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磁光记录介质和磁光记录装置

摘要

一种磁光记录介质,在形成在基板上的光学相位坑上形成磁光记录薄膜,可以使相位坑信号和形成在其上的记录膜信号两者再生;当把形成在基板上的相位坑的光学深度设为X(λ),把照射了偏振光方向的光束时的前述相位坑的调制度设为Y(%)时,其中,该偏振光方向为与前述磁光记录介质的轨道垂直的方向,满足以下条件:344X-8.12≥Y且Y≥286X-10.7,0.080≤X≤0.124且16≤Y≤30。这样,可以获得把MO信号和相位坑信号的抖动抑制为所期望的小于等于10%、且不发生裂纹、而重复记录特性也充分的磁光记录介质。

著录项

  • 公开/公告号CN1759443A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2006-04-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 富士通株式会社;

    申请/专利号CN03826136.7

  • 发明设计人 细川哲夫;

    申请日2003-03-12

  • 分类号G11B11/105;

  • 代理机构北京三友知识产权代理有限公司;

  • 代理人李辉

  • 地址 日本神奈川县

  • 入库时间 2023-12-17 17:08:02

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2010-03-10

    发明专利申请公布后的视为撤回

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2006-06-07

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2006-04-12

    公开

    公开

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