首页> 中国专利> 用于增强对痕量物质进行光谱测量的光纤谐振器中的瞬逝场暴露的方法和装置

用于增强对痕量物质进行光谱测量的光纤谐振器中的瞬逝场暴露的方法和装置

摘要

本发明提出了一种用于检测和测量气体或液体样品中的痕量物质的装置。由光纤形成的环降单元的传感器被暴露于该样品气体或液体。相干源发射辐射到光纤环中,该辐射又在输出耦合器处被接收。光纤环被耦合到传感器,该传感器使其一部分在输入端和输出端之间暴露于样品气体或样品液体。该传感器具有增强的瞬逝区域。处理器被耦合到接收器,并基于光纤环内的辐射的衰减速率确定气体或液体样品中的痕量物质的水平。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-12-14

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G01J3/42 授权公告日:20101208 终止日期:20171230 申请日:20021230

    专利权的终止

  • 2010-12-08

    授权

    授权

  • 2005-08-17

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-06-15

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号