离子迁移膜系统中原料气污染物的去除

摘要

用于气体纯化的方法，包括(a)获得含有一种或多种选自挥发性金属羟基氧化物、挥发性金属氧化物和挥发性氢氧化硅的污染物的原料气流；(b)使原料气流与活性固体材料在保护床中接触，并使至少部分污染物与活性固体材料反应以在保护床中形成固体反应产物；和(c)从保护床中取出纯化气流。