首页> 中国专利> 在等离子体弧气炬的应用中不连续气体喷射流的产生

在等离子体弧气炬的应用中不连续气体喷射流的产生

摘要

本发明总的涉及用于等离子体气炬的喷嘴,这种喷嘴具有后部和前部,后部形成等离子体腔室的至少一部分,而前部包括第一端和第二端。第一端毗邻于后部,而第二端形成等离子体出口部分。一个或多个流体通路设置在前部内并从第一端延伸到第二端。各流体通路具有各通路出口部分,这些出口部分可提供围绕着从等离子体出口部分喷射出来的等离子体喷射流的一个或多个辅助流体不连续喷射流。本发明的特点是切割速度快,对厚的工件的穿透能力强,噪声低,弧的稳定性好,使用寿命长,所有这些都可提高用等离子体弧气炬加工工件的生产率。

著录项

  • 公开/公告号CN101176387B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-11-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 人工发热机有限公司;

    申请/专利号CN200680016220.7

  • 申请日2006-05-11

  • 分类号

  • 代理机构上海专利商标事务所有限公司;

  • 代理人朱立鸣

  • 地址 美国新罕布什尔州

  • 入库时间 2022-08-23 09:11:48

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-11-21

    授权

    授权

  • 2008-07-02

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-05-07

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号