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提高印刷法制备碳纳米管薄膜场致电子发射性能的方法

摘要

本发明提供一种提高印刷法制备的碳纳米管(CNT)薄膜阴极的场致电子发射性能的处理方法,通过二次热处理工艺与表面提拉工艺,除去CNT薄膜中所含的杂质,在CNT与衬底间形成良好的机械接触和电接触,并使表面CNT垂直于衬底表面,从而使CNT薄膜的场致电子发射性能得到显著改善,即使电子发射的阈值场强降低了2倍多,发射电流密度提高25~30倍左右,电子发射的点密度提高3个数量级以上且均匀性明显提高。

著录项

  • 公开/公告号CN1808670A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2006-07-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN200510111620.3

  • 发明设计人 冯涛;王曦;戴丽娟;蒋军;柳襄怀;

    申请日2005-12-16

  • 分类号H01J9/02(20060101);C01B31/02(20060101);

  • 代理机构31002 上海智信专利代理有限公司;

  • 代理人潘振甦

  • 地址 200050 上海市长宁区长宁路865号

  • 入库时间 2023-12-17 17:29:38

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2009-11-04

    发明专利申请公布后的视为撤回

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2006-09-20

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2006-07-26

    公开

    公开

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