首页> 中国专利> 用于具有差分掺杂的金属基板的电子枪的氧化物阴极

用于具有差分掺杂的金属基板的电子枪的氧化物阴极

页面导航

摘要

此阴极的金属基板的厚度≤100μm，并包含多种还原剂，如Si或Al，以及：在顶面111上，包含0.005％

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2011-09-21

未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01J1/142 授权公告日:20081126 终止日期:20100721 申请日:20030721

专利权的终止
2008-11-26

授权

授权
2005-11-16

实质审查的生效

实质审查的生效
2005-09-14

公开

公开

1. 用于具有差分掺杂的金属基板的电子枪的氧化物阴极 [P] . 中国专利： CN100437874C . 2008.11.26
2. 用于具有差分掺杂的金属基板的电子枪的氧化物阴极 [P] . 中国专利： CN1669104A . 2005-09-14
3. Oxide cathode for electron gun with a differentially doped metallic substrate [P] . 美国专利： US7208864B2 . 2007-04-24

机译：用于电子枪的氧化物阴极，具有差分掺杂的金属基材
4. Oxide cathode for electron gun with a differentially doped metallic substrate [P] . 美国专利： US2006158086A1 . 2006-07-20

机译：用于电子枪的氧化物阴极，具有差分掺杂的金属基材
5. Oxide cathode for electron gun with a differentially doped metallic substrate [P] . 欧洲知识产权局专利： EP1385190A1 . 2004-01-28

机译：用于电子枪的氧化物阴极，具有差分掺杂的金属基材