包含添加剂用于深UV辐射的光刻胶组合物

摘要

本发明涉及对深紫外中的辐射敏感的光刻胶组合物，特别是在100－200纳米(nm)范围中敏感的正性光刻胶组合物。光刻胶组合物包括a)不溶于碱性水溶液和包括至少一个酸不稳定基团的聚合物，和此外其中聚合物基本是非酚类的；b)在辐射时能够产生酸的化合物；和c)降低电子和离子对光刻胶图像影响的添加剂。