336;

  • 代理机构永新专利商标代理有限公司;

  • 代理人曾立

  • 地址 德国柏林

  • 入库时间 2023-12-17 17:42:34

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2009-05-06

    发明专利申请公布后的视为撤回

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2006-11-15

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2006-09-27

    公开

    公开

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