平面显示面板和具有该平面显示面板的平板显示器件

摘要

一种平面显示面板，其构造成可以防止因存在于平面显示面板上的段差而引起的基板的较低抗冲击性。该平面显示面板包括：基板；粘合在基板上的相对件，其具有比基板更小的表面积；设于基板和相对件之间的显示单元；将基板和相对件粘合在一起的粘合单元，其沿着显示单元的外侧设于基板和相对件之间；以及包括在基板的粘合单元的外侧上的缓冲件。

说明书

技术领域

本申请引用且结合了于2004年9月8日向韩国知识产权局提交且适时转让的申请No.10-2004-0071589，并根据美国法典第35条119款要求享有其全部权益。

本发明涉及一种平面显示面板和具有该平面显示面板的平板显示器件，更具体地涉及一种可以补偿因段差(step difference)而造成的基板的较低抗冲击性的平面显示面板，以及具有这种平面显示面板的平板显示器件。

背景技术

平板显示器件可在平面基板上显示图像，例如有液晶显示(LCD)器件、有机发光显示(OLED)器件或无机发光器件。

平板显示器件通常包括一对其边缘部分相互粘合的基板，以及具有多个端子并在外侧暴露的衬垫单元。平板显示器件的内部电路通过衬垫单元中的端子与外部电子器件相连，这些端子与挠性印制电路板(PCB)接合。

由于基板单元形成在两个基板中之一上，因此这两个基板的大小必须不同。因此，在平面显示面板上的与衬垫单元相对应的部分上存在有预定段差。

其上形成有衬垫单元的基板由支撑件如托架来支撑。当其上未形成有衬垫单元的基板也由支撑件来支撑时，由于在衬垫单元所处的另一基板上的部分上具有段差，因此在支撑件与该基板之间存在有预定的空间。

基板中的处于与该预定空间相对应的部分具有较低的抗外部冲击性。

基板中的其上形成有段差的部分以及其上形成有衬垫单元的部分也具有较低的抗外部冲击性。

发明内容

本发明提供了一种平板显示器件，其中可以防止因形成在平面显示面板上的段差而造成的基板的较低抗冲击性。

根据本发明的一个方面，提供了一种平面显示面板，其包括：基板；粘合在基板上的相对件，其具有比基板更小的表面积；设于基板和相对件之间的显示单元；将基板和相对件粘合在一起的粘合单元，其沿着显示单元的外侧设于基板和相对件之间；以及包括在基板粘合单元的外侧上的缓冲件。

根据本发明的一个方面，提供了一种平面显示面板，其包括：一对基板，它们的表面积不同，并且基板面对面地粘合在一起；设于基板之间的显示单元；将这一对基板粘合在一起的粘合单元，其设于显示单元的外侧上；以及平面化部件，其可将因基板的表面积差异所引起的段差中的至少一部分大致平面化，并且设置在粘合单元的外侧上。

根据本发明的一个方面，提供了一种平板显示器件，其包括：平面显示面板，其可显示预定的图像并且具有至少一处段差；支撑了该平面显示面板的支撑件；以及设于支撑件和平面显示面板的至少一处段差之间的缓冲件。

附图说明

通过参考下述详细描述并结合附图，可以更容易地清楚且更好地领悟本发明的更全面理解及其许多附属优点，在附图中采用相似的标号来表示相同或类似的零件，其中：

图1是用作根据本发明第一实施例的平板显示器件的OLED器件的分解透视图；

图2是图1所示OLED器件的面板的剖视图；

图3是沿图1中线I-I的剖视图；

图4是图2所示面板的平面图；

图5是图1所示OLED器件的一个示例的剖视图；

图6是图1所示OLED器件的另一示例的剖视图；

图7是根据本发明第二实施例的平面显示面板的剖视图；

图8是根据本发明第三实施例的平面显示面板的剖视图；和

图9是根据本发明第四实施例的平面显示面板的剖视图。

具体实施方式

下面将参考显示了本发明的示意性实施例的附图来更加全面地介绍本发明。

图1是用作根据本发明第一实施例的平板显示器件的OLED器件的分解透视图；图2是图1所示OLED器件的面板的剖视图；图3是沿图1中线I-I的剖视图；图4是图2所示面板的平面图；图5是图1所示OLED器件的一个示例的剖视图；而图6是图1所示OLED器件的另一示例的剖视图。

参见图1到4，有机发光显示(OLED)器件包括有机发光单元3(见图3、5和6)，其具有有机发光元件，还包括了将有机发光单元3密封在基板2上的相对件4。

基板可以是透射玻璃材料，例如丙烯、聚酰亚胺、聚碳酸酯、聚酯、聚酯薄膜或其它塑料材料。

用于显示预定图像的有机发光单元3形成在基板2上，并具有有机发光元件。

包括在有机发光单元3中的有机发光元件可形成为多种结构，也就是说，它可以是无源矩阵(PM)型有机发光元件(即简单矩阵型)，或者是包括有TFT层的有源矩阵型有机发光元件。

参见图5，在基板2上顺序地形成由二氧化硅制成的缓冲层21、预定形式的第一电极层31、有机层33以及第二电极层34。可在第一电极层31之间插入绝缘层32，并且第二电极层34可形成为具有与第一电极层31的图案相对应的图案。虽然在图5中未示出，然而其中可包括有与第一电极层31正交的附加绝缘层，其用于使第二电极层34形成图案。

有机层33可以是低分子量有机层或聚合物层。当有机层33是低分子量薄膜时，有机层33可以是空穴注入层(HIL)、空穴迁移层(HTL)、发射层(EML)、电子迁移层(ETL)、电子注入层(EIL)或者这些层的组合，并且可由铜酞菁(CuPc)、N，N’-二(萘-1-基)-N，N’-二苯基-联苯胺(NPB)或三(8-羟基喹啉)合铝(Alq3)制成。低分子量有机薄膜可采用蒸发方法来形成。

如果有机层33是聚合物有机薄膜，那么有机层33可以是HTL或EML。HTL可由聚2，4-乙二醇噻吩(PEDOT)形成，而EML可由聚对亚苯基亚乙烯基(PPV)、可溶PPV、氰基PPV或聚芴形成，并且可采用丝网印刷或喷墨印刷来形成。

第一电极层31用作阳极，而第二电极层34用作阴极。第一和第二电极层的极性当然可以反过来。

第一电极层31可用作透射电极或反射电极。当第一电极层31用作透射电极时，第一电极层31可由ITO、IZO、ZnO或In₂O₃形成。

当第一电极层31用作反射电极时，第一电极层31可由反射膜上的ITO、IZO、ZnO或In₂O₃形成，在这之前利用Ag、Mg、Al、Pt、Pd、Au、Ni、Nd、Ir、Cr或这些金属的化合物来形成该反射膜。

第二电极层34也可用作透射电极或反射电极。当第二电极层34用作透射电极时，在沉积了由具有低逸出功的金属如Li、Ca、LiF/Ca、LiF/Al、Al、Ag、Mg或这些金属的化合物所形成的材料层之后，可在该材料层上包括进来由与透明电极相同的材料如ITO、IZO、ZnO或In₂O₃形成的辅助电极层或总线电极线，使之与有机层33相面对，这是因为第二电极层34用作阴极。当第二电极层34用作反射电极时，第二电极层34可由完全地沉积Li、Ca、LiF/Ca、LiF/Al、Al、Ag、Mg或这些金属的化合物来形成。

图6是图1所示OLED器件的另一示例的剖视图，具体地说，它是AM型有机发光单元。有机发光单元3中的各个像素具有如图6所示的TFT结构，以及作为发光元件的有机发光元件。

本发明并不限于图6所示的TFT结构。下面将详细地介绍图6所示的AM型有机发光单元。

参见图6，在玻璃基板2上沉积了由二氧化硅形成的缓冲层21，而在缓冲层21上沉积了具有上述结构的TFT。

TFT包括顺序地形成在缓冲层21上的活性层22、栅极绝缘膜23和栅电极24。

活性层22由非晶体硅薄膜或多晶硅薄膜形成，但并不限于此。也可以使用有机半导体层。半导体活性层具有源极区域和漏极区域，它们均大量地掺杂有N型或P型掺杂剂。

在活性层22上沉积了由二氧化硅形成的栅极绝缘膜23，而在栅极绝缘膜23的预定区域上形成了栅电极24，其为由MoW或Al/Cu形成的导电膜。栅电极24与可将通/断信号施加给TFT的栅极线相连。其上形成有栅电极24的区域对应于活性层22的沟道区域。

在栅极绝缘膜23上形成有中间绝缘体25，并且分别形成有源电极26和漏电极27，以便通过接触孔分别与活性层22的源极区域和漏极区域接触。

在源电极26和漏电极27上形成有由二氧化硅形成的钝化膜28，在钝化膜28上形成有由丙烯或聚酰亚胺制成的平面化膜29。

虽然图中未示出，然而至少一个电容器与TFT相连。包括有TFT的电路并不限于图6所示的电路。

漏电极27与第一电极层31相连，其用作有机发光元件的阳极。第一电极层31形成在钝化膜28上，在钝化膜28上还形成了像素限定膜29，其为绝缘膜。在像素限定膜29中形成了预定开口之后，就形成了图6所示的有机发光元件。

通过按照电流来产生红光、绿光和蓝光，该有机发光元件就可以显示预定的图像信息，该有机发光元件包括可接受来自漏电极27的正功率的第一电极层31、可覆盖所有像素并且为像素提供负功率的第二电极层34，以及可发光并且设置在第一电极层31和第二电极层34之间的有机层33。

用于形成第一电极层31和第二电极层34的材料可以与用于形成PM有机发光单元的材料相同。

如上所述，形成在基板2上的有机发光单元3由相对件4所密封，如图3所示。该相对件4如同基板2一样由玻璃或塑料材料形成，并且也可由金属盖形成。

基板2和相对件4通过密封剂51粘合起来。密封剂51涂覆在有机发光单元3的外侧上的相对件4的边缘上，并且如图1到4所示，其上涂覆有密封剂51的相对件4粘合在基板2上。其上形成有密封剂51的部分形成了用于将基板2和相对件4粘合起来的粘合部分。

如图2到4所示，在基板2的至少一个边缘上沉积了衬垫单元61，其暴露在相对件4的外侧。在衬垫单元61上沉积了多个端子(未示出)，挠性PCB6与这些端子相连。

在本发明中，通过在存在有段差的部分上连接缓冲件7，就可以补偿这些部分处的基板2的较低抗冲击性。也就是说，如图2和3所示，在将支撑件8安装到面板1上以便与相对件4相面对时，通过将缓冲件7连接到挠性PCB6上，就填充了基板2与支撑件8之间的间隔，从而补偿了基板2的较低抗冲击性。

如图4所示，缓冲件7形成为覆盖了衬垫单元61的整个表面，缓冲件7的厚度可以大于相对件4和密封剂51的厚度之和。其目的是为了在将面板1安装到支撑件8上时使缓冲件7与支撑件8紧密接触。

缓冲件7可由任何材料制成，只要其在如图3所示地放置时可支撑基板2。缓冲件7可以为能够吸收冲击的材料如聚合物，但并不限于此，它也可以是硅或金属。

如图2所示，面板1的整个表面可通过缓冲件7来平面化。因此，图7所示的缓冲件7可连接到形成有段差的部分上，此外还连接到形成有衬垫单元61的部分上，如图1到4所示。

另外，如图8所示，缓冲件7可连接到与支撑件8相对应的部分上。

另外，缓冲件7可形成为如上述实施例所述的特定形状，然而本发明并不限于此，它可以由涂覆材料形成。

也就是说，如图9所示，如果密封了有机发光单元3的相对件4为薄膜形状，那么缓冲件7可通过电镀而涂覆在相对件4的边缘部分上。

本发明的实施例并不限于有机发光显示器件，而是可以应用于多种显示器件，例如LCD器件、无机发光显示器件以及电子发射显示器件。

由于消除了形成于平面显示面板中的段差，因此根据本发明的面板改善了面板的抗冲击性。

另外，面板在其粘合到支撑件如托架上时被可靠地支撑住。

虽然已经针对其示例性实施例来具体地显示和描述了本发明，然而本领域的普通技术人员可以理解，在不脱离由所附权利要求限定的本发明的精神和范围的前提下，可以对这里所介绍的形式和细节进行各种修改。